在第一個(gè)例子中,使用高NA物鏡檢查非對(duì)稱微結(jié)構(gòu)晶片,而在第二個(gè)例子中我們使用不同形狀的測(cè)試表面顯示了來(lái)自經(jīng)典斐索干涉儀的輻照度圖案。用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測(cè)的光學(xué)系統(tǒng)該用例顯示了高NA晶片檢測(cè)系統(tǒng)的快速物理光學(xué)模擬,該系統(tǒng)通常用于半導(dǎo)體工業(yè)中檢測(cè)晶片上的缺陷。光學(xué)檢測(cè)用的斐索干涉儀借助非連續(xù)場(chǎng)追跡技術(shù)建立了斐索干涉儀,并顯示了來(lái)自幾個(gè)不同測(cè)試表面的干涉條紋。