高數值孔徑光學仿真
關注創建者：匿名 創建時間：2026-01-05
高數值孔徑光學仿真的實例教程
歐洲研究機構imec正在詳細介紹首個0.55高數值孔徑（NA）極紫外（EUV）光刻工具的開發。
這些內容是在2022 SPIE 高級光刻和圖案化會議上進行的，來自 imec 和荷蘭設備制造商 ASML 運營的聯合高 NA 實驗室。
雖然傳統 NA 已使 3nm 生產超越 2nm 制造工藝技術，但需要轉向高 NA 設備。這反過來將需要在屏蔽抗蝕劑和底層材料、光掩模技術和計量方面取得進步。
過去五年來，兩家公司一直在技術上合作：ASML、imec 將 EUV 光刻技術提升到高數值孔徑?！癷mec 正在與 ASML 合作開發高NA 技術，因為 ASML 正在構建其第一臺原型 0.55NAEUV 光刻掃描儀 EXE:5000，”imec 首席執行官 Luc Van den Hove 說。
“與目前的 0.33NA EUV 光刻相比，高 NA EUV 光刻預計將打印超過 2nm 邏輯芯片所需的最關鍵特征，并且圖案化步驟更少。我們的職責是與全球圖案化生態系統緊密合作，確保及時提供先進的抗蝕材料、光掩模、計量技術、成像策略和圖案化技術——充分受益于高NA EUV光刻機提供的分辨率增益?！彼f。
高數值孔徑 EUV papers
imec 為今年的 SPIE 高級光刻會議撰寫或共同撰寫了 12 篇論文。
展開 高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。
摘要
?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統進行模擬。
?樣品系統預設為包含高數值孔徑物鏡。
概覽
如何計算包含矢量效應的焦點的強度分布？
如何進行整個系統的光線追跡分析？
沿x方向線偏振
光斑直徑： 3mm
波長 2.08 nm
入射平面波
展開 高數值孔徑物鏡的聚焦分析
高NA(數值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻，并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知，在高數值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時，焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。
摘要 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。
2. 建模任務
3. 概述
? 示例系統包含了高數值孔徑物鏡? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。
4. 光線追跡仿真 ? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得3D光線追跡結果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。
5. 場追跡仿真
? 轉換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結果(相機探測器) ? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結果(電磁場探測器)? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結果
8. 文件信息
展開 高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場，也可以深入研究矢量效應。
摘要
高數值孔徑光學仿真的相關專題、標簽、搜索
高數值孔徑光學仿真的最新內容
背景介紹
在顯微成像、激光加工、光存儲與單分子探測等應用中，高數值孔徑物鏡承擔著“把光壓縮到極小空間”的關鍵任務。物鏡聚焦后的焦斑尺寸、形狀、能量分布以及偏振特性，直接決定系統的分辨率、加工精度和探測靈敏度。因此，如何準確分析高數值孔徑物鏡的焦斑，已成為現代光學設計中的核心問題。本文結合VirtualLab Fusion的仿真思路，對這一典型案例進行簡要分析。
對于低數值孔徑系統，工程師常使用傍軸近似和標量衍射理論評估焦斑
用于革命性成像的高數值孔徑顯微鏡3個月前
高分辨顯微鏡離軸成像分析
VirtualLab Fusion是一款光學建模和設計軟件，為光學工程師提供了一套綜合的可互操作仿真算法，并將其整合到一個平臺上。這使工程師能夠徹底探索光學系統，如這些強大的高NA顯微鏡，包括所有相關的影響，并為他們提供全面探究的必要工具。
高數值孔徑
在單分子顯微鏡成像應用中，定位精度是一個關鍵問題。由于在某一方向上的定位精度與圖像在同一方向上的點擴散函數(point spread function, PSF)的寬度成正比，因此具有較高數值孔徑(NA)的顯微鏡可以減小點擴散函數的寬度，從而提高定位精度。在這個案例中，我們演示了NA為0.99 (Inagawa等人，2015) 非常緊湊的反射顯微鏡系統的建模，并將使用VirtualLab
高數值孔徑(NA)顯微鏡以前所未有的清晰度和精度徹底改變了我們探測生物結構的能力。通過利用光學原理，具有數值孔徑的顯微鏡超越了傳統限制，在捕捉復雜的細胞結構，動態分子相互作用和微妙的納米級現象方面表現出色。無論是揭開細胞動力學的奧秘還是深入研究納米材料的復雜性，高NA顯微鏡使科學家能夠在微觀世界中推動探索和發現的界限。
VirtualLab Fusion是一款光學建模和設計軟件
摘要
在單分子顯微鏡成像應用中，定位精度是一個關鍵問題。由于在某一方向上的定位精度與圖像在同一方向上的點擴散函數(point spread function, PSF)的寬度成正比，因此具有較高數值孔徑(NA)的顯微鏡可以減小點擴散函數的寬度，從而提高定位精度。在這個案例中，我們演示了NA為0.99 (Inagawa等人，2015) 非常緊湊的反射顯微鏡系統的建模
摘要
在單分子顯微成像應用中，定位精度是一個關鍵問題。由于某一方向上的定位精度與該方向上圖像的點擴散函數（PSF）的寬度成正比，因此具有更高數值孔徑（NA）的顯微鏡可以減小PSF的寬度，從而提高定位精度。在這個案例中，我們演示了具有0.99數值孔徑（Inagawa et al，2015）的非常緊湊的反射顯微鏡系統的建模，并將使用VirtualLab
分析高數值孔徑物鏡的聚焦5個月前
高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。
摘要
摘要
高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。
建模任務
入射平面波
高NA (數值孔徑)物鏡的分析6個月前
高數值孔徑物鏡的聚焦分析
高NA(數值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻，并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知，在高數值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時，焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應，并演示了如何在VirtualLab Fusion
分析高數值孔徑物鏡的聚焦特性6個月前
高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場，也可以深入研究矢量效應。
摘要
