摘要

 

高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。

 

建模任務

 

入射平面波

波長 2.08 nm

光斑直徑： 3mm

沿x方向線偏振

 

如何進行整個系統的光線追跡分析？

如何計算包含矢量效應的焦點的強度分布？

 

概覽

?樣品系統預設為包含高數值孔徑物鏡。

?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統進行模擬。

 

  

光線追跡模擬

?首先選擇“光線追跡系統分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。

?點擊Go！

?獲得3D光線追跡結果。

  

光線追跡模擬

?然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。

?單擊Go！

?結果，獲得點圖（2D光線追跡結果）。

 

 

光場追跡模擬

?切換到“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為模擬引擎。

?單擊Go！

 

 

光場追跡結果（照相機探測器）

 

?上圖僅顯示Ex和Ey場分量的強度。

?下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強度：由于高數值孔徑情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。

 

  

 

光場追跡結果（電磁場探測器）

 

?通過使用電磁場探測器獲得所有電磁場分量。

  

 

文件信息

 

 

進一步閱讀

? 微結構晶圓檢測光學系統

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