高數(shù)值孔徑物鏡聚焦分析
關(guān)注創(chuàng)建者：匿名 創(chuàng)建時(shí)間：2025-11-27
高數(shù)值孔徑物鏡聚焦分析的實(shí)例教程
高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場(chǎng)矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時(shí)，焦斑的不對(duì)稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長(zhǎng)的。我們通過具體的物鏡實(shí)例來說明了這些效應(yīng)，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測(cè)器分析焦斑。
高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場(chǎng)矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時(shí)，焦斑的不對(duì)稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長(zhǎng)的。我們通過具體的物鏡實(shí)例來說明了這些效應(yīng)，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測(cè)器分析焦斑。
高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微系統(tǒng)等。在對(duì)焦斑的模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。
數(shù)值孔徑(NA)物鏡系統(tǒng)的先進(jìn)點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)計(jì)算
當(dāng)線性偏振高斯光束經(jīng)高數(shù)值孔徑(NA)非球面透鏡聚焦時(shí)，由于矢量效應(yīng)，焦平面上的PSF呈現(xiàn)非對(duì)稱性。
有關(guān)更多信息，請(qǐng)發(fā)送郵件至: support@infotek.com.cn / support@infocrops.com
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展開 高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場(chǎng)矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時(shí)，焦斑的不對(duì)稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長(zhǎng)的。我們通過具體的物鏡實(shí)例來說明了這些效應(yīng)，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測(cè)器分析焦斑。
高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微系統(tǒng)等。在對(duì)焦斑的模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。
高數(shù)值孔徑(NA)物鏡系統(tǒng)的先進(jìn)點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)計(jì)算
當(dāng)線性偏振高斯光束經(jīng)高數(shù)值孔徑(NA)非球面透鏡聚焦時(shí)，由于矢量效應(yīng)，焦平面上的PSF呈現(xiàn)非對(duì)稱性。
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展開 高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過光場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。
摘要
?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對(duì)樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。
?樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。
概覽
如何計(jì)算包含矢量效應(yīng)的焦點(diǎn)的強(qiáng)度分布？
如何進(jìn)行整個(gè)系統(tǒng)的光線追跡分析？
沿x方向線偏振
光斑直徑： 3mm
波長(zhǎng) 2.08 nm
入射平面波
展開 摘要
高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過光場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
入射平面波
波長(zhǎng) 2.08 nm
光斑直徑： 3mm
沿x方向線偏振
如何進(jìn)行整個(gè)系統(tǒng)的光線追跡分析？
如何計(jì)算包含矢量效應(yīng)的焦點(diǎn)的強(qiáng)度分布？
概覽
?樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。
?接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對(duì)樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。
光線追跡模擬
?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。
?點(diǎn)擊Go！
?獲得3D光線追跡結(jié)果。
光線追跡模擬
?然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。
?單擊Go！
?結(jié)果，獲得點(diǎn)圖（2D光線追跡結(jié)果）。
光場(chǎng)追跡模擬
?切換到“第二代場(chǎng)追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為模擬引擎。
?單擊Go！
光場(chǎng)追跡結(jié)果（照相機(jī)探測(cè)器）
?上圖僅顯示Ex和Ey場(chǎng)分量的強(qiáng)度。
?下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強(qiáng)度：由于高數(shù)值孔徑情況下相對(duì)較大的Ez分量，可以看到明顯的不對(duì)稱性。
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高數(shù)值孔徑物鏡聚焦分析的最新內(nèi)容
[VirtualLab] 高數(shù)值孔徑物鏡焦斑分析1個(gè)月前
背景介紹
在顯微成像、激光加工、光存儲(chǔ)與單分子探測(cè)等應(yīng)用中，高數(shù)值孔徑物鏡承擔(dān)著“把光壓縮到極小空間”的關(guān)鍵任務(wù)。物鏡聚焦后的焦斑尺寸、形狀、能量分布以及偏振特性，直接決定系統(tǒng)的分辨率、加工精度和探測(cè)靈敏度。因此，如何準(zhǔn)確分析高數(shù)值孔徑物鏡的焦斑，已成為現(xiàn)代光學(xué)設(shè)計(jì)中的核心問題。本文結(jié)合VirtualLab Fusion的仿真思路，對(duì)這一典型案例進(jìn)行簡(jiǎn)要分析。
對(duì)于低數(shù)值孔徑系統(tǒng)，工程師常使用傍軸近似和標(biāo)量衍射理論評(píng)估焦斑
分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦5個(gè)月前
高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過光場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。
摘要
[VirtualLab] 分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦5個(gè)月前
摘要
高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過光場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
入射平面波
高NA (數(shù)值孔徑)物鏡的分析6個(gè)月前
高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場(chǎng)矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時(shí)，焦斑的不對(duì)稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長(zhǎng)的。
分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性6個(gè)月前
高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場(chǎng)，也可以深入研究矢量效應(yīng)。
摘要
高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微系統(tǒng)等。在對(duì)焦斑的模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。
[VirtualLab] 分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性6個(gè)月前
摘要
高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場(chǎng)，也可以深入研究矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
概述
?
使用高數(shù)值孔徑透鏡進(jìn)行脈沖聚焦6個(gè)月前
盡管對(duì)于大多數(shù)其他類型的光源而言，靜態(tài)近似下是足夠精確的，但對(duì)于超短脈沖來說需要更加精確的方法，其中要考慮到不同光譜模式之間的相關(guān)性。在此，我們?cè)诳臻g、時(shí)間與場(chǎng)分布上研究了該脈沖傳播通過高數(shù)值孔徑透鏡的影響。
摘要
摘要
盡管對(duì)于大多數(shù)其他類型的光源而言，靜態(tài)近似下是足夠精確的，但對(duì)于超短脈沖來說需要更加精確的方法，其中要考慮到不同光譜模式之間的相關(guān)性。在此，我們?cè)诳臻g、時(shí)間與場(chǎng)分布上研究了該脈沖傳播通過高數(shù)值孔徑透鏡的影響。
建模任務(wù)
純空間分析：輸入場(chǎng)（載波λ）
純空間分析：焦平面上的場(chǎng)（載波λ）
1. 摘要
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。
2. 建模任務(wù)
