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我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應(yīng)，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。 高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學光刻、顯微系統(tǒng)等。在對焦斑的模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。

高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析 高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時，焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。

建模任務(wù)：如圖1所示為高NA系統(tǒng)，入射光為266.08mm的平面波，光束直徑3mm，x偏振。物鏡的數(shù)值孔徑為0.85，需要分析焦斑的分布。圖1. 高數(shù)值孔徑物鏡焦斑分析建模任務(wù)建模步驟如圖2所示，首先導入高數(shù)值孔徑的物鏡。在VirtualLab Fusion中，可以使用Lens System創(chuàng)建鏡頭組，也可以利用其豐富的接口從外部導入鏡頭。

我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應(yīng)，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。 高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學光刻、顯微系統(tǒng)等。

摘要 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應(yīng)的理解。 2. 建模任務(wù) 3.

概述 ? 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 ? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 4. 光線追跡仿真 ? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 ? 點擊“Go!”。

概述? 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 4. 光線追跡仿真 ? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

建模任務(wù) 入射平面波 波長 2.08 nm 光斑直徑： 3mm 沿x方向線偏振 如何進行整個系統(tǒng)的光線追跡分析？ 如何計算包含矢量效應(yīng)的焦點的強度分布？ 概覽 ?樣品系統(tǒng)預設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。

?樣品系統(tǒng)預設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。 概覽 如何計算包含矢量效應(yīng)的焦點的強度分布？ 如何進行整個系統(tǒng)的光線追跡分析？

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

摘要 高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

摘要 高NA物鏡廣泛用于光學光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。

示例.0082(1.0) 關(guān)鍵詞：光線追跡，高數(shù)值孔徑，點列圖，光斑尺寸 1. 描述■ 該案例中闡述了如何利用VirtualLab對一個具有高數(shù)值孔徑的透鏡系統(tǒng)進行分析。■ 我們將對焦面前和焦面上對三維光線結(jié)構(gòu)和二維點列圖進行討論。■ 此外，VirtualLab可用于測量焦平面上的光斑尺寸。 2.

關(guān)鍵詞：光線追跡，高數(shù)值孔徑，點列圖，光斑尺寸1.描述■該案例中闡述了如何利用VirtualLab對一個具有高數(shù)值孔徑的透鏡系統(tǒng)進行分析。■我們將對焦面前和焦面上對三維光線結(jié)構(gòu)和二維點列圖進行討論。■此外，VirtualLab可用于測量焦平面上的光斑尺寸。