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案例386（1.0） 關(guān)鍵詞：衍射光學(xué)元件、DOE、高數(shù)值孔徑，畸變補(bǔ)償，幾何畸變，枕形，桶形，強(qiáng)度衰減，功率、陡降、損耗、預(yù)備信號(hào)場、光圖形、迭代傅里葉變換算法、IFTA、模組、分束器、衍射 1. 摘要 ? 通過該案例闡述了如何利用迭代傅里葉變換算法進(jìn)行高數(shù)值孔徑衍射分束器設(shè)計(jì)。? 通過來分束器可以生成一個(gè)5x5規(guī)則的點(diǎn)陣圖形。

設(shè)計(jì)類型與步驟 遠(yuǎn)場應(yīng)用優(yōu)化衍射光學(xué)元件用以生成高數(shù)值孔徑角分布。 信息衍射光學(xué)元件在波數(shù)域上生成一個(gè)角分布(kx，ky)。 設(shè)計(jì)步驟A. 計(jì)算衍射光學(xué)元件的像素尺寸、周期和像元數(shù)。B. 根據(jù)參數(shù)計(jì)算結(jié)果預(yù)先設(shè)置傅里葉迭代法優(yōu)化文檔。C. 根據(jù)靶面上期望的光強(qiáng)分布在波數(shù)域上生成一個(gè)具有預(yù)補(bǔ)償角的光分布，并作為設(shè)計(jì)目標(biāo)圖形。

設(shè)計(jì)類型與步驟 遠(yuǎn)場應(yīng)用 優(yōu)化衍射光學(xué)元件用以生成高數(shù)值孔徑角分布。 信息 衍射光學(xué)元件在波數(shù)域上生成一個(gè)角分布(kx，ky)。 設(shè)計(jì)步驟 A. 計(jì)算衍射光學(xué)元件的像素尺寸、周期和像元數(shù)。 B. 根據(jù)參數(shù)計(jì)算結(jié)果預(yù)先設(shè)置傅里葉迭代法優(yōu)化文檔。 C.

建模任務(wù)：如圖1所示為高NA系統(tǒng)，入射光為266.08mm的平面波，光束直徑3mm，x偏振。物鏡的數(shù)值孔徑為0.85，需要分析焦斑的分布。圖1. 高數(shù)值孔徑物鏡焦斑分析建模任務(wù)建模步驟如圖2所示，首先導(dǎo)入高數(shù)值孔徑的物鏡。在VirtualLab Fusion中，可以使用Lens System創(chuàng)建鏡頭組，也可以利用其豐富的接口從外部導(dǎo)入鏡頭。

高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時(shí)，焦斑的不對(duì)稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。

案例385（2.0）關(guān)鍵字：大角度設(shè)計(jì)，補(bǔ)償，枕形，桶形，畸變，強(qiáng)度衰減，信號(hào)場準(zhǔn)備，衍射光學(xué)元件，損耗，期望光目標(biāo)圖案，迭代傅里葉變換算法 1.建模描述設(shè)計(jì)擴(kuò)散器以在遠(yuǎn)場生成高數(shù)值孔徑光圖案?光源參數(shù)：—高斯光源波長：532nm—根據(jù)最終的衍射光學(xué)元件選擇合適的直徑?系統(tǒng)參數(shù)：—衍射元件到屏幕距離：z=0.5m?輸出場要求

高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析 高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時(shí)，焦斑的不對(duì)稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。

具有很高數(shù)值孔徑的反射顯微鏡系統(tǒng) 本用例演示了使用VirtualLab Fusion的快速物理光學(xué)技術(shù)對(duì)具有0.99高數(shù)值孔徑的緊湊型反射顯微鏡系統(tǒng)的建模。進(jìn)一步將結(jié)果與參考文獻(xiàn)進(jìn)行比較。

過去五年來，兩家公司一直在技術(shù)上合作：ASML、imec 將 EUV 光刻技術(shù)提升到高數(shù)值孔徑。“imec 正在與 ASML 合作開發(fā)高NA 技術(shù)，因?yàn)?ASML 正在構(gòu)建其第一臺(tái)原型 0.55NAEUV 光刻掃描儀 EXE:5000，”imec 首席執(zhí)行官 Luc Van den Hove 說。

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

?下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強(qiáng)度：由于高數(shù)值孔徑情況下相對(duì)較大的Ez分量，可以看到明顯的不對(duì)稱性。 光場追跡結(jié)果（電磁場探測器） ?通過使用電磁場探測器獲得所有電磁場分量。

?樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。 概覽 如何計(jì)算包含矢量效應(yīng)的焦點(diǎn)的強(qiáng)度分布？ 如何進(jìn)行整個(gè)系統(tǒng)的光線追跡分析？

高數(shù)值孔徑(NA)顯微鏡以前所未有的清晰度和精度徹底改變了我們探測生物結(jié)構(gòu)的能力。通過利用光學(xué)原理，具有數(shù)值孔徑的顯微鏡超越了傳統(tǒng)限制，在捕捉復(fù)雜的細(xì)胞結(jié)構(gòu)，動(dòng)態(tài)分子相互作用和微妙的納米級(jí)現(xiàn)象方面表現(xiàn)出色。無論是揭開細(xì)胞動(dòng)力學(xué)的奧秘還是深入研究納米材料的復(fù)雜性，高NA顯微鏡使科學(xué)家能夠在微觀世界中推動(dòng)探索和發(fā)現(xiàn)的界限。

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

摘要 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。

高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻，并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知，在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中，電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時(shí)，焦斑的不對(duì)稱性:焦斑不再是圓的，而是拉長的。

摘要眾所周知，光的矢量性質(zhì)在高數(shù)值孔徑聚焦條件下不可忽視。在這個(gè)案例中，展示了由高數(shù)值孔徑非球面透鏡聚焦的線性偏振高斯光束，顯示了焦平面上非均勻的PSF。通過檢查焦平面上的電磁場分量，可以發(fā)現(xiàn)不均勻性是由相對(duì)強(qiáng)的Ez分量引起。 建模任務(wù) 結(jié)果 文件信息

描述■ 該案例中介紹了如何利用VirtualLab軟件中光線追跡引擎評(píng)價(jià)一個(gè)高數(shù)值孔徑準(zhǔn)直透鏡系統(tǒng)的性能。■ 顯示光線追跡分析結(jié)果的二維和三維結(jié)果。■ 此外，利用一個(gè)可編程探測器對(duì)光線追跡結(jié)果中的自定義評(píng)價(jià)函數(shù)進(jìn)行評(píng)價(jià)：— 每條光線的波前差— 準(zhǔn)直光束波前差的均方根（RMS）值 2.

示例.0082(1.0) 關(guān)鍵詞：光線追跡，高數(shù)值孔徑，點(diǎn)列圖，光斑尺寸 1. 描述■ 該案例中闡述了如何利用VirtualLab對(duì)一個(gè)具有高數(shù)值孔徑的透鏡系統(tǒng)進(jìn)行分析。■ 我們將對(duì)焦面前和焦面上對(duì)三維光線結(jié)構(gòu)和二維點(diǎn)列圖進(jìn)行討論。■ 此外，VirtualLab可用于測量焦平面上的光斑尺寸。 2.