-顯微干涉檢測 3 高端精密成像系統(tǒng)（半導體 / 工業(yè)檢測方向） 半導體晶圓微結構缺陷檢測光學系統(tǒng) 晶圓兩側光柵圖案的成像 激光共聚焦掃描顯微鏡成像分析 大數值孔徑聚焦中的粒子散射與反射 晶圓多層膜厚非接觸式光學測量仿真 4 先進顯微鏡系統(tǒng)的物理光學級仿真 顯微鏡系統(tǒng)的設計 通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究

比如在激光整形中，你需要知道目標面上的光斑是不是均勻；在顯微物鏡分析中，你需要知道焦區(qū)三維場分布；在DOE或SLM設計中，你需要知道不同衍射級次如何疊加；在高數值孔徑系統(tǒng)中，你甚至還要考慮非傍軸條件下的矢量效應。所有這些，都離不開合理的傳播算法。 所謂場追跡，可以簡單理解為：不再只關心一束光“走到哪里”，而是關心它在傳播過程中振幅、相位、偏振和空間頻譜如何變化。

焦平面研究 焦點區(qū)域研究（無像散） 焦點區(qū)域研究（無像散） 文檔信息 拓展閱讀 ? 物鏡對像散激光二極管光束的準直 ? 激光束在高數值孔徑球面焦點區(qū)域的模擬 ? 通用探測器

與傳統(tǒng)二維點圖不同，三維結果更能揭示高NA聚焦的本質：焦斑并不是一個簡單的圓點，而是由主峰、旁瓣及可能存在的非對稱結構共同構成。若入射為線偏振光，焦斑往往表現(xiàn)出一定方向性；若改為徑向偏振光，則可能獲得更強的縱向電場與更緊湊的聚焦效果。 在案例分析中，還應關注參數變化對焦斑的影響。第一，數值孔徑越大，理論上橫向分辨率越高，但系統(tǒng)對像差和裝調誤差也更敏感。

表2 各視場的透過率 公差分析：確保量產可行性，容差能力強 光學系統(tǒng)的“設計指標”需經得起“量產加工誤差”的考驗。

圖2 前組優(yōu)化前場曲/畸變 圖3 前組優(yōu)化后場曲/畸變 圖4 前組優(yōu)化后的MTF 2）物鏡后組設計與優(yōu)化 后組透鏡需同時滿足像方數值孔徑0.3與短焦距（22mm）的要求，選用Petzval結構作為初始方案，該結構能有效校正畸變像差。為提升優(yōu)化自由度，將Petzval結構的2片膠合面分開并增加空氣間隔，保證結構對稱性以校正彗差與畸變。

高數值孔徑（NA>1）光刻系統(tǒng)下，厚掩模的多層結構引發(fā)光場多次反射與耦合衍射，疊加三維偏振像差的視場-深度耦合效應，導致關鍵尺寸均勻性（CDU）與側壁傾斜度控制精度驟降。 計算三維嚴格矢量成像模型是破解該瓶頸的核心理論工具，其對厚掩模衍射機制的精準建模與三維偏振像差的定量表征，直接決定立體圖形光刻保真度。

如何將光聚焦到一個越來越小的光斑上，是光學領域中一直存在的問題，特別是最近，已發(fā)展出各種旨在深聚焦光的方法。研究高數值孔徑條件下的光聚焦通常需要全矢量電磁仿真技術。我們使用VirtualLab Fusion軟件演示了不同偏振態(tài)(如徑向)和孔徑形狀(如環(huán)形)對聚焦區(qū)域電磁場的影響，這種分析既可以用理想透鏡，也可以用具有明確結構和材料信息的真實透鏡進行。

高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。

摘要 高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。