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高NA物鏡聚焦仿真

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創建者:匿名 創建時間:2025-11-10
高NA物鏡聚焦仿真圖1

高NA物鏡聚焦仿真的實例教程

摘要 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術。因此,聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究,進而加深對矢量效應的理解。 2. 建模任務 3. 概述 ? 示例系統包含了數值孔徑物鏡? 下一步,我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。 4. 光線追跡仿真 ? 首先,選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得3D光線追跡結果 ? 然后,選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。 5. 場追跡仿真 ? 轉換到場追跡,并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。 6. 場追跡結果(相機探測器) ? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。? 下圖所示為通過疊加Ex,Ey和Ez分量得到的強度分布:由于在高NA條件下相對較大Ez分量,導致聚焦光斑明顯的失對稱性。 7. 場追跡結果(電磁場探測器)? 利用電磁場探測器,我們可以獲得多有電磁場分量的結果 8. 文件信息
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摘要 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術。因此,聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究,進而加深對矢量效應的理解。 2. 建模任務 3. 概述 ? 示例系統包含了數值孔徑物鏡 ? 下一步,我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。 4. 光線追跡仿真 ? 首先,選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 ? 點擊“Go!”。 ? 隨即獲得3D光線追跡結果 ? 然后,選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 ? 點擊“Go!”。 ? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。 5. 場追跡仿真 ? 轉換到場追跡,并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。 ? 點擊“Go!”。 6. 場追跡結果(相機探測器) ? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。 ? 下圖所示為通過疊加Ex,Ey和Ez分量得到的強度分布:由于在高NA條件下相對較大Ez分量,導致聚焦光斑明顯的失對稱性。 7. 場追跡結果(電磁場探測器) ? 利用電磁場探測器,我們可以獲得多有電磁場分量的結果 8.
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摘要 高NA物鏡廣泛用于光學光刻,顯微鏡等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡,可以清楚地展示不對稱焦斑,這源于矢量效應。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性,可以讓用戶深入了解矢量效應。 建模任務 概觀 光線追跡仿真 ?首先選擇“光線追跡系統分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作為仿真引擎。 ?點擊Go! ?獲得3D光線追跡結果。 光線追跡仿真 ?然后,選擇“光線追跡”(Ray Tracing)作為仿真引擎。 ?單擊Go! ?結果,獲得點列圖(2D光線追跡結果)。 場追跡仿真 ?切換到場追跡并選擇“第二代場追跡”(Field Tracing 2nd Generation)作為仿真引擎。 ?單擊Go! 場追跡結果(攝像機探測器) ?上圖只顯示整合了Ex和Ey場分量的強度。 ?下圖顯示整合了Ex,Ey和Ez分量的強度。 Ez分量:由于在高NA情況下相對較大的Ez分量,可以看到明顯的不對稱性。 場追跡結果(電磁場探測器) ?所有電磁場分量均使用電磁場探測器獲得。 文件信息
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摘要 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術。因此,聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究,進而加深對矢量效應的理解。 2. 建模任務 3. 概述 ? 示例系統包含了數值孔徑物鏡 ? 下一步,我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。 4. 光線追跡仿真 ? 首先,選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 ? 點擊“Go!”。 ? 隨即獲得3D光線追跡結果 ? 然后,選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 ? 點擊“Go!”。 ? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。 5. 場追跡仿真 ? 轉換到場追跡,并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。 ? 點擊“Go!”。 6. 場追跡結果(相機探測器) ? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。 ? 下圖所示為通過疊加Ex,Ey和Ez分量得到的強度分布:由于在高NA條件下相對較大Ez分量,導致聚焦光斑明顯的失對稱性。 7. 場追跡結果(電磁場探測器) ? 利用電磁場探測器,我們可以獲得多有電磁場分量的結果 8.
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數值孔徑物鏡聚焦分析 高NA(數值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻,并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知,在數值孔徑物鏡的使用中,電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時,焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的,而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應,并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。
高NA物鏡聚焦仿真圖2

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紅外物鏡案例分析 簡介 紅外物鏡作為紅外成像系統的核心光學部件,通過大口徑前組聚光透鏡、中間像差校正鏡組及后組聚焦鏡組的協同配合,實現紅外波段光線的會聚與像差校正,可有效抑制色差、球差等光學像差,是紅外熱成像、紅外探測及安防監控等領域的關鍵器件。本項目基于 OAS 光學軟件,通過光機熱一體化建模與多維度性能優化,構建高性能紅外物鏡方案,突破傳統紅外物鏡設計中像差校正難
雖然對于大多數其他類型的光源來說,在靜態工作下通常足夠精確,但超短脈沖需要一種更精確的方法,其中要考慮到不同光譜模式之間的相關性。我們在此研究了一個脈沖通過高數值孔徑透鏡傳播后對其空間域、時域以及光場的影響。
摘要 雖然對于大多數其他類型的光源來說,在靜態工作下通常足夠精確,但超短脈沖需要一種更精確的方法,其中要考慮到不同光譜模式之間的相關性。我們在此研究了一個脈沖通過高數值孔徑透鏡傳播后對其空間域、時域以及光場的影響。 場景
高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此,在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡,可以清楚地展示不對稱焦斑,這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性,并且可以深入了解矢量效應。 摘要
摘要 高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此,在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡,可以清楚地展示不對稱焦斑,這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性,并且可以深入了解矢量效應。 建模任務 入射平面波
高數值孔徑物鏡的聚焦分析 高NA(數值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻,并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知,在高數值孔徑物鏡的使用中,電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時,焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的,而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應,并演示了如何在VirtualLab Fusion
高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此,在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析,可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場,也可以深入研究矢量效應。 摘要
高NA(數值孔徑)物鏡常用于光學顯微及光刻,并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知,在高數值孔徑物鏡的使用中,電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時,焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的,而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應,并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。
摘要 高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此,在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析,可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場,也可以深入研究矢量效應。 建模任務 概述 ?
為了充分表征超短脈沖的聚焦行為,必須考慮不同的電磁特性。這不僅包括空間分布,時間/頻譜分布,矢量效應,還包括所有上述因素之間可能的耦合。以高NA拋物面鏡聚焦10fs脈沖為例,在VirtualLab中對其聚焦過程進行建模,并對其時空特性進行了研究。 摘要