摘要

 

高NA物鏡廣泛用于光學光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應。

 

 

建模任務

 

概觀

 

光線追跡仿真

 

?首先選擇“光線追跡系統分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。

?點擊Go！

?獲得3D光線追跡結果。

 

光線追跡仿真

 

?然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。

?單擊Go！

?結果，獲得點列圖（2D光線追跡結果）。

 

 

場追跡仿真

 

?切換到場追跡并選擇“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。

?單擊Go！

 

 

場追跡結果（攝像機探測器）

 

?上圖只顯示整合了Ex和Ey場分量的強度。

?下圖顯示整合了Ex，Ey和Ez分量的強度。

Ez分量：由于在高NA情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。

 

場追跡結果（電磁場探測器）

 

?所有電磁場分量均使用電磁場探測器獲得。

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