1. 摘要

  

高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。

 

2. 建模任務

  

3. 概述

? 示例系統包含了高數值孔徑物鏡

? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。

 

4. 光線追跡仿真

 

? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。

? 點擊“Go!”。

? 隨即獲得3D光線追跡結果

? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。

? 點擊“Go!”。

? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。

5. 場追跡仿真

? 轉換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。

? 點擊“Go!”。

 

6. 場追跡結果(相機探測器)

 

? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。

? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導致聚焦光斑明顯的失對稱性。

7. 場追跡結果(電磁場探測器)

? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結果

 

 

8. 文件信息

 

更多信息

? Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer

? Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination