高NA物鏡聚焦光斑仿真
關注創建者：匿名 創建時間：2025-11-24
高NA物鏡聚焦光斑仿真的實例教程
摘要 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。
2. 建模任務
3. 概述
? 示例系統包含了高數值孔徑物鏡? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。
4. 光線追跡仿真 ? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得3D光線追跡結果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。
5. 場追跡仿真
? 轉換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結果(相機探測器) ? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結果(電磁場探測器)? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結果
8. 文件信息
展開 摘要
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。
2. 建模任務
3. 概述
? 示例系統包含了高數值孔徑物鏡
? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。
4. 光線追跡仿真
? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得3D光線追跡結果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。
5. 場追跡仿真
? 轉換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結果(相機探測器)
? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。
? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結果(電磁場探測器)
? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結果
8.
展開 摘要
高NA物鏡廣泛用于光學光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應。
建模任務
概觀
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。
?點擊Go！
?獲得3D光線追跡結果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。
?單擊Go！
?結果，獲得點列圖（2D光線追跡結果）。
場追跡仿真
?切換到場追跡并選擇“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。
?單擊Go！
場追跡結果（攝像機探測器）
?上圖只顯示整合了Ex和Ey場分量的強度。
?下圖顯示整合了Ex，Ey和Ez分量的強度。
Ez分量：由于在高NA情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。
場追跡結果（電磁場探測器）
?所有電磁場分量均使用電磁場探測器獲得。
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高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。
2. 建模任務
3. 概述
? 示例系統包含了高數值孔徑物鏡
? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執行示例系統的仿真。
4. 光線追跡仿真
? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得3D光線追跡結果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
? 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結果)。
5. 場追跡仿真
? 轉換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。
? 點擊“Go!”。
6. 場追跡結果(相機探測器)
? 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。
? 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導致聚焦光斑明顯的失對稱性。
7. 場追跡結果(電磁場探測器)
? 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結果
8.
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1. 摘要
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。
2. 建模任務
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建模任務
概觀
光線追跡仿真
1. 摘要
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2. 建模任務
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