摘要

 

高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場(chǎng)，也可以深入研究矢量效應(yīng)。 

 

建模任務(wù)

 

概述

 

?案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。

?接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。

 

光線追跡仿真

 

?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。

?單擊go！

?獲得了3D光線追跡結(jié)果。

 

光線追跡仿真

 

?然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。

?單擊go！

?結(jié)果得到點(diǎn)圖（二維光線追跡結(jié)果）。

 

場(chǎng)追跡仿真

 

?切換到場(chǎng)追跡，然后選擇“第二代場(chǎng)追跡”作為模擬引擎。

?單擊go！

 

 

場(chǎng)追跡仿真（相機(jī)探測(cè)器）

 

?上圖僅顯示Ex和Ey場(chǎng)分量積分的強(qiáng)度。

?下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強(qiáng)度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對(duì)較大，因此可見明顯的不對(duì)稱性。

 

場(chǎng)追跡仿真（電磁場(chǎng)探測(cè)器）

?使用電磁場(chǎng)探測(cè)器可獲得所有電磁場(chǎng)分量。

 

 

場(chǎng)追跡仿真（電磁場(chǎng)探測(cè)器）

 

?使用電磁場(chǎng)探測(cè)器可獲得所有電磁場(chǎng)分量。

 

文件信息

 

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