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模擬包含200個(gè)晶粒的多晶模型，使用平面應(yīng)變簡(jiǎn)化，拉伸變形30%，模擬拉伸過程中裂紋的產(chǎn)生和發(fā)展，其中斷裂總能量包含彈性變形能和塑性耗散功兩部分，模擬結(jié)果如下初始多晶模型：網(wǎng)格劃分（CPE4網(wǎng)格）：相場(chǎng)分布（0：材料完好，1：材料完全失效）：退化程度分布：歐拉角（phi）分布：可以看到耦合相場(chǎng)的晶體塑性模型具有潛在的預(yù)測(cè)裂紋萌生和發(fā)展的能力

然而，為了準(zhǔn)確地說明體積全像的特性，除了考慮繞射光線的傳播方向外，還必須考慮繞射效率、材料收縮或折射率變化等因素。考慮繞射效率使用戶能夠進(jìn)行圖像模擬和綜合優(yōu)化等高級(jí)分析。表面反射光柵與體積全像光柵的比較在介紹這個(gè)模型之前，我們先簡(jiǎn)單解釋一下表面反射光柵（SRG）和體積全像光柵（VHG）的區(qū)別。

對(duì)多晶模型而言，這帶來一個(gè)典型問題：邊界鋸齒形。當(dāng)晶粒形貌復(fù)雜、晶界曲折或需要局部加密網(wǎng)格時(shí)，為了保持對(duì)邊節(jié)點(diǎn)對(duì)應(yīng)，邊界常被迫變成“階梯狀”的幾何近似。這會(huì)引入額外的幾何誤差與數(shù)值誤差：邊界附近應(yīng)力集中被人為放大、局部剛度出現(xiàn)非物理變化，甚至影響裂紋萌生與剪切帶路徑判斷。對(duì)于包含第二相、孔洞、夾雜或復(fù)雜晶界網(wǎng)絡(luò)的模型，這類局限更突出。

（0.5s）二次相分布于晶界五：隨機(jī)的2000個(gè)晶粒的周期性單相模型（2s）同時(shí)內(nèi)置豐富的可視化，比如調(diào)整透明度，切片顯示，修改顏色等等功能非常豐富直接登錄網(wǎng)站即可使用：https://david-bourne.shinyapps.io/synthetmic-gui/

以 DVD 光碟機(jī)的內(nèi)部機(jī)構(gòu)件為例，除了平整度的要求外，由於原始設(shè)計(jì)的流道重於成品體積(20g：16g)，而客戶要求 Tokyo Seiki 減輕流道重量，經(jīng)過五次的變更設(shè)計(jì)分析，流動(dòng)指數(shù)的比較為 88%：99%，流道與成品體積比較為 10g：16g。

薄膜理論的慣例是計(jì)算平面法向量方向上的相位變化，這表示其假設(shè)了一個(gè)虛擬的平面波從薄膜最外層一路傳播到基板。這個(gè)慣例暗示了相位變化在正向入射上為最大，並且隨著入射角變大、相對(duì)應(yīng)餘弦值變小而相位變化也漸漸變小。但光線追跡上，我們是使用不同的方法來描述的。光線追跡的處理方式是如同上面第一張圖表的。過程中只有三條光線：入射、穿透以及反射。你可以隨意的放大檢視，永遠(yuǎn)只有三條線。

圖1：(a)三維多晶RVE和(b)嵌入不同大小微孔的RVE模型的橫斷面視圖。 圖2：3種不同的多晶RVE模型，140個(gè)隨機(jī)取向晶粒相對(duì)于主要加載方向(即y軸)的反極圖。 圖3：不同尺寸微孔r0 = {3l, 4l, 5l}在{T = 1, L =?1}處的生長(zhǎng)結(jié)果(a) Ori-1， (b) Ori-2和(c) Ori-3。

在OpticStudio中建立相關(guān)模型，我們可以得到下方圖中的結(jié)果，一個(gè)能供具有老花眼和-5.50D近視的使用者配戴的優(yōu)化透鏡。此鏡片的屈光率為-3.00D，並能在距透鏡40公分處匯聚光線，形成適宜的閱讀距離。鏡片的基本曲線則是+28D。任何嘗試控制畸變的設(shè)計(jì)都將產(chǎn)生十分陡峭的基本曲線。

在當(dāng)前案例中，嘗試使用dream3d生成的模型作為多晶幾何模型文件，并以paraview為后處理軟件展示包含50個(gè)晶粒10%拉伸變形下的結(jié)果，并入Abaqus umat子程序計(jì)算的結(jié)果進(jìn)行簡(jiǎn)單對(duì)比。

結(jié)合電子背散射衍射（EBSD）實(shí)驗(yàn)與耦合熱–力的多晶相場(chǎng)模擬，揭示電鍍 TXV-Cu 在退火過程中的晶粒演化行為及其對(duì)可靠性的影響;基于相場(chǎng)方法的退火晶粒演化模型，將溫度依賴的界面遷移率、界面能及熱膨脹效應(yīng)納入描述框架，從而在數(shù)值模擬中再現(xiàn) TXV-Cu 的微觀組織演變過程。

該模型的輸入是階數(shù) p 和度數(shù) m、束腰 (w0)、光束的半焦距 (f0) 和光束極性（0 = 偶數(shù)；1 = 奇數(shù)）；最後一個(gè)輸入決定了光束是由偶數(shù)還是奇數(shù) Ince 多項(xiàng)式描述的。 Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的論文中提供了上述每個(gè)輸入的完整描述。 2 列出了一些未使用的輸入，以便該模型的輸入表結(jié)構(gòu)與 OpticStudio 中內(nèi)置的高斯腰模型的結(jié)構(gòu)相匹配。

OCT測(cè)量系統(tǒng)依賴於邁克森干涉儀 (Michelson interferometer)，使得從參考物反射的光與樣品之間的相干性表明散射光源自樣品中與參考鏡的位置相對(duì)應(yīng)的深度。本文將逐步介紹如何在OpticStudio中創(chuàng)建商業(yè)上可用的OCT模型。模型系統(tǒng)健康人眼的角膜和虹膜（A）以及視網(wǎng)膜組織（B）的橫截面圖像如下所示。 顏色變化對(duì)應(yīng)於返迴光強(qiáng)度的變化。

軋制模型如下所示：變形后的SSD的GND分布如下：作者的研究表明：1）多晶變形不均勻性來源：軋制過程中應(yīng)變分布的非均勻性主要由晶粒取向差異及相/結(jié)構(gòu)差異共同導(dǎo)致；滑移優(yōu)先在晶界與自由表面萌生，并沿晶內(nèi)逐步擴(kuò)展形成明顯的滑移帶。

以及整體的織構(gòu)，使用該模型通常用于反應(yīng)多晶聚集體整體的響應(yīng)，以及織構(gòu)演化分析。并且由于等應(yīng)變假設(shè)，Taylor模型通常相較于有限元方法，整體的應(yīng)力響應(yīng)會(huì)更高，織構(gòu)演化預(yù)測(cè)更加鋒銳。但計(jì)算成本顯著低于有限元離散。

設(shè)計(jì)人員需要根據(jù)具體情況決定其系統(tǒng)的策略。許多設(shè)計(jì)過程需要兩種不同的光學(xué)理論/算法來分別處理光束在自由空間和微結(jié)構(gòu)中的傳播，而其他一些過程僅使用純光線追跡來達(dá)到目標(biāo)。由於模擬技術(shù)發(fā)展迅速，因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。如果用戶提供新訊息或有任何要求，請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)繫，我們可以相應(yīng)地更新本文。

這個(gè)課題其實(shí)是比較困難的，先不說所謂復(fù)雜的晶體塑性本構(gòu)模型。就只是第一步建立多晶CAE模型就會(huì)讓很多人焦頭爛額，那么今天作者給大家推薦一款方便好用的生成voronoi多晶模型的Abaqus 插件- voronoi 3D。

本模型解決的是多晶鑄錠爐內(nèi)的多晶硅定向凝固現(xiàn)象，抽象為物理問題就是考慮馬蘭戈尼效應(yīng)的固液相變問題。關(guān)鍵詞：固液相變、定向凝固、馬蘭戈尼效應(yīng)、流體流動(dòng)、相界面、表面對(duì)表面的熱輻射1、模型幾何從內(nèi)到外依次為硅液、石英坩堝、石墨臺(tái)、加熱器、保溫筒、爐壁。2、處理方法固液相變的處理辦法可以大致分為動(dòng)網(wǎng)格法和偽流體方法。

單個(gè)光學(xué)元件的表面形狀可以是球面或變形（垂直和水準(zhǔn)子午線的光焦度不同）。光焦度通常僅在陣列的一個(gè)表面上，而第二個(gè)表面通常是平面的。在 OpticStudio 中對(duì)此設(shè)置進(jìn)行建模的最簡(jiǎn)單方法之一是使用陣列物件 (array object)。提供的範(fàn)例，選擇了 Lenslet Array 1 物件， 它由矩形體陣列組成，每個(gè)矩形體的前表面為平面，後表面為使用者自訂數(shù)目的重複曲面。

：不同取向單晶鋁合金納米模擬與實(shí)驗(yàn)結(jié)果對(duì)比：多晶鋁合金剪切模擬：DIC結(jié)果與數(shù)值模擬結(jié)果：表面粗糙度對(duì)比：可以看到作者使用的模型可以很好的得到不同情況下鋁合金的變形特征，且作者認(rèn)為這類方案相較于以往的雙重迭代方案計(jì)算更加高效。

</p><p>&nbsp;</p><p>QQ::</p><p>負(fù)體積是由於element本身產(chǎn)生大變形造成自我體積的內(nèi)面跑到外面接著被判讀為負(fù)體積，</p><p>控制使element不出現(xiàn)不合理變形的方法就如同dragonwen與ayke所說的幾點(diǎn)，注意使Hourglassing情形減少，有以下幾個(gè)方法可以試看看</p><p>1.避免單點(diǎn)loading=&amp;gt;不要將force施在單一node