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光學相干斷層掃描（OCT）是一種斷層成像系統，可以根據從圖像反射或散射的光生成橫截面或三維圖像。 醫用組織成像是該系統的最典型應用，因為OCT安全且具有高分辨率，儘管光可以穿透的深度限制在毫米量級。OCT測量系統依賴於邁克森干涉儀 (Michelson interferometer)，使得從參考物反射的光與樣品之間的相干性表明散射光源自樣品中與參考鏡的位置相對應的深度。

二維-三維坐標系與矩陣轉換光刻成像模型中x-y坐標系（全局）和i-j坐標系（局部）示意圖如圖所示。

局部坐標系以三維圖形的深度方向為Z軸，重點分析深度方向的偏振光能量分布與光刻膠顯影速率的關聯；全局坐標系將三維圖形的堆疊結構納入全視場分析，考慮“視場位置-深度方向”的耦合效應，可實現3D圖形全視場、全深度的高保真成像。

本文聚焦厚掩模衍射下的光刻成像理論內核，深挖三維矢量模型中偏振像差的作用機理，為先進三維制程光刻精度提升提供關鍵理論支撐。 全局坐標系示意圖02/厚掩模衍射下的光刻成像理論在三維矢量成像模型中，掩模圖形結構尺寸接近甚至小于照明光的波長，基爾霍夫薄掩模近似不能準確描述光刻成像性能。

網格化的瓊斯光瞳獲取方法示意圖5.局部與全局坐標系的變換二維矢量成像模型假設入瞳面和出瞳面之間各級衍射光的傳播方向與光軸平行，若光軸方向為z軸，瓊斯光瞳建立在與z軸垂直的i?j坐標系。準確仿真像面成像結果需要出瞳面處x?y?z坐標系下的三維偏振矢量，所以二維矢量成像模型在出瞳面處將偏振態從二維i?j坐標系轉換到三維x?y?z坐標系。

模擬結果 三柵條圖樣的部分相干成像 兩組七柵條圖樣建模對比

如下圖所示： 概述 三柵條圖樣的部分相干成像 模擬結果 本例介紹了如何采用全局衍射分析對部分相干進行建模。

模擬結果 三柵條圖樣的部分相干成像 兩組七柵條圖樣建模對比

人工智能（AI）與深度學習為計算光刻注入新動能。新一代卷積神經網絡已深度應用于光刻工藝建模、掩模優化及SEM數據處理等關鍵環節：基于AI的OPC技術大幅提升校正速度，深度學習在光刻建模領域展現出卓越潛力，目前基于深度學習的建模工具已集成至部分良率綜合優化系統，并完成產線驗證。 算法復雜度提升推動算力基礎設施持續升級。

三維矢量成像模型通過全空間矢量光場建模，可精準捕捉非雙遠心光路下三維偏振演化與深度衍射規律，成為破解瓶頸的關鍵。本文以零波像差非雙遠心成像為視角，對比二維與三維模型適配性，重點聚焦三維模型應用機理，為先進三維制程光刻精度提升提供支撐。

Figure 3 菲涅耳波帶片系統佈局圖但是，如果現在使用POP分析建模相同的情況，則將觀察到光束開始聚焦在成像表面上，如圖4所示。在這裡，我們從束腰尺寸為2.6 mm的高斯光束開始並將光束聚焦下降到束腰約0.4毫米的斑點。此範例說明只能使用POP模擬這種類型的結構。Figure 4 菲涅耳波帶片在成像平面上的 POP結果。

? AI賦能仿真建模，通過深度學習優化光源-成像的非線性映射關系，實現仿真參數自適應調優，降低極端制程建模誤差；? 多物理場耦合升級，融入EUV光刻偏振、掩模、三維衍射及熱變形等因素，提升仿真與實際制程的契合度；? 跨流程協同仿真，聯動掩模制造、刻蝕工藝構建全鏈路模型，預判光源優化對后續工序的影響；? 極端場景突破，針對1nm及以下節點研發量子化光學仿真模型，突破現有精度瓶頸，為技術迭代提供前瞻性支撐

05/基于模型的OPC修正流程詳解作為先進技術節點的主流修正方式，基于模型的OPC憑借高精度優勢適配復雜圖形需求，其完整流程圍繞“建模-分割-迭代修正-綜合補償-驗證”展開，具體步驟如下：第一步是構建精確光刻模型。

未來，技術演進將圍繞“精準泛化”“多場耦合”“跨域協同”三大方向深化：? AI賦能的自適應建模，通過深度學習挖掘水平條塊、豎直線條、復雜電路等不同圖形的隱性非線性關聯，實現仿真參數與優化目標的動態匹配，降低對人工經驗的依賴；? 多物理場耦合模型升級，融入EUV光刻的偏振效應、掩模三維衍射及熱變形等因素，構建“光-機-熱”多場耦合的NCS-SMO框架，提升極端制程下的優化魯棒性；?

01/簡介隨著集成電路制程向3nm及以下節點突破，光刻系統的光學畸變、掩模三維衍射及光致抗蝕劑非線性響應等效應疊加，使光源-掩模協同優化（SMO）成為保障成像精度的核心技術。

</p><p class="ql-align-justify"><br></p><p><strong>總結</strong></p><p class="ql-align-justify">本案例通過 OAS 光學軟件的跨尺度仿真、光機一體化建模與多目標優化功能，成功突破傳統光刻鏡頭的像差校正與量產一致性瓶頸。

傅立葉顯微鏡對單分子成像 建模用于單分子成像的完整高NA傅立葉顯微鏡系統，特別展示了例如：菲涅爾損耗、由于孔徑引起的衍射，并將仿真結果與參考值進行比較。 分析高NA物鏡的聚焦 高NA物鏡廣泛用于光學光刻，顯微技術等。

該方案為光刻、投影顯示等領域的投影物鏡高精度設計提供了高效的技術支撐，助力高端光學成像系統的研發升級。

為了對VHG進行建模，需要使用高效的Kogelnik理論或嚴格耦合波分析（RCWA）等算法。 圖1（a）所示的SRG，可以通過幾種方法製造，如電子束寫入，光刻，納米壓印，或鑽石車削。與VHG不同，SRG沒有空間變化的折射率。相反，光柵的表面是由周期性的微結構組成的。為了對SRG進行建模，需要採用類似傅里葉模態法（也叫RCWA）的算法。本文將介紹VHG的工具。

但人眼系統具有相對較小的光瞳尺寸，因此在此類系統的設計上，一般會認為球差和彗差並不十分重要。同理，其餘的像差在此也可先行忽略。隨著自由曲面製程技術的演進，光學設計者得以摒除許多以往的限制條件。同時，OpticStudio具有優越的運算能力，可以進行規模較大的系統和更多影像參數的模擬。得益於此，眼科鏡片的設計可以有更進一步的改善，我們將在以下的文章中詳述。