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如果網格很粗糙，并且在目標頻率下金屬和周圍介質之間的介電常數差異很大，則選擇此設置時必須小心。最好執行一些收斂測試。網孔尺寸將網格覆蓋網格尺寸設置為 0.8nm模擬跨度在所有方向上將模擬跨度設置為 2um。當模擬區域太小時，共振表面等離子體模式的倏逝尾部將與 PML 邊界條件相互作用。PML 反射從 PML 邊界條件反射的任何光都可能影響結果。

當模擬區域太小時，共振表面等離子體模式的倏逝尾部將與 PML 邊界條件相互作用。PML 反射從 PML 邊界條件反射的任何光都可能影響結果。更多的 PML 層將減少反射。但是，如果您使用默認 8 個圖層的“拉伸坐標 pml”，則無需更改它，除非您需要更高的精度。DGTD 求解器考慮使用米氏散射 （DGTD）獲得金屬納米顆粒的高精度結果。

圖2 距離潛艇艇艏10 m和200 m處的散射聲壓級仿真結果由圖2可以看出, 2種計算方法在大型目標模型計算上有很好的一致性, 反映了COMSOL在分析大型潛艇模型聲散射方面具有可行性。同時, 由于自身具有強大的后處理功能, 針對三維目標其可以直接生成三維輻射方向圖, 如圖3所示。

通過使用Bloch邊界條件，可以準確地模擬周期性結構中的任意入射角度的電磁波傳播特性，其公式可表示為： 其中為平移的晶格矢量，為bloch波矢。 以下為傾斜平面波入射時的電場分布，使用Bloch邊界和PML邊界的結果。入射光在Bloch邊界的作用下拓展為無限大的平面入射，然后在PML邊界當中被吸收。

反射回這個端口的光穿過它并在 PML 中被吸收，透射光也是這樣。引入兩個額外的邊界來監測總反射率和透射率。 因此，我們引入了一種替代的建模策略，不使用端口來計算反射和傳輸，而是在上面和下面使用完美匹配層（PML）來吸收所有的反射光和透射光，并使用探針計算反射和透射。完美匹配層吸收任何入射到其上的場，具體可以參考這篇關于 使用完美匹配層處理波電磁學問題 的文章。

2、Layer Stack中的邊界條件設置 在Layer Stack中對于邊界條件的設置都位于Analysis區域，如下圖，包括Etch，Rough和Solver三個部分，對每一個金屬層，都可以指定這三項設置。 ? Etch：控制本層的橫截面形狀。

范例：大氣中的散射現象接下來我們會使用一個簡單的范例驗證米氏散射的程序。在范例中，我們使用一個橢圓光源（Source Ellipse）模擬太陽，光源的光譜分布由它的黑體溫度決定。如上圖，我們將溫度設為 5780 K 以模擬太陽的表面。同時使用矩形對象代表大氣環境，我們可以發現大氣的顏色是由顏色探測器（Detector Color object）所決定。

6.2阻抗邊界條件、過度邊界條件、散射邊界條件、周期性邊界條件的作用6.3求解域條件：完美匹配層的理論基礎和使用場景、 PML 網格劃分標準6.4遠場域和背景場域的使用；6.5 端口使用場景和方法；6.5波束包絡物理場的使用詳解；7、波源設置7.1散射邊界和端口邊界的使用方法和技巧（波失方向和極化方向設置、S參數、反射率和透射率的計算和提取、高階衍射通道反射投射效率的計算）7.2頻域計算

• 完美磁導體和完美電導體的作用和使用場景• 阻抗邊界條件、過度邊界條件、散射邊界條件、周期性邊界條件的作用• 求解域條件：完美匹配層的理論基礎和使用場景、 PML網格劃分標準• 遠場域和背景場域的使用• 端口使用場景和方法• 波束包絡物理場的使用詳解 波源設置• 散射邊界和端口邊界的使用方法和技巧

圖3：文中共振模式1的多級展開和場分布 圖3：周期性邊界條件設置在COMSOL中選擇波長域進行仿真，材料設為硅，折射率為3.42。上下添加完美匹配層，x和y方向采用周期性邊界條件，如下圖所示。并且在上表面添加入射端口，由于文章是TM波入射，因此，電場沿x方向，端口具體設置如下。

但是，我們仍然應該定義適當的邊界條件，因為它們會對振型以及振型阻尼和泄漏產生影響。請注意，外部邊界可以是金屬的或開放的。如果使用金屬邊界，我們可以使用默認的理想電導體 或阻抗邊界條件。為了描述開放邊界，我們可以使用散射邊界條件 或完美匹配層。散射邊界條件 和完美匹配層 的默認設置適用于電磁波沿法線方向朝邊界移動的情況。

概要Zemax OpticStudio非序列模式的對象是3D實體，薄膜和散射模型是3D實體的表面特性。本文將從以下幾個方向解釋如何給非序列元件添加鍍膜和散射： 非序列對象中“Face number”的概念。 如何給不同的Face添加鍍膜以及散射模型。 從外部導入CAD結構后的一些對鍍膜散射性質的處理。

為了定義局部散射問題，我們將邊界Γj處的光場表示為 此外，我們使用來定義作用于子域Ωj的輸入光場，使用來定義對應的輸出光場。通過算符 散射問題的解定義了輸入場到輸出場的映射互聯問題描述了在均質中一個輸入場和一個輸出場中任意一對（，）之間的關系。

可以看出，這種強度分布是楔形光波導和BEF的特點。根據目前的定義，系統中幾乎沒有幾何參數可以修正這些分布。最有效的方法是在楔形光波導中引入散射特性。并且，輸入面、頂面和底面對照度和發光強度分布的影響最大。使用以下設置將朗伯散射配置文件應用于光波導的輸入面。進行光線追跡并觀察輸出特性的差異。

概要Zemax OpticStudio非序列模式的對象是3D實體，薄膜和散射模型是3D實體的表面特性。本文將從以下幾個方向解釋如何給非序列元件添加鍍膜和散射： 非序列對象中“Face number”的概念。 如何給不同的Face添加鍍膜以及散射模型。 從外部導入CAD結構后的一些對鍍膜散射性質的處理。

比較 K- 相關散射和 ABg 散射模型從 BSDF 方程可以看出，K- 相關散射模型與 ABg 模型非常相似。

用反射鏡圍繞光波導，也可以提高系統效率。使用不同增亮膜 (BEF) 的陣列模式，可用于控制發射光的發光強度和偏振特性。在此設計案例中假設一些約束條件：將基于標準的移動電話選擇顯示屏的面積，并根據整體封裝高度的限制選擇光波導厚度。

比較 K- 相關散射和 ABg 散射模型從 BSDF 方程可以看出，K- 相關散射模型與 ABg 模型非常相似。