圖5：AR HUD成像畸變仿真效果圖 同時借助Speos測量工具，可精準測算三大核心性能指標： 光學效率：通過輸入光源亮度與成像像素亮度比值，計算系統光傳輸效率； 視場角（FOV）：利用自定義線條測量功能，直接讀取角度型傳感器視場角，或通過公式FOV=2×arctan(x/(2×f)）計算畫幅型傳感器視場； 圖6：自定義線條測量視場角 色彩均勻性：

菲涅爾波帶片可用于不同的波長，因此其在X射線成像、光譜學、攝影和望遠鏡等許多應用中極具價值。 衍射分束器 衍射分束器是將入射光光束分成多個光束輸出或衍射級次的光柵。每個輸出光束都保留與輸入光束相同的光學特性。這類器件通常用于激光等設備中的單色光，并針對特定的波長和衍射角進行設計。

我們提出利用變換光學來設計支持多個波導模式傳輸的超緊湊多模波導彎曲、交叉及多模微環腔，且支持數百納米帶寬。另外，我們基于Ansys Lumerical FDTD軟件及波導邊界曲線伴隨法逆向設計，優化實現了任意角度X型交叉等器件，器件體積極致縮小。

簡介 此前，OpticStudio 為一維光柵仿真提供了一維 RCWA 插件。本文介紹了一種類似但功能強大得多的工作流程，該流程基于 Zemax OpticStudio 與 Lumerical RCWA 之間的動態鏈接。 在這一工作流程中，設計人員在 Zemax OpticStudio 中構建宏觀光學系統，并在 Lumerical 中構建光柵的微結構。兩款軟件中的仿真可無縫連接。

概述 這篇文章介紹了： 如何使用 RCWA 求解器分析周期性多層結構（如光子晶體、衍射光柵）的光學響應； RCWA 求解器的原理：在傅里葉域中劃分均勻層，并通過 S 矩陣雙向傳播計算透射、反射及各個光柵階的功率； 如何設置入射平面波的傳播方向（X/Y/Z 軸）、角度（θ/?）和偏振（s/p），以及反向傳播的兩種模式（鏡像 k 矢量和反向 k 矢量）； 對比 RCWA

由于很難使用 Zernike 項來模擬所有這些類型的表面形狀變化，因此確定表面誤差如何影響整體系統級性能的最佳方法是在 OpticStudio 中將測得的干涉儀數據直接鏈接到光學表面。

使用附帶的 flipGridSag.py 腳本，兼容選擇 OpticsStudio 的 YYY.DAT 文件，然后可以相關Z軸反轉數據并繞 X 軸翻轉。生成的輸出文件在與原始 OpticStudio YYY.DAT 相同的文件夾中創建，擴展名為 _INV_FLIPX 的 DAT 文件。 凹面 同樣，讓我們看看凹面光學元件的數據方向。下圖解釋了凹面和生成的干涉圖數據之間的映射關系。

圖7 真實環境下模塊在抗鋸齒處理前后的離焦MTF曲線 Zemax軟件在高端光學模組研發與量產中的核心價值 本研究從算法創新到工程落地，全程依托Zemax完成仿真驗證、誤差分析、算法迭代，充分彰顯Zemax在光學制造領域的廣泛適用性。

擴展后的多物理場仿真與分析能力，進一步增強了在光子、電氣和熱等多個領域的覆蓋。面向 COUPE 的設計使能涵蓋 Ansys Zemax OpticStudio? 的光路徑仿真、Ansys Lumerical? 的光子器件仿真、HFSS?IC Pro 的電磁提取，以及 RedHawk?SC Electrothermal 的熱—電協同仿真。

X. Wu and S. -T.