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關注創建者:匿名 創建時間:2025-12-08
嚴格耦合波分析(RCWA)的視頻教程
AQWA軟件企業培訓(7) AQWA-line多體耦合水動力分析與駐波抑制
培訓主要內容有: 1.簡要介紹目前主流水動力分析軟件特點; 2.介紹經典AQWA; 3.通過AGS-plan建立船體模型; 4.通過ANSYS-APDL建立半潛平臺混合模型及混合模型的拖曳力線性化; 5.AQWA-librium介紹與實例; 6.AQWA-Fer介紹與實例; 7.AQWA-Drift介紹與實例; 8.AQWA-line多體耦合水動力分析與駐波抑制
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嚴格耦合波分析(RCWA)的實例教程
VirtualLab Fusion為這一任務提供了大量不同的專門求解器,從近似但快速的方法,如薄元近似法(TEA),到嚴格的方法,如傅里葉模態法(FMM)/嚴格耦合波分析(RCWA)。
光柵是許多不同的現代應用和技術中使用的一種基本光學元件。這種元件有時可以通過函數方法進行足夠精確的建模。然而,為了徹底研究光柵對光學系統的影響,需要一個考慮到實際結構的建模策略。
研究真實光柵對光導的效率和均勻性的影響是非常重要的。本案例展示了一個以斜面光柵為耦入器,以二元表面刻蝕光柵為EPE和耦出器的例子。
非傍軸衍射分束器的設計與嚴格分析
例如,我們想介紹一種非傍軸分束器的設計,該分束器通過應用嚴格的技術進一步優化。該案例深入研究了我們的衍射光學元件和微結構組件。
在這一領域,VirtualLab Fusion的快速、準確和靈活的模擬和設計算法發揮了它們的優勢:不同的求解器的優勢,如薄元件近似(TEA)、嚴格耦合波分析(RCWA)和自由空間傳播的傅立葉技術相結合,使光學工程師不僅可以設計元件,還可以分析它們在復雜系統中的行為。
在我們關于衍射光學元件(DOES)系列的第一部分中,我們想把注意力轉向衍射光束分束器,與光束整形器和勻光片等其他DOE不同,衍射光束分束器希望產生統一的離散模式。由于這些部件的工作原理是基于這些圖案表面對入射光的衍射,因此DOE光束整形器和光束分束器的設計可以比其折射對應物更薄、更輕,但所需的小結構尺寸使它們更難模擬,而且資源密集。
第一部分:衍射分束器的設計與嚴格優化
展開 第一部分:衍射分束器的設計與嚴格優化
在我們關于衍射光學元件(DOES)系列的第一部分中,我們想把注意力轉向衍射光束分束器,與光束整形器和勻光片等其他DOE不同,衍射光束分束器希望產生統一的離散模式。由于這些部件的工作原理是基于這些圖案表面對入射光的衍射,因此DOE光束整形器和光束分束器的設計可以比其折射對應物更薄、更輕,但所需的小結構尺寸使它們更難模擬,而且資源密集。
在這一領域,VirtualLab Fusion的快速、準確和靈活的模擬和設計算法發揮了它們的優勢:不同的求解器的優勢,如薄元件近似(TEA)、嚴格耦合波分析(RCWA)和自由空間傳播的傅立葉技術相結合,使光學工程師不僅可以設計元件,還可以分析它們在復雜系統中的行為。
例如,我們想介紹一種非傍軸分束器的設計,該分束器通過應用嚴格的技術進一步優化。該案例深入研究了我們的衍射光學元件和微結構組件。
非傍軸衍射分束器的設計與嚴格分析
傅里葉模態法(FMM)應用于非傍軸衍射分束器的嚴格評估,該分束器最初是使用迭代傅里葉變換算法(IFTA)和薄元件近似(TEA)設計的。
展開 在本用例中,我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅(SiO2)涂層上的使用。對于系統的參數,我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀(VASE)概述。I. 基本理論和典型應用",并研究該方法對輕微變化的涂層厚度有多敏感。
任務描述
鍍膜樣品
橢圓偏振分析儀
總結 - 組件...
橢圓偏振系數測量
橢圓偏振分析儀測量反射系數(s-和p-極化分量)的比率??,并輸出相位差??,以及振幅分量Ψ,根據
在VirtualLab Fusion中,復數系數??p和??s是通過應用嚴格耦合波分析(RCWA),也被稱為傅里葉模態法(FMM)來計算。因此,在研究光柵樣品的情況下,這些系數也可以是特定衍射階數的瑞利系數。
橢圓偏振對小厚度變化的敏感性
為了評估橢偏儀對涂層厚度即使是非常小的變化的敏感性,對10納米厚的二氧化硅層和10.1納米厚的二氧化硅膜的結果進行了比較。即使是厚度的微小變化,1埃的差異也高于普通橢圓偏振的分辨率(0.02°為??,0.1°為??*)。因此,即使是涂層中的亞納米變化也可以通過橢偏儀來測量。
* 數值根據Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
仿真結果與參考文獻的比較
被研究的SiO2層厚度變化為1埃時,??和??的差異。
展開 在本用例中,我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅(SiO2)涂層上的使用。對于系統的參數,我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀(VASE)概述。I. 基本理論和典型應用",并研究該方法對輕微變化的涂層厚度有多敏感。
任務描述
鍍膜樣品
橢圓偏振分析儀
總結 - 組件...
橢圓偏振系數測量
橢圓偏振分析儀測量反射系數(s-和p-極化分量)的比率??,并輸出相位差??,以及振幅分量Ψ,根據
在VirtualLab Fusion中,復數系數??p和??s是通過應用嚴格耦合波分析(RCWA),也被稱為傅里葉模態法(FMM)來計算。因此,在研究光柵樣品的情況下,這些系數也可以是特定衍射階數的瑞利系數。
橢圓偏振對小厚度變化的敏感性
為了評估橢偏儀對涂層厚度即使是非常小的變化的敏感性,對10納米厚的二氧化硅層和10.1納米厚的二氧化硅膜的結果進行了比較。即使是厚度的微小變化,1埃的差異也高于普通橢圓偏振的分辨率(0.02°為??,0.1°為??*)。因此,即使是涂層中的亞納米變化也可以通過橢偏儀來測量。
* 數值根據Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
仿真結果與參考文獻的比較
被研究的SiO2層厚度變化為1埃時,??和??的差異。
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2.2 Ansys Lumerical FDTD/RCWA:亞波長光柵設計
聚焦納米級表面浮雕光柵仿真建模,是衍射波導核心器件設計關鍵:
采用嚴格耦合波分析(RCWA)與時域有限差分(FDTD)求解器,建模輸入、輸出耦合光柵衍射特性;
優化光柵核心參數,適配530nm基準波長、1.52折射率波導材料;
導出JSON光柵數據文件與.sop插件文件,以表面屬性形式接入Speos
使用Ansys Lumerical FDTD軟件中的嚴格耦合波分析(RCWA)求解器,對2D刻劃光柵的透射特性進行仿真
體積全息光柵是通過在感光材料中記錄全息圖案制造而成的。首先,感光材料(即聚合物或玻璃)暴露于由兩個相干激光束產生的干涉圖案中,這就形成了基板材料中折射率的三維調制。
當光以原始記錄的入射角之一照射光柵時,它會再現流程中使用的第二個記錄光束。
求解器的原理:在傅里葉域中劃分均勻層,并通過 S 矩陣雙向傳播計算透射、反射及各個光柵階的功率;
如何設置入射平面波的傳播方向(X/Y/Z 軸)、角度(θ/?)和偏振(s/p),以及反向傳播的兩種模式(鏡像 k 矢量和反向 k 矢量);
對比 RCWA 與 FDTD、STACK 求解器的適用場景,以及 RCWA 對各向異性、有損材料的支持與限制;
介紹
Lumerical 的嚴格耦合波分析
真實結構光柵效應的研究25天前
VirtualLab Fusion為這一任務提供了大量不同的專門求解器,從近似但快速的方法,如薄元近似法(TEA),到嚴格的方法,如傅里葉模態法(FMM)/嚴格耦合波分析(RCWA)。
光柵是許多不同的現代應用和技術中使用的一種基本光學元件。這種元件有時可以通過函數方法進行足夠精確的建模。
(a)波導結構示意圖;(b)K空間分析圖
圖3 基于RMG的L型光柵波導布局圖
光柵優化:RCWA結合PSO的精準設計
為實現理論推導的衍射效率分布,團隊采用嚴格耦合波分析(RCWA)結合粒子群優化(PSO)算法,對折疊光柵、出耦合光柵及入耦合光柵的結構進行了優化設計:
1.確定光柵核心參數:選用532nm波長,HOYA-FD60W玻璃為波導基底(折射率1.817),波導厚度1mm
橢圓偏振系數測量
橢圓偏振分析儀測量反射系數(s-和p-極化分量)的比率??,并輸出相位差??,以及振幅分量Ψ,根據
在VirtualLab Fusion中,復數系數??p和??s是通過應用嚴格耦合波分析(RCWA),也被稱為傅里葉模態法(FMM)來計算。因此,在研究光柵樣品的情況下,這些系數也可以是特定衍射階數的瑞利系數。
有關詳細信息,請參閱:用于通用光學系統的光柵元件
微結構晶片的角度響應
該光柵組件使用傅里葉模態法(FMM),也稱為嚴格耦合波分析(RCWA),其運作在k域中。當入射大NA光束時,需要考慮在k域中有足夠數量的采樣點來解決角度敏感效應。在光柵組件的求解器區域中,用戶可以輕松地調整此參數,以確保快速而準確的模擬。
在這種情況下,電磁場分析(例如時域有限差分(FDTD)或嚴格耦合波分析(RCWA)更為合適,因為其會考慮上述影響。雖然這些方法是計算密集型的,但它們可為亞波長系統提供必要的精度,無需極高的中央處理單元(CPU)和圖形處理單元(GPU)性能,便可獲得基于光線的近似。
光線追跡可以覆蓋所有涉及光的應用,從天文學到電磁學、航空航天、國防、通信、醫療技術以及消費類電子產品。
為此,通過應用傅里葉模態法/嚴格耦合波分析(FMM/RCWA)計算任意周期結構,包括透射和反射光柵、介電或金屬光柵。也可以指定領域的哪一部分應該可視化:正向模式,反向模式,或兩者結合。
尋找組件內部光場分析器: FMM
組件內部光場分析器: FMM是光柵光學設置的專用功能,它提供了光柵結構內部電磁場的可視化。
為此,任意周期結構(包括透射和反射、介質或金屬光柵)內的場通過應用傅里葉模態方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來計算。還可以指定場的哪一部分應該可視化:前向傳播的場、后向傳播的場或兩者都要可視化。
尋找元件內部場分析儀:FMM
元件內部場分析儀:FMM是光柵光學設置的專用功能,可提供光柵結構內部電磁場的可視化。