[VirtualLab] 光柵內(nèi)部光場分析器
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摘要
組件內(nèi)部光場分析器: FMM使用戶能夠研究微觀和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)的電磁場分布。為此,通過應(yīng)用傅里葉模態(tài)法/嚴(yán)格耦合波分析(FMM/RCWA)計(jì)算任意周期結(jié)構(gòu),包括透射和反射光柵、介電或金屬光柵。也可以指定領(lǐng)域的哪一部分應(yīng)該可視化:正向模式,反向模式,或兩者結(jié)合。
![[VirtualLab] 光柵內(nèi)部光場分析器的圖1](https://q4.itc.cn/images01/20260326/9d5315e46cfe434193ac08e4504c27a1.png)
尋找組件內(nèi)部光場分析器: FMM
![[VirtualLab] 光柵內(nèi)部光場分析器的圖2](https://q7.itc.cn/images01/20260326/0f6032a38aed4e2da18d688fcfa2b072.png)
組件內(nèi)部光場分析器: FMM是光柵光學(xué)設(shè)置的專用功能,它提供了光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。
評估模式
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評估區(qū)域
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光柵類型
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光柵表面的采樣
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光柵表面的采樣
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文件信息
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