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矢量衍射分析

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創(chuàng)建者:匿名 創(chuàng)建時(shí)間:2025-12-02
矢量衍射分析圖1

矢量衍射分析的實(shí)例教程

下載地址:矢量分析與場論
菲涅爾衍射的三維追跡圖 菲涅爾衍射的探測器結(jié)果圖 總結(jié) OAS 軟件的模擬,在探測器上清晰呈現(xiàn)出了菲涅爾衍射條紋。分析結(jié)果顯示,該衍射條紋具有明顯的近場特征,其明暗分布與光源的半孔徑、波長以及光源到探測器的距離密切相關(guān)。由于光源參數(shù)和傳播距離的特定設(shè)置,衍射條紋呈現(xiàn)出獨(dú)特的周期性和強(qiáng)度變化規(guī)律。通過對這些條紋特征的深入分析,能夠進(jìn)一步理解菲涅爾衍射中波前曲率變化對衍射圖樣形成的影響機(jī)制,為深入研究菲涅爾衍射的物理本質(zhì)提供重要依據(jù)。
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結(jié)論 ? 本例演示了如何將一個(gè)折射透鏡轉(zhuǎn)換成一個(gè)焦距相同的二元衍射透鏡; ? 計(jì)算了衍射透鏡的PSF和MTF; ? 由于離散高度級次產(chǎn)生的雜散光和高階sinc級次。
衍射式人工晶體的優(yōu)點(diǎn)之一是為患者提供了良好的遠(yuǎn)近視力。這樣的鏡頭通常使用如Zemax OpticStudio的Binary 2表面設(shè)計(jì)。在這個(gè)例子中,我們演示了如何將初始設(shè)計(jì)導(dǎo)入到VirtualLab Fusion中,并考慮用實(shí)際二元結(jié)構(gòu)的情況下對透鏡系統(tǒng)建模。通過改變二元結(jié)構(gòu)的高度,進(jìn)一步研究了衍射透鏡的性能。 衍射透鏡的設(shè)計(jì)任務(wù) 從OpticStudio導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng) 遠(yuǎn)場:OpticStudio導(dǎo)入的一致性 近場:OpticStudio導(dǎo)入的一致性 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì):衍射透鏡剖面高度 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì):衍射透鏡剖面高度 ? 由于是二元衍射透鏡,選擇了具有2個(gè)高度階的量化結(jié)構(gòu) - 有利于制造(成本低,容易制造) - 使用高度調(diào)制的方法能夠更好地控制效率,特別對于0級和1級。
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01/簡介 驗(yàn)證矢量OPC技術(shù)對最佳焦面成像保真度的提升效果,對比WP罰函數(shù)與GWP罰函數(shù)的性能差異。 02/考慮最佳焦面成像圖形保真度的仿真結(jié)果 采用WP和GWP兩種罰函數(shù)PSM的OPC優(yōu)化結(jié)果如圖所示。針對同一圖形,左側(cè)為采用WP的結(jié)果,右側(cè)為采用GWP的結(jié)果。其中,兩種線條圖形的CD均為45nm。光刻系統(tǒng)為照明波長193nm、NA=1.2的浸沒式光刻系統(tǒng)采用相干因子為σ=0.12的圓形照明,對垂直線條采用Y偏振照明,對水平線條采用X偏振照明,掩模為AItPSM型PSM。 為了驗(yàn)證WP罰函數(shù)在降低掩模復(fù)雜度方面的作用,在OPC的優(yōu)化損失函數(shù)中分別加入傳統(tǒng)WP和GWP兩種罰函數(shù)項(xiàng),并對比PSM的OPC優(yōu)化結(jié)果,分析WP和GWP在降低掩模復(fù)雜度和提高成像質(zhì)量方面的性能。 仿真通過調(diào)整WP和GWP的加權(quán)系數(shù)權(quán)衡成像誤差和掩模復(fù)雜度這兩個(gè)相互制約的因素。因此,仿真對WP和GWP采用相同的加權(quán)系數(shù)、從而能夠更加公平地比較兩種罰函數(shù)方法。 采用WP和GMP兩種罰函數(shù)PSM的OPC優(yōu)化結(jié)果 03/仿真結(jié)果 針對垂直密集線條、水平線條的PSM掩模優(yōu)化: ? 掩模復(fù)雜度:用“分割梯形總數(shù)”衡量,GWP罰函數(shù)使梯形數(shù)增多(如垂直線條從688增至818)。 ? 成像保真度:用PAE(成像誤差)、CDE(關(guān)鍵尺寸誤差)衡量,GWP罰函數(shù)更優(yōu)(如水平線CDE從20nm降至0nm,PAE從872提升至796)。 04/結(jié)論 GWP罰函數(shù)在平衡掩模復(fù)雜度與成像保真度上更具優(yōu)勢,可在可接受的掩模復(fù)雜度增加范圍內(nèi),顯著降低成像誤差(CDE)、提升成像質(zhì)量(PAE)。
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矢量衍射分析圖2

矢量衍射分析的最新內(nèi)容

前言 在光學(xué)設(shè)計(jì)領(lǐng)域,鏡頭系統(tǒng)是核心研究對象,鏡頭相關(guān)設(shè)計(jì)與仿真在光學(xué)設(shè)計(jì)中占據(jù)著重要比重。傳統(tǒng)鏡頭分析多依托幾何鏡頭設(shè)計(jì)等專業(yè)工具,而在需要精細(xì)化衍射分析的實(shí)際場景中,光學(xué)仿真需兼顧衍射效應(yīng)等關(guān)鍵物理特性。本次我將以像散轉(zhuǎn)換器為實(shí)操案例,為大家講解如何通過 VirtualLab Fusion 導(dǎo)入鏡頭文件,完成包含衍射分析的光學(xué)系統(tǒng)仿真。 圖1. 模式像散轉(zhuǎn)換器概念圖 如圖1所示
摘要 非傍軸衍射光束分束器的直接設(shè)計(jì)仍然是一個(gè)挑戰(zhàn)。由于衍射角度相當(dāng)大,元件的特征尺寸與光的波長相近。因此,通常使用的傍軸建模方法變得不準(zhǔn)確,需要嚴(yán)格的技術(shù)。因此,在這個(gè)例子中,迭代傅里葉變換算法(IFTA)和薄元件近似(TEA)被用于衍射光學(xué)元件(DOE)的初步設(shè)計(jì),并且之后使用傅里葉模式方法(FMM)也稱為嚴(yán)格耦合波分析(RCWA)進(jìn)行嚴(yán)格的性能評估,包括在高度變化的情況下對優(yōu)點(diǎn)函數(shù)變化的研究
01/簡介 隨著集成電路制程向先進(jìn)節(jié)點(diǎn)迭代,光刻成像的焦面精度對圖形保真度的影響愈發(fā)顯著,最佳焦面處的成像性能直接決定芯片制造良率。光源-掩模協(xié)同優(yōu)化(SMO)作為分辨率增強(qiáng)核心技術(shù),其矢量模型因能精準(zhǔn)刻畫偏振、三維掩模衍射等效應(yīng),成為先進(jìn)制程優(yōu)化的關(guān)鍵工具,而數(shù)值計(jì)算的精度與分析深度則是發(fā)揮其效能的核心前提。 本文聚焦最佳焦面成像性能,通過搭建標(biāo)準(zhǔn)化仿真條件
? 狹縫模擬 偏振體光柵(PVGs)模擬也可以用來識別一階反射率。 基于極坐標(biāo)圖和圖像結(jié)果文件,對考慮衍射效應(yīng)的光柵模型的設(shè)計(jì)有很大的幫助。 液晶顯示面板的光柵結(jié)構(gòu)產(chǎn)生了衍射圖樣。根據(jù)遠(yuǎn)場方程,將衍射光計(jì)算為輸出光通過光柵介質(zhì)的電場之和。
液晶顯示面板的光柵結(jié)構(gòu)產(chǎn)生了衍射圖樣。根據(jù)遠(yuǎn)場方程,將衍射光計(jì)算為輸出光通過光柵介質(zhì)的電場之和。 基于極坐標(biāo)圖和圖像結(jié)果文件,對考慮衍射效應(yīng)的光柵模型的設(shè)計(jì)有很大的幫助。 偏振體光柵(PVGs)模擬也可以用來識別一階反射率。 ? 狹縫模擬 (a)極坐標(biāo)圖 (b)顏色輪廓 (c)衍射強(qiáng)度 ? 液晶相位光柵模擬 (d)TRN數(shù)據(jù) (e)極坐標(biāo)圖
01/簡介 為驗(yàn)證矢量HSMO技術(shù)對工藝窗口(PW)的優(yōu)化效果,采用考慮離焦的像質(zhì)評價(jià)函數(shù) 02/仿真條件 以AttPSM為例,對比HSMO(聯(lián)合優(yōu)化光源+掩模)與OPC(僅優(yōu)化掩模,光源不變)技術(shù)。仿真目標(biāo)圖形包括一維孤立線條(占空比1:4,CD=45nm)、一維半密集線條(占空比1:2,CD=45nm)、二維密集接觸孔(占空比
設(shè)計(jì)任務(wù) 多焦點(diǎn)眼內(nèi)人工晶體植入術(shù)目前被廣泛應(yīng)用于治療白內(nèi)障。多焦點(diǎn)眼內(nèi)透鏡的優(yōu)點(diǎn)之一是能為患者提供良好的遠(yuǎn)近視力。在本示例中,我們演示了如何將初始設(shè)計(jì)導(dǎo)入 VirtualLabFusion,并在考慮實(shí)際二元結(jié)構(gòu)的情況下對晶狀體系統(tǒng)進(jìn)行建模。通過改變二元結(jié)構(gòu)的高度,我們進(jìn)一步研究了衍射透鏡的性能。
設(shè)計(jì)任務(wù) 使用近軸近似的衍射1:7×7分束器的初步設(shè)計(jì),通過嚴(yán)格分析,進(jìn)一步優(yōu)化零階均勻性和影響 直接設(shè)計(jì)非近軸衍射分束器仍然是一個(gè)挑戰(zhàn)。由于衍射角相當(dāng)大,元件的特征尺寸與工作波長在相同的數(shù)量級上。因此,設(shè)計(jì)過程超出了近軸建模方法。因此,在這個(gè)例子中,迭代傅里葉變換算法
摘要 直接設(shè)計(jì)非近軸衍射分束器仍然是一個(gè)挑戰(zhàn)。由于衍射角相當(dāng)大,元件的特征尺寸與工作波長在相同的數(shù)量級上。因此,設(shè)計(jì)過程超出了近軸建模方法。因此,在這個(gè)例子中,迭代傅里葉變換算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu),和傅里葉模態(tài)方法(FMM)隨后應(yīng)用于嚴(yán)格的性能評估。 設(shè)計(jì)任務(wù)
衍射擴(kuò)散器可以被設(shè)計(jì)來創(chuàng)建任何圖案。在這里,我們展示了 VirtualLab Fusion的一些可能性,以設(shè)計(jì)、優(yōu)化、建模和仿真這種衍射光學(xué)元件(DOE)并把公司的標(biāo)志投射到一幢大樓上。有不同的方法來生成光的圖案。利用相干激光和衍射擴(kuò)散器元件,可以實(shí)現(xiàn)良好的效率和有趣的光紋理,這將在下面進(jìn)行演示。