01/簡介

驗證矢量OPC技術對最佳焦面成像保真度的提升效果，對比WP罰函數與GWP罰函數的性能差異。

02/考慮最佳焦面成像圖形保真度的仿真結果

采用WP和GWP兩種罰函數PSM的OPC優化結果如圖所示。針對同一圖形，左側為采用WP的結果，右側為采用GWP的結果。其中，兩種線條圖形的CD均為45nm。光刻系統為照明波長193nm、NA=1.2的浸沒式光刻系統采用相干因子為σ=0.12的圓形照明，對垂直線條采用Y偏振照明，對水平線條采用X偏振照明，掩模為AItPSM型PSM。

為了驗證WP罰函數在降低掩模復雜度方面的作用，在OPC的優化損失函數中分別加入傳統WP和GWP兩種罰函數項，并對比PSM的OPC優化結果，分析WP和GWP在降低掩模復雜度和提高成像質量方面的性能。

仿真通過調整WP和GWP的加權系數權衡成像誤差和掩模復雜度這兩個相互制約的因素。因此，仿真對WP和GWP采用相同的加權系數、從而能夠更加公平地比較兩種罰函數方法。

采用WP和GMP兩種罰函數PSM的OPC優化結果

03/仿真結果

針對垂直密集線條、水平線條的PSM掩模優化：

? 掩模復雜度：用“分割梯形總數”衡量，GWP罰函數使梯形數增多（如垂直線條從688增至818）。

? 成像保真度：用PAE（成像誤差）、CDE（關鍵尺寸誤差）衡量，GWP罰函數更優（如水平線CDE從20nm降至0nm，PAE從872提升至796）。

04/結論

GWP罰函數在平衡掩模復雜度與成像保真度上更具優勢，可在可接受的掩模復雜度增加范圍內，顯著降低成像誤差（CDE）、提升成像質量（PAE）。