該工具可根據(jù)需要自動(dòng)將構(gòu)件分解為子構(gòu)件，以涵蓋結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)和方向因子（例如強(qiáng)/弱軸）。

折射元件的前（左）表面：附加 OpticStudio 生成的 YYY.DAT 文件直接旋轉(zhuǎn)到表面上，然后將表面繞 Z 軸旋轉(zhuǎn) 180 度。 折射元件的后（右）表面：反轉(zhuǎn) YYY.DAT 文件，并在附加到表面之前繞 X 軸翻轉(zhuǎn)?？梢酝ㄟ^運(yùn)行附帶的 flipGridSag.py Python 腳本來(lái)完成此方向調(diào)整。導(dǎo)入數(shù)據(jù)后，還要將表面繞 Z 軸旋轉(zhuǎn) 180 度。

由于表面前面的中間焦點(diǎn)，被測(cè)凹面上的基準(zhǔn)點(diǎn)在干涉圖中沿 X 和 Y 方向翻轉(zhuǎn)。此操作相當(dāng)于繞 Z 軸旋轉(zhuǎn) 180 度，這可以在 OpticStudio 中通過定義表面傾斜/偏心屬性下的 Tilt Z 參數(shù)或使用坐標(biāo)間斷并在那里定義 Tilt About Z 參數(shù)輕松完成。有關(guān)使用坐標(biāo)間斷的進(jìn)一步討論，請(qǐng)查看文章：ZEMAX | 如何傾斜和偏心序列光學(xué)元件。

6.2 施加載荷 饋線載荷： Insert → Force 選擇套筒內(nèi)表面 → 大?。?000 N → 方向：沿 Y 負(fù)向 螺釘預(yù)緊力（墊圈區(qū)域）： Insert → Force 選擇墊圈作用面（圓環(huán)區(qū)域） → 大?。?00 N → 方向：沿 Y 負(fù)向 步驟 7：求解設(shè)置 點(diǎn)擊Analysis Settings 開啟Large

因此，當(dāng)某個(gè)曲面的厚度（即沿其局部z軸方向的距離）與前一個(gè)表面間距較大時(shí)，這種坐標(biāo)系被稱為局部坐標(biāo)系，因?yàn)槊總€(gè)表面的位置都是相對(duì)于前一個(gè)表面定義的。 坐標(biāo)斷裂 （CB） 表面允許您指定下一個(gè)表面的位置，即在 x 和 y 方向上移動(dòng)，在 x、y 和 z 方向上傾斜（旋轉(zhuǎn)），以及簡(jiǎn)單地在 z 方向上移動(dòng)。坐標(biāo)斷裂 （CB）是一個(gè)虛擬表面：也就是說(shuō)，它沒有折射或反射能力，并且無(wú)法彎曲光線。

為軸對(duì)稱模型，并且由于坯料的中間面是一個(gè)對(duì)稱平面，因此只包含了坯料的上半部分。 網(wǎng)格 分析開始時(shí)使用的網(wǎng)格如圖1所示。該有限元模型為軸對(duì)稱模型，并且由于坯料的中間面是一個(gè)對(duì)稱平面，因此只包含了坯料的上半部分。

在下圖中，S2和S3處產(chǎn)生了y偏移，這僅僅是因?yàn)樵赟1的坐標(biāo)系中傳播了一段非零的Z距離（S1繞X軸傾斜了20度）。 圖 2：鏡頭編輯器與三維布局圖。 如果要定義S3在物空間坐標(biāo)系中的位置，可以采取以下幾種方法之一： 1、手動(dòng)計(jì)算出由于沿傾斜坐標(biāo)系傳播z距離而產(chǎn)生的y偏移量，對(duì)應(yīng)地偏心表面。

光路系統(tǒng)整體設(shè)計(jì)：雙級(jí)放大架構(gòu)，實(shí)現(xiàn)125倍成像 為平衡“高放大倍率”與“小系統(tǒng)體積”，團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)“預(yù)放大+主放大”雙級(jí)架構(gòu)，通過“放大鏡組（5倍）+離軸三反自由曲面鏡組（25倍）”的疊加，最終實(shí)現(xiàn)125倍信號(hào)放大，同時(shí)利用離軸結(jié)構(gòu)消除成像遮攔，自由曲面鏡校正像差。

(3) 調(diào)整兩球位置：點(diǎn)擊【Translate Instance】，選擇“Ball-1”，沿X軸方向移動(dòng)至坐標(biāo)（0,0,0）（球心位于球桌上表面上方26mm）；選擇“Ball-2”，沿X軸正方向移動(dòng)至坐標(biāo)（1270mm,0,0）（兩球球心間距1270mm），確保兩球球心連線沿X軸方向。

長(zhǎng)度、寬度、高度（圓柱體為直徑、高度）分為坐標(biāo)軸X，Y，Z方向的尺寸，建立的模型坐標(biāo)原點(diǎn)在試件的左下角。 插件可設(shè)置三組粒徑范圍，可設(shè)置每組多面體顆粒的面數(shù)及顆粒個(gè)數(shù)。每組顆粒及顆粒外側(cè)的界面過渡區(qū)在CAD內(nèi)均分圖層繪制，方便批量管理。