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摘要不同的波前像差對焦點分布有不同的影響。 因此，其對于研究例如成像系統是至關重要的。 在VirtualLab Fusion中，可以生成不同的波前像差，并且可以方便地研究它們對焦點分布的影響。 作為示例，我們選擇幾種典型的像差（球差，彗差，像散，...），改變它們的值，然后計算相應的焦點分布。

摘要不同的波前像差對焦點分布有不同的影響。 因此，其對于研究例如成像系統是至關重要的。 在VirtualLab Fusion中，可以生成不同的波前像差，并且可以方便地研究它們對焦點分布的影響。 作為示例，我們選擇幾種典型的像差（球差，彗差，像散，...），改變它們的值，然后計算相應的焦點分布。

不同的單位適用于不同的應用情況，您可以在系統選項的單位 (Units) 標簽欄中進行設置： 選取不同單位后，OpticStudio會在各個分析工具中使用相應的單位來呈現分析結果： 除了單位的變化，聚焦和無焦模式的主要區別還有參考波前的改變（即相對于系統實際波前而言的“完美”波前）。

摘要不同的波前像差對焦點分布有不同的影響。 因此，其對于研究例如成像系統是至關重要的。 在VirtualLab Fusion中，可以生成不同的波前像差，并且可以方便地研究它們對焦點分布的影響。 作為示例，我們選擇幾種典型的像差（球差，彗差，像散，...），改變它們的值，然后計算相應的焦點分布。

然而，這個結論是根據我們的設計流程而來的，基於平面入射波、視場角與其權重、透鏡與眼睛旋轉中心的距離、一些像差的忽略 (尤其是對畸變的忽略)，以及其他更多的假設。在一般的認知中，以上的方法並不能產生具有“最佳形態”或是“校正曲線”的透鏡，意思是無法製造出能完美修正像差，同時又可配合所有鏡片屈光率的微小基本曲線半徑。可產生最佳成像品質的鏡片設計會根據配戴者和視覺環境的不同而存在極大的差異。

摘要 不同類型的波前像差對焦點上的特征有單獨的影響。因此，能夠詳細研究這些影響是至關重要的，例如，評估成像系統的性能。在VirtualLab Fusion中，可以產生不同的波前像差，并方便地研究其對焦斑分布的影響。作為例子，我們選擇了幾個典型的像差（球面、彗差、像散、……），改變它們的數值，并計算相應的焦點分布。

摘要 不同類型的波前像差對焦點上的特征有單獨的影響。因此，能夠詳細研究這些影響是至關重要的，例如，評估成像系統的性能。在VirtualLab Fusion中，可以產生不同的波前像差，并方便地研究其對焦斑分布的影響。作為例子，我們選擇了幾個典型的像差（球面、彗差、像散、……），改變它們的數值，并計算相應的焦點分布。

摘要 不同類型的波前像差對焦點上的特征有單獨的影響。因此，能夠詳細研究這些影響是至關重要的，例如，評估成像系統的性能。在VirtualLab Fusion中，可以產生不同的波前像差，并方便地研究其對焦斑分布的影響。作為例子，我們選擇了幾個典型的像差（球面、彗差、像散、……），改變它們的數值，并計算相應的焦點分布。

摘要不同類型的波前像差對焦點上的特征有單獨的影響。因此，能夠詳細研究這些影響是至關重要的，例如，評估成像系統的性能。在VirtualLab Fusion中，可以產生不同的波前像差，并方便地研究其對焦斑分布的影響。作為例子，我們選擇了幾個典型的像差（球面、彗差、像散、……），改變它們的數值，并計算相應的焦點分布。

若入射為線偏振光，焦斑往往表現出一定方向性；若改為徑向偏振光，則可能獲得更強的縱向電場與更緊湊的聚焦效果。在案例分析中，還應關注參數變化對焦斑的影響。第一，數值孔徑越大，理論上橫向分辨率越高，但系統對像差和裝調誤差也更敏感。第二，入射光束的填充程度會改變物鏡有效利用率，欠填充會削弱高角度光線貢獻，導致焦斑變大；過度填充則可能增加邊緣衍射效應。

</li><li>在系統孔徑中，無焦像空間設置被勾選，因為我們正在處理兩個無焦系統。</li><li>在光線瞄準下，光線瞄準設置為近軸，以便更可靠地填充光闌，特別是在高像差的情況下。有關此選項的更多信息，請參閱知識庫文章如何使用光線瞄準。</li><li>在高級下，參考OPD設置為絕對。為了比較眼睛瞳孔處和 Shack?Hartmann 前方的波前變形，在兩種情況下都根據平面評估波前。

大部分物鏡帶有一個耦合棱鏡，如 LCD 投影儀的 X 棱鏡和 DLP 投影儀的 TIE 棱鏡，這些棱鏡厚度較大，對像差有較大影響，是整個成像光路的一部分。4. 定焦和變焦物鏡：為了適應不同的應用環境，投影物鏡大部分是變焦物鏡。本文將展示使用 SYNOPSYS 軟件進行短焦微型非球面投影物鏡的設計，與上次課程不同的地方是本次設計中使用了非球面面型進行搭建。

- 不同2D和3D圖樣，顯示了光束沿著光軸在焦區域傳播 總結 ?在這個例子中，它表明了如何通過一對錐透鏡來減小焦斑尺寸以及增加焦深，。

LCD顯示器等元件的不同位置是固定的，因此不會使用傾斜項。系統包含兩個變量：后焦距的長度，自由曲面反射鏡的曲率半徑。在進行第一次局部優化后，可以檢查全視場像差： 整個視場的平均值： Z4是離焦/場曲，并設置為變量。Z5和Z6是主初級像散，并且設置為變量。

優化變量：在優化過程中，選擇能夠校正系統極限像差的變量至關重要。使用澤尼克標準矢高面我們可以在必要時優化澤尼克系數。最初，該系統包含 2 個變量：背焦厚度和自由曲面鏡。 Z1 是一個平移項，它不會被使用。 Z2 和 Z3 是傾斜項，像LCD顯示器這樣的元素的不同位置是固定的，所以傾斜項也不會被用到。

不同像差的焦斑 本示例選擇了幾種典型的波前像差作為示例，并使用不同的參數研究了其相應的焦斑。 更多相關信息，請發送郵件至：support@infotek.com.cn / support@infocrops.comholly@infotek.com.cn

LCD顯示器等元件的不同位置是固定的，因此不會使用傾斜項。 系統包含兩個變量：后焦距的長度，自由曲面反射鏡的曲率半徑。 在進行第一次局部優化后，可以檢查全視場像差： 整個視場的平均值： Z4是離焦/場曲，并設置為變量。 Z5和Z6是主初級像散，并且設置為變量。

在系統孔徑中，無焦像空間設置被勾選，因為我們正在處理兩個無焦系統。在光線瞄準下，光線瞄準設置為近軸，以便更可靠地填充光闌，特別是在高像差的情況下。有關此選項的更多信息，請參閱知識庫文章如何使用光線瞄準。在高級下，參考OPD設置為絕對。為了比較眼睛瞳孔處和 Shack?Hartmann 前方的波前變形，在兩種情況下都根據平面評估波前。

Zernike多項式在光學設計中具有獨特優勢：1）正交性確保擬合系數求解簡單，且各項系數互不干擾，項數越多擬合誤差越小；2）每一項多項式對應一種特定像差（如傾斜、離焦、像散、彗差），可精準匹配不同波長的像差校正需求。擬合過程中，團隊還解決了一個關鍵問題——傾斜項（C?）的干擾：傾斜項對應平面面型，占比大且難以被高階曲面擬合，會顯著降低精度。

接著就是利用各種不同手段進行系統實際像差優化設計。系統實際像差設計優化的最終結果如圖12。 圖12.雙高斯照相物鏡最終設計結果