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如圖2.3所示，當壓頭壓入深度為20 ?時還未形成棱柱形位錯環；進一步壓入到25 ?時，壓頭右下方形成一個棱柱形位錯環，壓入到30 ?時，棱柱環向下運動，壓頭下方出現了三個并排的棱柱形位錯環；繼續壓入到40 ?時，三個并排的棱柱形位錯環在基體內部停止移動，并保持在距離基體表面155 ?處。

圖4a-e顯示了NO在CuOX@MnOX,CuOX,MnOX中的穩定吸附構型當NO在CuOX@MnOX、CuOX和MnOX等催化劑中被吸附時，形成了O-N（1.47?）、Cu-N（1.51?）和Mn-N（1.68?）三種化學鍵，其吸附能分別為-0.89eV、-0.95eV和-1.44eV。結果表明，三種催化劑對NO具有很強的吸附作用。圖4b-f分別顯示了SO2在上述三種催化劑中的穩定吸附構型。

兩個圓柱形單晶區域：Al區域的半徑為20 ?，高度為50 ?；Cu區域的半徑同樣為20 ?，高度為50 ?，并且位于Al區域的正上方。將這兩個區域合并，形成一個完整的模擬區域。隨后，分別使用面心立方（FCC）晶格填充Al和Cu區域，其中Al的晶格常數為4.05 ?，Cu的晶格常數為3.61 ?。

選擇α-石英單晶胞，參數來源于晶體結構數據庫（COD），晶格參數為a=b=4.913?，c=5.4052?，α=β=90°，γ=120°，如圖2所示。切取表面并裸露出氧原子，擴胞作為石英礦物基底模型，儲層條件下的石英通常為水濕，即羥基化修飾表面。再在基底構型頂部均添加一定厚度的真空層以減小相鄰模擬單元中來自周期性構型間的相互作用。

[15] 沒有參與到文字游戲中的英特爾，在2021年7月正式“反擊”，引入全新的命名體系，將原本的10nm Enhanced SuperFin更名為Intel 7，將7nm更名為Intel 4，之后繼續延續這種命名方式分別稱為Intel 3、Intel 20?、Intel 18?（?即埃米，10埃米=1納米）。

同時，將搭建好的糊精模型用Dmol3進行優化計算，計算參數選擇GGA廣義梯度近似和PBE泛函方法，在計算精度為Fine的基礎上選擇DNP 4.4基組，體系總能量收斂值取 1.0×10-5Ha，最大內應力為0.002 Ha/?，最大位移為0.005?，選用全電子核處理方式，使用TS色散修正方法進行修正。參與計算的原子軌道分別為H 1s1、C 2s22p2、O 2s22p4。

坐標和旋轉細節從參考文獻[1]可知，BiTiO3的晶格常數為：a = 3.992 ?c = 4.036 ? 上圖中的 Theta 可以由 ? = arctan(4.036/3.992) 給出要旋轉晶體的介電常數以使 [011] 方向沿 y，首先繞 y’ 軸逆時針旋轉 pi/2，然后繞新的 x’ 軸順時針旋轉 pi/2 – theta，如下圖所示。

表2：以口袋為中心的方法以及這些方法與PointSite結合的結果的DCA指標（閾值為4 ?）在B277、DT198、ASTEX85、CHEN251、COACH420 和 HOLO4K 數據集上的識別性能比較。

選取面心立方（FCC）結構的Cu作為研究對象，其晶格參數來源于標準的晶體學數據庫，典型的Cu晶格參數為a=b=c=3.615?，α=β=γ=90°，形成高度對稱的立方晶胞結構。為了模擬實際材料中的加載情況，首先需要構建一個足夠大的Cu單晶模型，確保模擬結果能夠反映材料的宏觀行為而不受模型尺寸的限制。

如表2所示，氫氣分子的分子直徑僅為2.3 ?(1 ?=0.1 nm），遠小于甲烷、二氧化碳等氣體分子直徑和水合物籠直徑(氫氣分子與水合物孔穴直徑比僅有0.3～0.5)，并且氫氣分子逸度很大，可以自由進出水合物籠，這也是氫氣水合物難以穩定的原因之一。

計算結果表明，TBP分子上Li+、K+和Mg2+的結合位置與P—O基團的結合位置距離分別為1.92、2.6和1.97 ?。每一個的分布概率離子在上述距離處達到最大值，說明在相同條件下Li+和P—O基團的結合位置相對于其他兩種金屬離子更接近。（此數據與文獻中結果數據有不同之處，其規律相似。）

生成的圖像質量在50%處（下曲線）<0.2"，在80%能量環繞處（上曲線）<0.3"橫跨整個可視光譜（330-1080?）。 透鏡零位校驗 三個屈光元件的每個零位校驗作為最終設計優化的一部分。可以通過整個光學系統非球面項的平衡來簡化可制造性。

圖1 水分子構建 構建AC模型步驟如下圖所示，單擊選擇Modules中的Amorphous Call，Calculation；計算精度Quality選擇 Ultra-fine ；填寫密度；選擇水分子，分子數為1000（注意：模型的長寬高要大于25?），運行Run，如下圖所示，顯示正在運行，運行完成，構建成功。

Interlayer distance (?)Interlayer distanceratio Volume ratio3C3（GPa）Graphite 3.48 1.00 1.00 8.7LiC6

Amber動力學模擬動態展示效果通過MD movie--Analysis--Plot--RMSD工具繪制體系的RMSD圖,分析結果表明整個體系在模擬的時間段內處于2.0 ?范圍內波動，是合理范圍，可用于后續結合自由能計算。

ORION 1：1材料中的游離DME以短O─H鍵距（2.3至2.8?）與SBU的四烷基銨核心分離，表明氫鍵可能決定這種行為。總之，這些模擬證實了之前的發現，即兩性離子SBU為ORION 1：1材料中的Li(DME)TFSI提供了有效的固溶劑化環境，促進了高度網絡化的脆性玻璃狀固態的形成，這由高度網絡化證明89%。