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集成電路設(shè)計與驗證

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創(chuàng)建者:匿名 創(chuàng)建時間:2026-01-04

集成電路設(shè)計與驗證的視頻教程

Ansys Lumerical光子集成電路PIC 有源器件的設(shè)計與仿真
Ansys Lumerical光子集成電路PIC 有源器件的設(shè)計與仿真

光子集成電路(Photonic Integrated Circuit, PIC) 由于具備可實現(xiàn)高速光電轉(zhuǎn)換、高頻寬、低損耗等特性,并且可以大幅縮減模組尺寸及成本,是未來發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)。 Ansys Lumerical 為設(shè)計人員提供高性能光子模擬軟體,提供專門用于光子器件、電路和系統(tǒng)設(shè)計的模擬環(huán)境。

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CATIA在樣式和機械形狀間集成,幫工業(yè)設(shè)計將概念轉(zhuǎn)化為合格設(shè)計
CATIA在樣式和機械形狀間集成,幫工業(yè)設(shè)計將概念轉(zhuǎn)化為合格設(shè)計

CATIA通過在樣式和機械形狀設(shè)計之間緊密集成,packaging designer 可幫助industrial designer 將概念轉(zhuǎn)化為合格設(shè)計 1、在樣式設(shè)計與機械形狀設(shè)計之間實現(xiàn)緊密的集成,從而將概念迅速轉(zhuǎn)化為優(yōu)質(zhì)設(shè)計 2、structural package design 應(yīng)用程序在產(chǎn)品上下文中提供基于特征的專業(yè)建模方法,可改善早期開發(fā)階段的決策 3、利用交互實時體驗和準(zhǔn)確的照片級渲染展示設(shè)計并做出設(shè)計決策

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PCB電磁兼容設(shè)計規(guī)則檢查與仿真驗證
PCB電磁兼容設(shè)計規(guī)則檢查與仿真驗證

隨著半導(dǎo)體芯片技術(shù)的高度集成化和高速化,電路原理的設(shè)計相對趨于成熟,關(guān)鍵的PCB系統(tǒng)互連設(shè)計成為必須重點關(guān)注的對象。PCB設(shè)計不同環(huán)節(jié)的工程師,通常使用不同的驗證方法,或者根本無驗證手段,僅憑借工程師個人經(jīng)驗設(shè)計。一些不適當(dāng)?shù)淖呔€結(jié)構(gòu),很容易被忽略,也不便于進行建模仿真分析。此外,仿真一般針對關(guān)鍵電路或高速電路,忽略了其他layout的設(shè)計缺陷,這也可能帶來的整個產(chǎn)品的EMC性能隱患。

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集成電路設(shè)計與驗證圖1

集成電路設(shè)計與驗證的實例教程

“中國集成電路設(shè)計業(yè)2017年會暨北京集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展高峰論壇”于2017年11月16日-17日在北京稻香湖景酒店隆重召開。歡迎光臨ANSYS 27號展位技術(shù)交流、現(xiàn)場抽獎。
主要研究方向為模擬射頻集成電路:適用于5/6G毫米波通信的相控陣收發(fā)機芯片、鎖相環(huán)PLL芯片、毫米波功率放大器芯片、77GHz FMCW 雷達芯片、高速有線通信芯片、新型MoS2芯片設(shè)計等。 集成電路通常采用一定的工藝,把一個電路中所需的晶體管、電阻、電容和電感等元件及布線互連一起,制作在半導(dǎo)體襯底中。無論新型的二維芯片還是目前傳統(tǒng)的硅工藝芯片,其芯片的設(shè)計的主要目的仍然是實現(xiàn)特定的功能。從集成電路器件到芯片的設(shè)計中間的橋梁就是定制的模型和特定的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。 本次以目前兩個熱門的題目為例說明,首先新型的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)芯片。基于傳統(tǒng)的硅工藝神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)芯片需要大量的乘法和加法單元實現(xiàn)卷積的運算,如何實現(xiàn)低功耗高速的卷積運算是其中的核心問題,此外神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的輸入通常為傳感器的數(shù)據(jù)。傳感器芯片和神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)芯片之間通常需要接口,大量的數(shù)據(jù)通過接口傳遞會消耗大量的功耗和芯片的面積。實現(xiàn)傳感和神經(jīng)運算的結(jié)合是未來發(fā)展的重要方向,也是擬神經(jīng)計算的關(guān)鍵。二維器件具有光、電、磁、氣體等感應(yīng),基于二維器件實現(xiàn)傳感是較為容易,但是基于二維的器件實現(xiàn)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)運算并不簡單。相比于基于二維神經(jīng)單元,通過軟件實現(xiàn)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)而言,二維芯片實現(xiàn)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)并且集成前向傳播網(wǎng)絡(luò)芯片更具應(yīng)用價值。如何實現(xiàn)?首先是器件的建模,器件的建模打破了傳統(tǒng)二維芯片通過實驗迭代的方式優(yōu)化電路,而是通過仿真不斷優(yōu)化器件,從而實現(xiàn)快速高質(zhì)量電路。 對于目前的5G和6G通信,毫米波芯片是傳輸?shù)年P(guān)鍵。對于毫米波電路而言,最為困難仍然是器件建模,隨著頻率的升高,傳統(tǒng)的模型已經(jīng)無法支撐高頻電路設(shè)計
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答:(1)設(shè)計工具與設(shè)計方法。隨著集成電路復(fù)雜程度的不斷提高,單個芯片容納器件的數(shù)量急劇增加,其設(shè)計工具也由最初的手工繪制轉(zhuǎn)為計算機輔助設(shè)計(CAD),相應(yīng)的設(shè)計工具根據(jù)市場需求迅速發(fā)展,出現(xiàn)了專門的EDA工具供應(yīng)商。目前,EDA主要市場份額為美國的Cadence、Synopsys和Mentor等少數(shù)企業(yè)所壟斷。中國華大集成電路設(shè)計中心是國內(nèi)唯一一家EDA開發(fā)和產(chǎn)品供應(yīng)商。 (2)制造工藝與相關(guān)設(shè)備。集成電路加工制造是一項與專用設(shè)備密切相關(guān)的技術(shù),俗稱“一代設(shè)備,一代工藝,一代產(chǎn)品”。在集成電路制造技術(shù)中,最關(guān)鍵的是薄膜生成技術(shù)和光刻技術(shù)。光刻技術(shù)的主要設(shè)備是曝光機和刻蝕機,目前在130nm的節(jié)點是以193nmDUV(Deep Ultraviolet Lithography)或是以光學(xué)延展的248nmDUV為主要技術(shù),而在l00nm的節(jié)點上則有多種選擇:157nm DIJV、光學(xué)延展的193nm DLV和NGL.在70nm的節(jié)點則使用光學(xué)延展的157nm DIJV技術(shù)或者選擇NGL技術(shù)。到了35nm的節(jié)點范圍以下,將是NGL所主宰的時代,需要在EUV和EPL之間做出選擇。此外,作為新一代的光刻技術(shù),X射線和離子投影光刻技術(shù)也在研究之中。 (3)測試。由于系統(tǒng)芯片(SoC)的測試成本幾乎占芯片成本的一半,因此未來集成電路測試面臨的最大挑戰(zhàn)是如何降低測試成本。結(jié)構(gòu)測試和內(nèi)置自測試可大大縮短測試開發(fā)時間和降低測試費用。另一種降低測試成本的測試方式是采用基于故障的測試。在廣泛采用將不同的IP核集成在一起的情況下,還需解決時鐘異步測試問題。另一個要解決的問題是提高模擬電路的測試速度。 (4)封裝。電子產(chǎn)品向便攜式/小型化、網(wǎng)絡(luò)化和多媒體化方向發(fā)展的市場需求對電路組裝技術(shù)提出了苛刻需求,集成電路封裝技術(shù)正在朝以下方向發(fā)展:   ①裸芯片技術(shù)。
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光子集成電路 (PIC) 是眾多當(dāng)前和下一代產(chǎn)品的關(guān)鍵支撐技術(shù)。PIC 將微電子領(lǐng)域常見的半導(dǎo)體材料和制造工藝與光的編碼、傳輸和檢測相結(jié)合,通過將帶寬與計算核心之間的距離拉近,改變了數(shù)據(jù)中心的通信方式,并加速了自動駕駛領(lǐng)域 LiDAR 和未來信息處理領(lǐng)域量子計算等新興應(yīng)用的發(fā)展。 電子和光子之間的連接是通過能夠在光信道上編碼電信號,并將光轉(zhuǎn)換回電信號來恢復(fù)信息的器件實現(xiàn)的。在 PIC 中,電光調(diào)制器和光電探測器是實現(xiàn)這些轉(zhuǎn)換的基本光電元件。 隨著對帶寬、功效和靈敏度的需求不斷增長,需要尖端的仿真技術(shù)將器件模型與制造工藝及其完整的多物理場行為聯(lián)系起來。將 Silvaco Victory Process 與 Ansys Lumerical 軟件相結(jié)合,實現(xiàn)支持 TCAD 的光子器件仿真,為設(shè)計師和工程師提供了必要的工具,可以完整準(zhǔn)確地預(yù)測、分析和優(yōu)化光電器件的行為。 工作流概述 光子集成電路 (PIC) 的光電元件設(shè)計始于對物理結(jié)構(gòu)和摻雜分布的精確建模,這些結(jié)構(gòu)和摻雜分布定義了器件的光學(xué)和電學(xué)行為。目標(biāo)是創(chuàng)建一個能夠反映制造后的器件的物理模型。設(shè)計流程從制造工藝的輸入開始:材料和掩模圖案與蝕刻、注入、退火和生長條件相結(jié)合。雖然結(jié)構(gòu)的幾何 CAD 模型可以作為早期設(shè)計探索的起點,但使用 Silvaco Victory Process 進行工藝仿真對于建立制造步驟和最終物理結(jié)構(gòu)之間的聯(lián)系是必不可少的。圖 1 說明了使用 Victory Process 輸入進行光子器件仿真的工作流程。 圖 1. Ansys Lumerical 光子器件仿真工作流程,其中采用 Silvaco Victory Process 的 TCAD 輸入 幾何效應(yīng)(例如受蝕刻影響的側(cè)壁角度和共形沉積的層界面)對于精確仿真光傳播非常重要 [1]。
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光子集成電路 (PIC) 是眾多當(dāng)前和下一代產(chǎn)品的關(guān)鍵支撐技術(shù)。PIC 將微電子領(lǐng)域常見的半導(dǎo)體材料和制造工藝與光的編碼、傳輸和檢測相結(jié)合,通過將帶寬與計算核心之間的距離拉近,改變了數(shù)據(jù)中心的通信方式,并加速了自動駕駛領(lǐng)域 LiDAR 和未來信息處理領(lǐng)域量子計算等新興應(yīng)用的發(fā)展。 電子和光子之間的連接是通過能夠在光信道上編碼電信號,并將光轉(zhuǎn)換回電信號來恢復(fù)信息的器件實現(xiàn)的。在 PIC 中,電光調(diào)制器和光電探測器是實現(xiàn)這些轉(zhuǎn)換的基本光電元件。 隨著對帶寬、功效和靈敏度的需求不斷增長,需要尖端的仿真技術(shù)將器件模型與制造工藝及其完整的多物理場行為聯(lián)系起來。將 Silvaco Victory Process 與 Ansys Lumerical 軟件相結(jié)合,實現(xiàn)支持 TCAD 的光子器件仿真,為設(shè)計師和工程師提供了必要的工具,可以完整準(zhǔn)確地預(yù)測、分析和優(yōu)化光電器件的行為。 工作流概述 光子集成電路 (PIC) 的光電元件設(shè)計始于對物理結(jié)構(gòu)和摻雜分布的精確建模,這些結(jié)構(gòu)和摻雜分布定義了器件的光學(xué)和電學(xué)行為。目標(biāo)是創(chuàng)建一個能夠反映制造后的器件的物理模型。設(shè)計流程從制造工藝的輸入開始:材料和掩模圖案與蝕刻、注入、退火和生長條件相結(jié)合。雖然結(jié)構(gòu)的幾何 CAD 模型可以作為早期設(shè)計探索的起點,但使用 Silvaco Victory Process 進行工藝仿真對于建立制造步驟和最終物理結(jié)構(gòu)之間的聯(lián)系是必不可少的。圖 1 說明了使用 Victory Process 輸入進行光子器件仿真的工作流程。 圖 1. Ansys Lumerical 光子器件仿真工作流程,其中采用 Silvaco Victory Process 的 TCAD 輸入 幾何效應(yīng)(例如受蝕刻影響的側(cè)壁角度和共形沉積的層界面)對于精確仿真光傳播非常重要 [1]。
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集成電路設(shè)計與驗證圖2

集成電路設(shè)計與驗證的最新內(nèi)容

“Ansys 2025 全球仿真大會”仿真應(yīng)用大賽優(yōu)秀作品展示 本屆仿真應(yīng)用大賽最終評選出 30 篇 TOP 優(yōu)秀作品,分別榮獲一、二、三等獎及行業(yè)最佳實踐獎。近 200 位來自汽車、半導(dǎo)體、高科技、能源等行業(yè)的仿真精英參賽,他們以前沿思維與創(chuàng)新實踐,充分展現(xiàn)了仿真技術(shù)的無限潛能。我們將陸續(xù)為大家分享獲獎佳作,帶您一同領(lǐng)略仿真賦能創(chuàng)新的非凡力量,希望用戶能從中汲取靈感、啟迪思路。
如圖1所示,系統(tǒng)參數(shù)如下:光源是高斯光源 束腰直徑 8 mm,也就是束腰半徑 4 mm 波長 532 nm DOE器件尺寸 8 mm × 8 mm 目標(biāo)平面位于DOE后方 200 mm 目標(biāo)是看目標(biāo)面上能不能得到 3×3 點陣分布 這次我們驗證的是一個很經(jīng)典的
LED驅(qū)動集成電路(LED Driver IC)是一種專為發(fā)光二極管(LED)提供?穩(wěn)定電流?并實現(xiàn)高效、安全驅(qū)動的專用集成電路。其核心工作原理基于將輸入電源(交流或直流)轉(zhuǎn)換為適合LED工作的?恒流輸出?,以確保亮度穩(wěn)定、延長壽命并避免熱失控。 恒流驅(qū)動必要性?:LED的正向電壓-電流(V/I)特性非常陡峭,且具有?負(fù)溫度系數(shù)?(溫度升高時導(dǎo)通電壓下降)。若采用恒壓驅(qū)動,微小的電壓波動會導(dǎo)致電流大幅變化
隨著AI技術(shù)的不斷演進,芯片EDA 領(lǐng)域也在加速擁抱 AI 技術(shù),用AI來設(shè)計芯片也在逐漸成真。4月3日,新思科技芯課程AI系列主題第五講即將推出:「探索Code Advisor 如何提升10x設(shè)計驗證效率」,將為大家介紹新思科技代碼生成工具Code Advisor,該工具基于LLM 模型和agent 模式助力RTL生成到RTL驗證整個流程,提高工程師生產(chǎn)力數(shù)十倍!歡迎報名參會,探索Code Advisor
4月3月14:00,新思科技芯課程AI系列之「探索Code Advisor如何提升10x設(shè)計驗證效率」正式開講!本期芯課程將詳解新思科技基于大模型與 Agent 架構(gòu)的 Code Advisor 工具,全程賦能 RTL 生成與驗證,大幅提升工程師效率!感興趣的下滑預(yù)約學(xué)習(xí)?? 時間:4月3日 周五,14:00-15:00 內(nèi)容簡介: 隨著AI 技術(shù)的不斷演進,
電機雙通道驅(qū)動芯片,通常指能夠控制直流電機實現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)和制動等雙向運動功能的集成電路(IC)。這類芯片內(nèi)部多采用H橋電路結(jié)構(gòu),通過控制功率MOSFET或晶體管的導(dǎo)通與關(guān)斷,改變電機兩端的電壓極性,從而實現(xiàn)電機的雙向驅(qū)動。 核心工作原理與技術(shù)特性: H橋拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)?:這是雙向驅(qū)動的基礎(chǔ)。芯片內(nèi)部集成四個功率開關(guān)(通常為MOSFET),排列成“H”形。通過邏輯控制電路,精確控制對角線開關(guān)的導(dǎo)通
鈦絲驅(qū)動技術(shù)(NiTiDrivetech)的可靠性設(shè)計 【前言】 形狀記憶合金(Shape memory alloy, SMA),也叫形態(tài)記憶合金、肌肉絲、鎳鈦記憶合金,它是由Ni(鎳)- Ti(鈦)材料組成,經(jīng)過多道工序制成的絲,財哥簡稱鈦絲,可以通過電路驅(qū)動鈦絲發(fā)生運動。相比于傳統(tǒng)的電機、電磁鐵動力,鈦絲是一種新型的動力元件。鈦絲驅(qū)動技術(shù)(nitidrivetech)目前已經(jīng)在航空航天
鈦絲驅(qū)動技術(shù)(NiTiDrivetech)的可靠性設(shè)計 【前言】 形狀記憶合金(Shape memory alloy, SMA),也叫形態(tài)記憶合金、肌肉絲、鎳鈦記憶合金,它是由Ni(鎳)- Ti(鈦)材料組成,經(jīng)過多道工序制成的絲,財哥簡稱鈦絲,可以通過電路驅(qū)動鈦絲發(fā)生運動。相比于傳統(tǒng)的電機、電磁鐵動力,鈦絲是一種新型的動力元件。鈦絲驅(qū)動技術(shù)(nitidrivetech)目前已經(jīng)在航空航天
3D-IC技術(shù):芯片集成的新范式 在消費電子、通信、計算和汽車等眾多領(lǐng)域,對更高性能、更低功耗設(shè)備的需求持續(xù)攀升。為了應(yīng)對這一趨勢,集成電路(IC)設(shè)計正從傳統(tǒng)的二維平面向三維立體架構(gòu)演進——3D-IC技術(shù)應(yīng)運而生,成為行業(yè)關(guān)注的焦點。 什么是3D-IC技術(shù)? 3D-IC是一類多芯片集成電路封裝技術(shù)的總稱。其核心思想是將多個半導(dǎo)體芯片(業(yè)內(nèi)常稱為“芯粒”)通過兩種方式組合
在這個例子中,Ansys Lumerical INTERCONNECT的光子集成電路(PIC)建模能力與Icepak強大的熱仿真能力相結(jié)合,用于仿真和設(shè)計波分復(fù)用(WDM)收發(fā)器,同時考慮封裝中其他區(qū)域(例如電子集成電路(EIC)、印刷電路板(PCB) 等)的發(fā)熱。 一、概述 本文以一個六通道WDM系統(tǒng)為例進行研究