散射建模
關注創建者：匿名 創建時間：2025-12-15
散射建模的實例教程
ASAP 提供精準的 LED 光源，結合為 Lens 添加菲涅耳運算、散射模型，保證模擬結果的準確度。ASAP 在 LED 設計過程中為工程師提供的強大自由度，保記您的每一個想法都不再是紙上談兵！
培訓主題
ASAP 照明設計
武漢墨光將在
2023年06月19日-21日
舉辦《 ASAP 照明設計》線下培訓。共計3天。
課程大綱
· 照明光學概述
· 照明光學設計過程
· 輻射度測定和光度測定
· 光源建模
· 使用 CAD 模型
· 復合拋物面聚光器
· 自由曲面設計
· 色度學分析
· 照明系統散射建模
· 幾何物體
· 探測器物體
· 光源物體
· 運算符物體
· 理想化物體
· 使用測量的光源數據
· BEF 建模
· 控制干擾光線
· 照明系統的公差分析
· 照明系統的優化
課程詳情
本培訓為線下培訓，培訓時間為3天；
課堂上提供最新版的 ASAP 軟件，統一發送配套的培訓教材；
學員自帶筆記本電腦，課程結束后合格者頒發培訓證書；
為保證課程質量，課程均采用小班授課模式。
舉辦單位：武漢墨光科技有限公司
培訓日期：2023年6月19日-21日（三天）
培訓費用：
1、標準收費為：4800 元/人；
2、團體（3人及以上）報名可以享受八折優惠，提前一個月報名可以享受九折優惠，以上優惠不可疊加使用；
3、提供服務性發票，項目“培訓費”。
報名方式：
報名咨詢可前往武漢墨光官網（掃描下方官網二維碼）留言或直接掃碼與我們的工人員溝通聯系。
武漢墨光官網
添加工作人員微信咨詢培訓
注：如報名人數未達到最低開課人數，武漢墨光將酌情調整或延期開設本門課程
展開 ASAP 提供精準的 LED 光源，結合為 Lens 添加菲涅耳運算、散射模型，保證模擬結果的準確度。ASAP 在 LED 設計過程中為工程師提供的強大自由度，保記您的每一個想法都不再是紙上談兵!
為滿足大家的學習需求，武漢墨光將于08月21日-08月23日舉辦《ASAP 照明設計》線下培訓。，共計3天時間。以下是本次培訓具體詳情：
培訓主題
ASAP照明設計
課程大綱
· 照明光學概述
· 照明光學設計過程
· 輻射度測定和光度測定
· 光源建模
· 使用 CAD 模型
· 復合拋物面聚光器
· 自由曲面設計
· 色度學分析
· 照明系統散射建模
· 幾何物體
· 探測器物體
· 光源物體
· 運算符物體
· 理想化物體
· 使用測量的光源數據
· BEF 建模
· 控制干擾光線
· 照明系統的公差分析
· 照明系統的優化
課程詳情
本培訓為線下培訓，培訓時間為3天;
課堂上提供最新版的 ASAP 軟件，統一發送配套的培訓教材;
學員自帶筆記本電腦，課程結束后合格者頒發培訓證書;
為保證課程質量，課程均采用小班授課模式。
舉辦單位：武漢墨光科技有限公司
培訓日期：2023年08月21日-08月23日 共三天（09：00-17：00）
培訓費用：
1、標準收費為：4800元/人
2、團體(3人及以上)報名可以享受八折優惠，以上優惠不可疊加使用。
3、提供服務性發票，項目“培訓費”。
報名方式：
報名咨詢可前往評論區留言。
注：如報名人數未達到最低開課人數，武漢墨光將酌情調整或延期開設本門課程。
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本文旨在介紹如何在OpticStudio中模擬K-相關分布散射模型，并用實例分析將該模型與Harvey-Shack (ABg) 散射分布模型進行了比較。
簡介
表面微粗糙度引起的散射通常具有 K-相關模型 (K-correlation model) 的特征。該模型除了在小散射角區域有所不同外，與 Harvey-Shack (ABg) 模型十分相似。
在 OpticStudio 中，如果用戶想要使用K-相關散射模型對表面散射分布進行建模，則需要輸入大量的參數，并且這些參數都必須由用戶測量。
本文將概述 K-相關散射模型背后的理論知識，并展示在OpticStudio中建模的實例。
K- 相關散射模型
K- 相關模型的雙向散射分布函數 (BSDF) 由 Dittman2 提供：
其中s是有效的 RMS 表面粗糙度，s 是在高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率，β 則被定義為散射角 (?s) 的正弦減去鏡面反射角/透射角的正弦，上面的公式中的 β對應 OpticStudio 中的向量x：
我們發現 K-相關散射分布模型與 Harvey-Shack (ABg) 散射模型非常相似。它們之間的主要區別在于 K-相關模型在小散射角度時會有偏移：
圖1：K-相關與 Harvey-Shack 散射模型的比較。如 Dittman 所述，K-相關模型在小角度處會有偏移，這與在拋光表面上觀察到的散射行為一致。
Dittman 指出這種偏移與在許多拋光表面上觀察到的散射行為是一致的。
K-相關模型的 BSDF 不能進行解析積分，但在 OpticStudio 中可以運用蒙特卡羅功能來實現這種散射分布的模擬。
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本文旨在介紹如何在OpticStudio中模擬K-相關分布散射模型，并用實例分析將該模型與Harvey-Shack (ABg) 散射分布模型進行了比較。
簡介
表面微粗糙度引起的散射通常具有 K-相關模型 (K-correlation model) 的特征。該模型除了在小散射角區域有所不同外，與 Harvey-Shack (ABg) 模型十分相似。
在 OpticStudio 中，如果用戶想要使用K-相關散射模型對表面散射分布進行建模，則需要輸入大量的參數，并且這些參數都必須由用戶測量。
本文將概述 K-相關散射模型背后的理論知識，并展示在OpticStudio中建模的實例。
K- 相關散射模型
K- 相關模型的雙向散射分布函數 (BSDF) 由 Dittman2 提供：
其中s是有效的 RMS 表面粗糙度，s 是在高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率，β 則被定義為散射角 (?s) 的正弦減去鏡面反射角/透射角的正弦，上面的公式中的 β對應 OpticStudio 中的向量x：
我們發現 K-相關散射分布模型與 Harvey-Shack (ABg) 散射模型非常相似。它們之間的主要區別在于 K-相關模型在小散射角度時會有偏移：
圖1：K-相關與 Harvey-Shack 散射模型的比較。如 Dittman 所述，K-相關模型在小角度處會有偏移，這與在拋光表面上觀察到的散射行為一致。
Dittman 指出這種偏移與在許多拋光表面上觀察到的散射行為是一致的。
展開 本文旨在介紹如何在OpticStudio中模擬K-相關分布散射模型，并用實例分析將該模型與Harvey-Shack (ABg) 散射分布模型進行了比較。
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簡介
表面微粗糙度引起的散射通常具有 K-相關模型 (K-correlation model) 的特征。
1 該模型除了在小散射角區域有所不同外，與 Harvey-Shack (ABg) 模型十分相似。
在 OpticStudio 中，如果用戶想要使用K-相關散射模型對表面散射分布進行建模，則需要輸入大量的參數，并且這些參數都必須由用戶測量。
本文將概述 K-相關散射模型背后的理論知識，并展示在OpticStudio中建模的實例。
K- 相關散射模型
K- 相關模型的雙向散射分布函數 (BSDF) 由 Dittman
2 提供：
其中s是有效的 RMS 表面粗糙度，
s 是在高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率，β 則被定義為散射角 (?s) 的正弦減去鏡面反射角/透射角的正弦，上面的公式中的 β對應 OpticStudio 中的向量x：
我們發現 K-相關散射分布模型與 Harvey-Shack (ABg) 散射模型非常相似。它們之間的主要區別在于 K-相關模型在小散射角度時會有偏移：
圖
1
：
K-
相關
與
Harvey-Shack
散射模型的比較。如
Dittman
所述，
K-
相關模型在小角度處會有偏移，這與在拋光表面上觀察到的散射行為一致。
Dittman 指出這種偏移與在許多拋光表面上觀察到的散射行為是一致的。
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注：如果用戶獲得的特定散射表面信息是實測的 BSDF 數據，而不是通過將實測表面粗糙度數據擬合到 K-相關模型得到參數時，我們強烈建議直接使用實測的 BSDF 數據進行表面散射分布建模。
基于FDTD腳本驅動的全流程：微型球體聚合空心球殼nanojet建模、散射光場及散射效率曲線繪制實踐
焚天神劍
關鍵詞：FDTD腳本編碼，全流程，異型球體建模，nanojet散射，散射效率曲線
本設計運用FDTD腳本全流程，針對微型球體聚合的空心球殼nanojet展開深入探究。從建模著手，精心調試各項參數，成功搭建出精準且完善的模型，精準復現了空心球殼的結構特征。
注：如果用戶獲得的特定散射表面信息是實測的 BSDF 數據，而不是通過將實測表面粗糙度數據擬合到 K-相關模型得到參數時，我們強烈建議直接使用實測的 BSDF 數據進行表面散射分布建模。
以下是本次培訓具體詳情：
培訓主題
ASAP照明設計
課程大綱
· 照明光學概述
· 照明光學設計過程
· 輻射度測定和光度測定
· 光源建模
· 使用 CAD 模型
· 復合拋物面聚光器
· 自由曲面設計
· 色度學分析
· 照明系統散射建模
· 幾何物體
· 探測器物體
· 光源物體
· 運算符物體
· 理想化物體
· 使用測量的光源數據
4.3 聲散射噪聲計算
艦船的聲散射噪聲仿真重點在于聲源獲取和散射體建模。流體水動力獲得聲源的方法在前面導管槳算例中已經有介紹，在這里要特別提的是，如何將其等效成簡單的聲源，當然如果不考慮計算能耗仍然可以采用艦船流體繞流噪聲仿真的方法。
知識庫文章 使用 Henyey-Greenstein 分布對體散射進行建模（https://support.zemax.com/hc/zh-cn/articles/1500005577062） 對模型進行了進一步的解釋以及對 DLL 進行了全面分析。此外，有關 OpticStudio 中表面和體散射模型的詳細討論可以在此知識庫文章中找到：OpticStudio 中有哪些可用散射模型？
更方便地進行 EMI/EMC 測試
波動光學模塊
內置的波束包絡法克服了對與波長相當尺寸的幾何進行非散射電磁建模的障礙，非常適合于波導介質建模。不過，我們也可以使用 FEM-BEM 耦合來模擬散射電磁問題，從而避免處理網格剖分要求或幾何尺寸限制的問題。建立 EMI/EMC 測試臺模型就是這樣一個應用示例。
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· 探測器物體
· 光源物體
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· 理想化物體
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· 控制干擾光線
· 照明系統的公差分析
· 照明系統的優化
課程詳情
本培訓為線下培訓
對于閃光激光雷達系統的轉換，由于我們對光線分束和散射進行了建模，因此我們想要確保在 分析方式（Analyze With）設置中勾選 散射（Scattering）和 光線分束（Ray splitting）框。
因此，重點采樣（Importance Sampling）可用于迫使光線向任何指定物體的頂點散射（參閱文章“如何利用重點采樣進行高效的散射建模” （英文原文），了解關于重點采樣工作原理的更多詳情）。我們將使用的目標是 “物體11”，即成像模塊的物理孔徑，尺寸值為 0.7 mm。
