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圖1：四聚體超表面 圖2：透射譜以及Fano擬合第一個共振模式是一個磁偶極子模式，簡稱MD，文中進行了多級散射展開，MD的分量占主導，從場分布中也可以看到一個明顯的磁偶極子模式，如下圖所示。

透射率這是一個衰減因子，可降低任何經歷散射事件的光線的強度。當射線散射在散射體積內時，其強度乘以此因子。例如，如果傳輸設置為 0.89，則散射射線的強度將是散射前強度的 0.89 倍。此因子允許用戶考慮散射球體中能量的吸收。背景介質中能量的吸收將由卷"材料"列中指定的材料的傳輸屬性確定。

摘要 平面波對于任意半徑和折射率的球形粒子的吸收和散射問題，米氏解是嚴格的麥克斯韋求解器。其得到的散射效應十分依賴于粒子的大小。根據其特性，散射可以分為瑞利散射、米氏散射和幾何光學散射。VirtualLab Fusion中包含了完整的米氏解。該案例研究了不同半徑的球形粒子散射。

摘要 平面波對于任意半徑和折射率的球形粒子的吸收和散射問題，米氏解是嚴格的麥克斯韋求解器。其得到的散射效應十分依賴于粒子的大小。根據其特性，散射可以分為瑞利散射、米氏散射和幾何光學散射。VirtualLab Fusion中包含了完整的米氏解。該案例研究了不同半徑的球形粒子散射。

電磁散射（隱身）-涉及算法: 核心算法: 矩量法、時域有限差分法、有限元法。MoM: 非常適合計算電大尺寸開放目標的散射問題，但會產生稠密矩陣，內存和計算量巨大。FDTD: 在時域直接求解麥克斯韋方程組，一次計算可獲得寬頻帶響應，算法本身具有天然的并行性。-計算特點: MoM: 內存瓶頸和計算瓶頸并存。稠密矩陣的存儲和求逆是主要挑戰。FDTD: 高度并行。

在JCMsuite中，利用光學手性的形式和內置的手性參量可以計算光散射體的手性響應。結果表明，時間諧波光學手性密度服從局部連續性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。 在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應的手性參量是光學手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉換。

在JCMsuite中，利用光學手性的形式和內置的手性參量可以計算光散射體的手性響應。結果表明，時間諧波光學手性密度服從局部連續性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。 在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應的手性參量是光學手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉換。

本地字段增強電磁場與納米粒子的相互作用可以在粒子表面產生強烈的場增強。頻域場監測儀直接測量局部場增強。下圖顯示|E|的平方在XY，XZ和YZ平面中，在最接近腳本中指定的“目標波長”的波長點穿過粒子中心。 可以注意到，TFSF 源的邊緣在圖中可見，因為圖像顏色的突然變化。

在JCMsuite中，利用光學手性的形式和內置的手性參量可以計算光散射體的手性響應。結果表明，時間諧波光學手性密度服從局部連續性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。 在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應的手性參量是光學手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉換。

在JCMsuite中，利用光學手性的形式和內置的手性參量可以計算光散射體的手性響應。結果表明，時間諧波光學手性密度服從局部連續性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。 在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應的手性參量是光學手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉換。

在JCMsuite中，利用光學手性的形式和內置的手性參量可以計算光散射體的手性響應。結果表明，時間諧波光學手性密度服從局部連續性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。 在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應的手性參量是光學手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉換。

如何有效的模擬散射對于絕大多數光學系統進行散射模擬是非常重要的，尤其在雜散光分析中散射模擬更是關鍵所在。Zemax OpticStudio有很多內建散射模型，這些模型支持使用者輸入任何散射分布。在非序列光線追跡中，需要使用非常多的光線射向模擬物件才能精確而適當的模擬散射分布。特別是當觀察目標相對于散射點占據的立體角很小時，這個問題會更加嚴重。

本地字段增強電磁場與納米粒子的相互作用可以在粒子表面產生強烈的場增強。頻域場監測儀直接測量局部場增強。下圖顯示|E|2在XY，XZ和YZ平面中，在最接近腳本中指定的“目標波長”的波長點穿過粒子中心。可以注意到，TFSF 源的邊緣在圖中可見，因為圖像顏色的突然變化。源內的字段是“總計”字段（即事件字段 + 分散字段），而只有“分散”字段在源外部可見。

</p><p><img src="https://img.jishulink.com/upload/202304/42d7ce04673649fb8191262b7608080d.png" alt="捕獲.png"></p><p><br></p><p>那么我現在也用comsol求解了上述的米氏散射公式，我用三種方法求解消光，散射效率：（1）波動光學模塊。（2）在comsol中手動敲入米氏散射公式。

如我們預期的一樣，此時探測器接收到的總能量降低到初始能量的60%： 對表面添加散射屬性 與膜層的定義類似，散射屬性也是在物體屬性中的膜層/散射選項卡里進行定義的。在當前示例中，重新打開矩形體的物體屬性，在膜層/散射選項卡中選擇表面為1，前面。 在OpticStudio中內置了多種散射模型；默認情況下，表面不會定義任何散射。這里我們選擇朗伯散射模型。

基于有限元原理的彈性目標聲散射計算[D]. 哈爾濱: 哈爾濱工程大學, 2014.[8] 錢治文. 淺海波導中彈性結構聲輻射預報方法研究[D].哈爾濱: 哈爾濱工程大學, 2018.[9] 張培珍, 李秀坤, 王斌, 等. 掩埋目標聲散射特性及其實驗[J]. 聲學學報, 2018, 43(6): 934-942.

雖然 dn 可用于 DLL 中直接計算光線在一個已知的物體上的散射情況，但由于 SFV 的設計為不綁定于任何特定的物體，所以 SFV 無法直接讀取 dn 的值。所以為了保證SFV 功能中 BSDF 的精確計算，我們必須額外讀取 dn 的值（這對OpticStudio模型中實際的散射光線分布沒有影響）。

K- 相關散射模型K- 相關模型的雙向散射分布函數 (BSDF) 由 Dittman2 提供：其中s是有效的 RMS 表面粗糙度，s 是在高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率，β 則被定義為散射角 (?s) 的正弦減去鏡面反射角/透射角的正弦，上面的公式中的 β對應 OpticStudio 中的向量x：我們發現 K-相關散射分布模型與 Harvey-Shack

在 OpticStudio 非序列元件編輯器中的物體屬性中的膜層/散射選項卡下，您可以在物體的不同表面上定義不同的膜層和散射屬性。通過考慮偏振、分裂光線和散射光線，我們可以對不同散射類型的表面進行詳細的建模。

圖3：默認重點采樣根據其中發生散射的光學空間，存在兩種關注的一般情況。首先，考慮準直空間的情況，其包括外部平坦窗口，以及無焦和重新成像光學器件之間的中間空間。在這種空間中，探測器表面尺寸和位置由其尺寸和系統視場（FOV）決定。因此，準直空間中最有效的散射方向關注的區域類型是默認的散射到給定方向，同時設置適當的角度。