本文旨在介紹如何在OpticStudio中模擬K-相關(guān)分布散射模型，并用實(shí)例分析將該模型與Harvey-Shack (ABg) 散射分布模型進(jìn)行了比較。
（聯(lián)系我們獲取文章附件）
簡介
表面微粗糙度引起的散射通常具有 K-相關(guān)模型 (K-correlation model) 的特征。
1 該模型除了在小散射角區(qū)域有所不同外，與 Harvey-Shack (ABg) 模型十分相似。
在 OpticStudio 中，如果用戶想要使用K-相關(guān)散射模型對表面散射分布進(jìn)行建模，則需要輸入大量的參數(shù)，并且這些參數(shù)都必須由用戶測量。
本文將概述 K-相關(guān)散射模型背后的理論知識，并展示在OpticStudio中建模的實(shí)例。
K- 相關(guān)散射模型
K- 相關(guān)模型的雙向散射分布函數(shù) (BSDF) 由 Dittman
2 提供：
其中s是有效的 RMS 表面粗糙度，
s 是在高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率，β 則被定義為散射角 (?s) 的正弦減去鏡面反射角/透射角的正弦，上面的公式中的 β對應(yīng) OpticStudio 中的向量x：
我們發(fā)現(xiàn) K-相關(guān)散射分布模型與 Harvey-Shack (ABg) 散射模型非常相似。它們之間的主要區(qū)別在于 K-相關(guān)模型在小散射角度時(shí)會有偏移：
圖
1
：
K-
相關(guān)
與
Harvey-Shack
散射模型的比較。如
Dittman
所述，
K-
相關(guān)模型在小角度處會有偏移，這與在拋光表面上觀察到的散射行為一致。
Dittman 指出這種偏移與在許多拋光表面上觀察到的散射行為是一致的。
K-相關(guān)模型的 BSDF 不能進(jìn)行解析積分，但在 OpticStudio 中可以運(yùn)用蒙特卡羅功能來實(shí)現(xiàn)這種散射分布的模擬。如果我們忽略 BSDF 方程中的 cos(?s)項(xiàng)并使 ?i = 0，全積分散射 (TIS) 的近似形式為：
正如我們所看到的，K- 相關(guān)散射模型需要輸入大量的參數(shù)，我們將在下文中更詳細(xì)地介紹這些參數(shù)。
注：如果用戶獲得的特定散射表面信息是實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)，而不是通過將實(shí)測表面粗糙度數(shù)據(jù)擬合到 K-相關(guān)模型得到參數(shù)時(shí)，我們強(qiáng)烈建議直接使用實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)進(jìn)行表面散射分布建模。下一期我們將會詳細(xì)介紹
在 OpticStudio 中直接使用實(shí)測 BSDF 數(shù)據(jù)的具體步驟。
K-相關(guān)散射模型的參數(shù)輸入
K-相關(guān)散射模型可以被6個(gè)參數(shù)所定義：
R = 表面透射/反射率
dn = 表面邊緣折射率的變化
σ = 整體等效RMS表面粗糙度(μm)
λ = “測量”波長(μm)
B = 2πL，其中 L = 常規(guī)表面波長(mm)
s = 高空間頻率中 BSDF 的 log-log 斜率
等效 RMS 表面粗糙度是在0到1/
λ的空間頻率范圍內(nèi)計(jì)算的，其中選擇非零值
λ 是為了給全積分散射 (TIS) 提供一個(gè)有限的歸一化因子。用表面粗糙度的實(shí)驗(yàn)測量來推導(dǎo)K相關(guān)散射的參數(shù)時(shí)，
λ 的選擇完全隨機(jī)。
λ 用于定義逆截止頻率和計(jì)算測量數(shù)據(jù)的功率譜密度 (PSD)，隨后功率譜密度 (PSD) 將被轉(zhuǎn)換成 BSDF。如果實(shí)驗(yàn)人員在分析測量的表面粗糙度數(shù)據(jù)時(shí)選擇了
λ這個(gè)值，則在其他波長下的等效表面粗糙度可根據(jù)以下公式計(jì)算：
如果某一特定表面的可用信息是實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)而不是表面粗糙度數(shù)據(jù)，我們強(qiáng)烈建議在 OpticStudio 中對表面散射分布建模時(shí)直接使用實(shí)測的 BSDF 數(shù)據(jù)。
下一期
我們將會詳細(xì)介紹
在 OpticStudio 中使用 BSDF 數(shù)據(jù)建模表面散射的步驟。
在 OpticStudio 中，表面透射/反射系數(shù) (R)是由表面的膜層（或未設(shè)置膜層）決定的，而表面邊界處的指數(shù)變化 (dn) 則是直接計(jì)算的。剩下四個(gè) K-相關(guān) BSDF 的參數(shù) (
σ,
λ,
B, s) 必須在 OpticStudio 中作為 K- 相關(guān)散射的參數(shù)輸入：
DLL 需要一個(gè)額外的參數(shù) (SFV1) 來為散射函數(shù)查看器 (SFV) 讀取dn的值。
雖然 dn 可用于 DLL 中直接計(jì)算光線在一個(gè)已知的物體上的散射情況，但由于 SFV 的設(shè)計(jì)為不綁定于任何特定的物體，所以 SFV 無法直接讀取 dn 的值。
所以為了保證SFV 功能中 BSDF 的精確計(jì)算，我們必須額外讀取 dn 的值（這對OpticStudio模型中實(shí)際的散射光線分布沒有影響）。
相關(guān)的 DLL (K-CORRELATION.DLL) 包含在 OpticStudio 中，并位于相應(yīng)的安裝文件夾中 ({Zemax}\DLL\SurfaceScatter\)。
s的輸入值對應(yīng)參考波長（=“測量”波長），由 “Ref. Wave.”參數(shù)定義，而在K-相關(guān)BSDF方程中使用的λ值對應(yīng)光線的波長。在光線波長下的等效 RMS 表面粗糙度由 l 和 s 的輸入值使用上述公式（關(guān)聯(lián) σ(
λ2) 和 σ(
λ1) 的公式）計(jì)算。一旦確定了 σ 的換算值，則利用以下公式計(jì)算全積分散射：
當(dāng)重點(diǎn)采樣關(guān)閉時(shí)，用 DLL 計(jì)算的 TIS 值會被用來確定光線散射的能量；其余的入射能量則遵循鏡面光線路徑。為了確保 TIS 的計(jì)算在這種情況下能夠正常運(yùn)行，請將“散射比例 (Scatter Fraction)”設(shè)置為1，如上所示。
當(dāng)重點(diǎn)采樣啟動(dòng)時(shí)，光線散射的能量由“散射比例”參數(shù)確定。因此，這時(shí)用戶應(yīng)該用使用上述公式計(jì)算出的 TIS 值手動(dòng)設(shè)置“散射比例”參數(shù)。
在任何一種情況下，如果輸入?yún)?shù)使得 TIS > 1，則 DLL 將不運(yùn)行散射，且所有的入射能量將遵循鏡面光線路徑。
簡單示例
本示例考慮法向入射光鏡面散射的情況，假設(shè)表面反射系數(shù)為0.95，在 632.8 nm的波長下，等效 RMS 表面粗糙度為3 nm。另外，我們假設(shè)表面的是由常規(guī)的表面波長0.8 mm所測量的，BSDF 的 log-log 斜率為3。該曲面的 K- 相關(guān)模型的輸入?yún)?shù)如下所設(shè)置：
對于波長300 nm的光在這個(gè)表面上的散射，我們可以使用上文提供的公式來計(jì)算等效表面粗糙度：
該值可用于計(jì)算TIS：
因此，在這種情況下，大約1.6%的入射能量在反射時(shí)從表面散射，而其余的反射能量將遵循鏡面反射光線的路徑。
我們設(shè)計(jì)了簡單的 OpticStudio 文件( Simple Example.ZMX) 來驗(yàn)證這個(gè)計(jì)算。該文件位于本文附件的 ZIP 文件夾中
(聯(lián)系我們獲取文章附件)。在這個(gè)文件中，一個(gè)小探測器（物體3）被放置在軸上以測量鏡面反射光線的能量，而大探測器（物體4）則用來測量散射光的能量。我們發(fā)現(xiàn)進(jìn)入散射的能量大約是1.6%，與預(yù)期一致：
注意：使用單個(gè)檢測器和光線過濾字符串 (filter strings) 也可以完成相同的計(jì)算。
比較 K- 相關(guān)散射和 ABg 散射模型
從 BSDF 方程可以看出，K- 相關(guān)散射模型與 ABg 模型非常相似。實(shí)際上，我們發(fā)現(xiàn)使用以下輸入?yún)?shù)時(shí)，兩個(gè)模型給出的結(jié)果幾乎是一致的：
?i (= incident angle) = 0 degrees
K-correlation model: B = λ; S = 2
ABg model: A = [4π ? R ? dn2 ? σ2] / [lin(2) ? λ2]; B = 1; g = 2
在這種情況下，ABg模型的BSDF方程為：
K- 相關(guān)模型的 BSDF 方程與上述方程幾乎是相同的，因?yàn)樗话粋€(gè)額外的cos(?s) 項(xiàng)。正是這個(gè)附加項(xiàng)的存在導(dǎo)致了 K- 相關(guān) BSDF 中的小角度偏移，Dittman 指出這與許多在拋光表面上的觀察到的現(xiàn)象是一致的。我們創(chuàng)建了 OpticStudio 文件 (K-correlation vs. ABg.ZMX) 來研究鏡面在正入射時(shí)散射產(chǎn)生的輻射強(qiáng)度分布的結(jié)構(gòu)。該文件在本文附件的 .ZIP 文件夾中提供。與前面的示例一樣，該文件包含兩個(gè)探測器：一個(gè)用于記錄鏡面能量，另一個(gè)用于記錄散射強(qiáng)度圖。在這種情況下，K- 相關(guān)模型的設(shè)置如下：
這些輸入對應(yīng)的 TIS 值為0.117（此時(shí)，光線波長=參考波長=0.55 mm）。我們再創(chuàng)建一個(gè) ABg 散射模型來模擬這些 K- 相關(guān)參數(shù)，并使其計(jì)算出相同的 TIS值：
我們會得到兩種散射模型 Y = 0度的輻射強(qiáng)度數(shù)據(jù)，并將結(jié)果繪制在Excel 圖上：
正如預(yù)期，由于 BSDF 中 cos(?s) 項(xiàng)的存在，K- 相關(guān)模型結(jié)果的峰值更高。K-相關(guān)模型的輻射強(qiáng)度也更大，因?yàn)檫@是讓兩種模型間的 TIS 值（= 散射分布的積分）相等所必需的。用峰值振幅比（≈√2）和散射角余弦對 ABg 模型的結(jié)果進(jìn)行縮放，得到與 K-相關(guān)模型完全一致的結(jié)果：
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