韓國半導體廠商
關注創建者：CINNO 創建時間：2023-05-31
韓國半導體廠商的實例教程
公司創辦八年來，始終圍繞泛半導體產業鏈，在多維度為企業、政府、投資者提供權威而專業的咨詢服務，包括但不限于產業資訊、市場咨詢、盡職調查、項目可研、管理咨詢、投融資等方面，覆蓋企業成長周期各階段核心利益訴求點，在顯示、半導體、消費電子、智能制造及關鍵零組件等細分領域，積累了數百家大陸、臺灣、日本、韓國、歐美等高科技核心優質企業客戶。
顯示及半導體行業激光設備市場分析報告大綱
第一章：激光設備行業綜述
一、激光設備及產業鏈定義
二、激光設備應用場景介紹
1.顯示面板行業
2.半導體行業
3.LED行業應用
4.其他電子信息產業
三、全球及國內激光設備行業發展介紹
1.全球市場
2.國內市場
第二章：激光設備在顯示及半導體行業的未來發展趨勢
一、激光設備在顯示及半導體等行業發展驅動因素分析
1.市場
2.技術
3.政策
4.其他
二、激光設備應用于顯示面板的市場趨勢分析
1.全球面板產能趨勢分析
2.全球面板技術趨勢分析
三、激光設備應用于泛半導體的市場趨勢分析
1.晶圓市場規模及技術趨勢分析
2.第三代化合物半導體市場規模及技術趨勢分析
3.LED外延片市場規模及技術趨勢分析
四、激光設備市場容量趨勢分析
1.顯示面板用激光相關設備市場容量趨勢分析
1.1 激光切割設備
1.2 激光修復設備
2.泛半導體用激光相關設備市場容量趨勢分析
2.1半導體激光切割設備
2.2 LED行業激光設備
第三章：全球核心激光設備廠商分析
一、海外激光設備廠商分析
1.美國Coherent
2.韓國AP System
3.韓國LIS
4.韓國EO Technics
5.韓國PHILOPTICS
6.韓國CHARM
7.韓國KOSES
8.法國Amplitude
9.日本DISCO
10.日本東京精密
11.美國MKS(ESI)
二、國內激光設備廠商分析
展開 三星電子設備投資年度趨勢
圖源：asiatoday
此外，據日經中文網去年9月報道，三星電子和出資對象企業提交給韓國證券交易所的業務報告書顯示，2020年7月至2021年9月，三星電子至少已對8家韓國上市企業和1家上市企業的子公司出資，共計達到9家，其中設備廠商包括半導體測試設備廠商YIK Corporation、晶圓研磨設備廠商KC Tech、真空泵設備廠商LOT Vacuum、晶圓清洗相關設備廠商New Power Plasma。
與此同時，SK海力士也保持著保守的投資立場，2018年在半導體設施上投資17.38萬億韓元，2019年減少至12.747萬億韓元，2020年減少至9.89萬億韓元，2021年增加至13.4萬億韓元。據 Kiwoom Securities 稱，SK 海力士今年的設施投資預計將比上年增加 47%，達到 17 萬億韓元。
據韓國經濟新聞網報道，SK集團決定在半導體、電動汽車電池、綠色能源、生物技術等4大領域向美國投資290億美元。其中，150億美元將用于半導體領域，SK集團的半導體子公司SK海力士計劃在美國建設存儲器半導體尖端封裝制造設備和研發(R&D)中心。
嶄露頭角的韓國半導體設備廠商
經過3年的研發和投入，今年第一季度韓國設備銷售額以 51.5 億美元（約合 64.452 億韓元）排名全球第二。
從半導體設備工藝發展來說，目前在前道設備方面，韓國設備廠商的技術處于生產核心的蝕刻、清洗和沉積工藝的60-80%水平，用于沉積工藝的熱處理設備在全球市場上具有競爭力，但曝光設備、離子注入設備和測量分析設備技術基礎薄弱。而在后道設備領域，韓國設備廠商總體處于競爭水平。
展開 CINNO Research 產業資訊，日本材料廠商正在韓國和中國臺灣增產半導體材料。東京應化將韓國分公司的感光材料（Photo Resist，用于形成線路）產能擴大一倍，大金將在韓國建設新工廠，生產用于半導體制造工序使用的氣體。雖然迄今為止一直從日本進口，但現在希望通過提高尖端半導體匯集地的產能，來擴大供應鏈。
東京應化在韓國仁川的現有工廠投資數十億日元，以擴充設備，將產能提高至2018年的兩倍。感光材料用于硅晶圓上電路繪制。東京應化的感光材料占全球市場份額的25%，居首位。
東京應化將首先從日本進口生產感光材料（可用于尖端半導體生產技術—EUV極紫外光刻）的原料樹脂，然后在韓國本地采購溶劑，最后進行組合生產。
（圖片來源：日本經濟新聞）
大金決定與韓國的半導體生產設備廠商設立合資公司，投資40億日元（約2.36億元）在韓國當地成立新工廠。新工廠自2022年開始生產蝕刻工序中使用的氣體。此前大金一直供應由日本和中國大陸生產的產品，今后將通過本土化生產提高競爭力。
東京應化和大金將分別為韓國三星電子和SK海力士等半導體巨頭企業提供半導體材料。
信越化學在臺灣地區的感光材料新工廠已開始運營。
展開 CINNO Research產業資訊，韓國半導體廠商三星電子和SK海力士已向荷蘭阿斯麥公司（ASML）訂購了新一代半導體設備“High NA”極紫外線(EUV)曝光設備。繼臺積電（TSMC）和英特爾（Intel）之后，韓國半導體制造商也即將導入可以實現2nm工藝生產的設備，預計最尖端的半導體工藝領域的競爭將越來越激烈。
根據韓媒ETNews報道，ASML在19日的業績公告中表示：“對于EUV High NA業務，隨著獲取新的Twin Scan EXE:5200設備訂單，目前所有的EUV客戶都已下單了High NA的設備產品。”High NA EUV設備是將表示光的集光能力的鏡頭開口數(NA)從0.33提高到0.55的設備。與現有EUV設備相比，High NA EUV設備可以繪制出更細微的半導體電路。因此業內普遍認為，要實現2nm工藝，High NA設備是必須的。
英特爾和臺積電已經正式表明導入High NA EUV設備。英特爾去年以重新進入Foundry市場為契機，發布綜合半導體企業(IDM 2.0)戰略時曾稱，公司最先采購了High NA EUV設備。這是為了先發制人地導入新一代設備，追趕臺積電和三星電子的系統半導體生產能力。此后，臺積電也宣布已簽訂High NA EUV設備采購合同，但三星電子和SK海力士方面對于設備采購合同的簽訂卻閉口不言。此次ASML的發布，實際上正式公開了韓國半導體廠商導入了High NA設備。但是三星電子和SK海力士方面表示，導入High NA EUV設備是“無法公開聲明的問題”。ASML現有的EUV設備客戶主要包括三星電子和SK海力士、英特爾、臺積電和Micro等。
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