CINNO Research產業資訊，韓國半導體廠商三星電子和SK海力士已向荷蘭阿斯麥公司（ASML）訂購了新一代半導體設備“High NA”極紫外線(EUV)曝光設備。繼臺積電（TSMC）和英特爾（Intel）之后，韓國半導體制造商也即將導入可以實現2nm工藝生產的設備，預計最尖端的半導體工藝領域的競爭將越來越激烈。

根據韓媒ETNews報道，ASML在19日的業績公告中表示：“對于EUV High NA業務，隨著獲取新的Twin Scan EXE:5200設備訂單，目前所有的EUV客戶都已下單了High NA的設備產品。”High NA EUV設備是將表示光的集光能力的鏡頭開口數(NA)從0.33提高到0.55的設備。與現有EUV設備相比，High NA EUV設備可以繪制出更細微的半導體電路。因此業內普遍認為，要實現2nm工藝，High NA設備是必須的。

英特爾和臺積電已經正式表明導入High NA EUV設備。英特爾去年以重新進入Foundry市場為契機，發布綜合半導體企業(IDM 2.0)戰略時曾稱，公司最先采購了High NA EUV設備。這是為了先發制人地導入新一代設備，追趕臺積電和三星電子的系統半導體生產能力。此后，臺積電也宣布已簽訂High NA EUV設備采購合同，但三星電子和SK海力士方面對于設備采購合同的簽訂卻閉口不言。此次ASML的發布，實際上正式公開了韓國半導體廠商導入了High NA設備。但是三星電子和SK海力士方面表示，導入High NA EUV設備是“無法公開聲明的問題”。ASML現有的EUV設備客戶主要包括三星電子和SK海力士、英特爾、臺積電和Micro等。

隨著全球半導體制造廠商全部向ASML下了 High NA EUV設備訂單，預計從大規模量產開始的2025年起，將展開激烈的競爭。High NA EUV設備雖然比目前使用的EUV設備價格高，但因能夠一次性實現超細微工藝(單次平移)，從而可大幅提升生產效率。特別是三星電子在3nm工藝量產后，為了量產2nm工藝，也有必要主動確保High NA EUV設備。據推測，現有的EUV設備價格為2000億至3000億韓元（約10~15億人民幣），而High NA EUV設備價格高達5000億韓元（約25億人民幣）。

根據ASML在當天發布的第三季度經營業績，公司實現凈銷售額58億歐元，毛利率為51.8%，當期凈利潤為17億歐元。預計第四季度凈銷售額為61億至66億歐元。

ASML首席執行官（CEO）兼總裁Peter Wennink稱：“由于包括通貨膨脹、消費者信心指數下跌、經濟衰退風險等多個全球宏觀經濟的憂慮問題，存在市場不確定性，雖然感知到不同市場的不同需求變化，但整體上ASML的系統需求仍然強勁“，并稱“在此情況下，第三季度High NA系統等EUV設備銷售額達到38億歐元，最大季度預訂銷售額約89億歐元。”

ASML的High NV EUV設備開發路線圖

- END -

推薦閱讀

點擊圖片即可閱讀全文

更多商務合作，歡迎與小編聯絡！

掃碼請備注：姓名+公司+職位

我是CINNO最強小編, 恭候您多時啦！

CINNO于2012年底創立于上海，是致力于推動國內電子信息與科技產業發展的國內獨立第三方專業產業咨詢服務平臺。公司創辦十年來，始終圍繞泛半導體產業鏈，在多維度為企業、政府、投資者提供權威而專業的咨詢服務，包括但不限于產業資訊、市場咨詢、盡職調查、項目可研、管理咨詢、投融資等方面，覆蓋企業成長周期各階段核心利益訴求點，在顯示、半導體、消費電子、智能制造及關鍵零組件等細分領域，積累了數百家大陸、臺灣、日本、韓國、歐美等高科技核心優質企業客戶。