4.3 光柵材料與UV映射配置 自定義光學材料：分別創建輸入、輸出耦合光柵專用材料，綁定光柵插件文件與參數文件，配置紋理貼圖基礎參數； UV映射定向：新建UV映射坐標系，精準匹配光柵排布方向，確保衍射光路傳播角度符合設計值； 漸變效率優化：在輸出耦合面添加漸變蒙版紋理，通過梯度亮度調節，提升AR HUD全屏成像亮度均勻性； 圖4：波導光柵屬性配置界面 4.4

運行仿真并查看結果。大圓柱體垂直運動的歷史曲線圖如圖 6 所示。在 0 到 1 秒期間，圓柱體因重力向下移動，隨后因小圓柱體的運動向上移動約 0.0075 毫米，與預測值一致。作用在小圓柱體上的力如圖 7 所示。24.5 × 402.6 ≈ 9800 牛頓。總之，要舉升 9800 牛頓的重物，僅需 24.5 牛頓的輸入力。

Zemax OpticStudio 的版本必須為 Ansys Zemax OpticStudio Premium 或 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise。不支持 Legacy Zemax OpticStudio。Lease 和 Paid-Up 兩類 Ansys Zemax 許可證均可用于使用該工具。

多物理場仿真 在仿真領域，人們大力推動充分利用LS-DYNA軟件等工具中的多物理場功能，并將其與Ansys Mechanical?軟件、Ansys Sherlock?工具、Ansys Icepak?軟件和Ansys Fluent?應用耦合。這樣，便可以評估跌落產生的載荷和變形如何影響產品的性能和可靠性。

插入的command命令如下，用戶需要注意自己更改部分變量值和膠層NS名稱； 通過以上方式即可粗略完成膠層凝固過程變形仿真——使用降溫等效膠層凝固體積收縮+降溫體積收縮； 用戶需要實際的試驗測試結果，對標驗證輸入參數： TotalChemShrinkage = 0.002 !

第五步：結果后處理（提取反力） 計算完成后，我們需要提取端面的總反力 查看變形： 插入 Deformation -> Directional，驗證彈簧頂端的Z 向位移確實是 20mm。 提取力值（關鍵）： 右鍵 Solution -> Insert -> Probe -> Force Reaction。

://optics.ansys.com/hc/en-us/articles/42661829809043-How-to-simulate-exit-pupil-expander-EPE-with-diffractive-optics-for-augmented-reality-AR-system-in-OpticStudio-part-2 https://optics.ansys.com/hc

2.線程與核心 在給定核心數量的情況下，我們可以調整線程數和進程數，以查看是否能提升性能。本例中使用機器上的所有核心數（28），但您可以選擇任意數量的核心數進行測試，只需確保線程數和進程數之和等于該固定值即可。使用附件中的基準測試文件，運行腳本FDTD_bench_thread.lsf，即可得到以下結果。 在這種情況下，使用28個進程和1個線程可以達到極高的求解速度。

該工作流程利用Ansys Lumerical MODE中的EME（特征模擴展）求解器進行光學仿真，利用Ansys Lumerical CML Compiler生成緊湊模型，并利用Ansys Lumerical INTERCONNECT進行光子電路設計和仿真。 此工作流程僅使用Synopsys產品即可提供一套內部解決方案，以應對光子集成電路設計中的復雜挑戰。

優化變量包括前表面X方向以及Y方向的曲率半徑以及后截距。執行優化，很快地，OpticStudio再次計算得到了最優系統。 需要特別指出的是，您可以使用優化操作數IMSF來對這個技巧進行拓展。操作數IMSF可以使您在評價函數中的任意位置重新定義像面。