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結構2則模擬了光線在較大的粒子中發生散射時的情形，此時光學現象的討論由瑞利極限轉變為米氏散射的范疇。簡介根據麥克斯韋方程式，光線入射球型粒子會產生散射的現象，而米氏散射理論為此提供了解析解。此理論可推廣至任意大小的粒子，因此可適用在所有"粒子半徑對入射波長比"的情況。這對于模擬白云中的散射現象1時很有幫助，同時也有助于解釋光線入射特定物質，如牛奶和生物組織時所產生的變化。

（3）用comsol內置好的米氏散射公式函數。發現三者求解的結果一致，能復現出論文，如下圖所示，證明了對散射，消光效率求解的正確性。

摘要 平面波對于任意半徑和折射率的球形粒子的吸收和散射問題，米氏解是嚴格的麥克斯韋求解器。其得到的散射效應十分依賴于粒子的大小。根據其特性，散射可以分為瑞利散射、米氏散射和幾何光學散射。VirtualLab Fusion中包含了完整的米氏解。該案例研究了不同半徑的球形粒子散射。

摘要 平面波對于任意半徑和折射率的球形粒子的吸收和散射問題，米氏解是嚴格的麥克斯韋求解器。其得到的散射效應十分依賴于粒子的大小。根據其特性，散射可以分為瑞利散射、米氏散射和幾何光學散射。VirtualLab Fusion中包含了完整的米氏解。該案例研究了不同半徑的球形粒子散射。

DGTD 求解器考慮使用米氏散射 （DGTD）獲得金屬納米顆粒的高精度結果。DGTD 求解器中有限元網格的性質可以實現更好的收斂，并且不易出現階梯和熱點問題。下圖顯示了更高精度 FDTD 仿真的橫截面。FDTD 與理論結果之間的一致性顯然要好得多。此外，較小的網格會產生更高分辨率的場輪廓，從而更好地解析金屬界面附近的場。

DGTD 求解器考慮使用米氏散射 （DGTD）獲得金屬納米顆粒的高精度結果。DGTD 求解器中有限元網格的性質可以實現更好的收斂，并且不易出現階梯和熱點問題。下圖顯示了更高精度 FDTD 仿真的橫截面。FDTD 與理論結果之間的一致性顯然要好得多。此外，較小的網格會產生更高分辨率的場輪廓，從而更好地解析金屬界面附近的場。

當大氣中粒子的直徑與輻射的波長相當時發生的散射稱為米氏散射，如云霧的粒子大小與紅外線(0.7615um)的波長接近，所以云霧對紅外線的輻射主要是米氏散射。是故，多云潮濕的天氣對米氏散射的影響較大。 Mie提出的米氏散射理論是對于處于均勻介質的各向同性的單個介質球在單色平行光照射下，基于麥克斯韋方程邊界條件下的嚴格數學解。100多年來，米氏散射理論得到了很大發展，適用范圍逐漸推廣。

望遠鏡系統包括3.5米望遠鏡，封裝結構，附帶的成像相機。這個研究的目的是評價這個系統的雜散光性能，確定何處的改變能夠提高系統的離軸排斥特性，以及確定這些改動的有效性。建立了一個詳細的望遠鏡幾何模型，并為這個望遠鏡系統和封裝部件建立了散射模型。我們建立的軟件模型重現了望遠鏡的針孔雜散光圖像，由此驗證了這個模型的準確性。

唯一的方法就是參照一些圖片資料和一些權威刊物的報道（如簡氏武器裝備年鑒等會定期公布一些艦船的主尺度），并根據船舶設計方面的一些固有的規律自己進行反求性質的計算機建模。

因此，該雷達散射仿真將使用Ansys HFSS完成。HFSS可以精確模擬邊緣散射，爬波，空腔返回，因此它將是我們選擇的軟件。

，最大速度出現在800米處。

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光學表面被分配了兩個散射函數。Harvey2 BSDF模擬了由RMS微粗糙3導致的散射。米散射模型使用一個IEST-STD-1246D顆粒尺寸分布函數來模擬由微粒污染4,5導致的散射。非光學表面的處理從黑漆到光滑的白色而有所不同。 分析結果 關鍵/照明物分析表明從視場外部進來的光線沒有直接的路徑到達攝像頭。

電話：027-87878386郵箱：market@ueotek.com 推薦閱讀 · ZEMAX | 如何使用米氏散射模型模擬環境中的散射現象 · ZEMAX | 如何使用 ISO 元件制圖工具 · ZEMAX |

圖12散射對話框顯示了多種方法定義散射 圖13重要性采樣的菜單選項應用到一個特定表面。如圖所示，多個散射屬性可以應用于多個重要性采樣目標。注意到在該圖中指定了一個米散射散射體屬性和一個Harvey Shack拋光表面散射體，另外定義了兩個重要性采樣目標，一個是指定了一個方向，另一個朝向一個表面-焦平面。 7.

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雷射雷達向場景中發射雷射脈衝：光照射到周圍的物體上發生散射，部分光被散射回雷射雷達探測器。如下圖所示：來自紅色行人的散射光到達了雷射雷達探測器的一個單位圖元上。雷射雷達會將接收到返回信號花費的時長記錄下來，即飛行時間，並將飛行時間轉換為距離。圖元的位置可表明入射光的方向。這兩個值都表明散射光線來自站在離貨車10米遠的紅色行人。

圖12散射對話框顯示了多種方法定義散射 圖13重要性采樣的菜單選項應用到一個特定表面。如圖所示，多個散射屬性可以應用于多個重要性采樣目標。注意到在該圖中指定了一個米散射散射體屬性和一個Harvey Shack拋光表面散射體，另外定義了兩個重要性采樣目標，一個是指定了一個方向，另一個朝向一個表面-焦平面。

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擅長領域：微納光子學、拓撲光子學、非厄米光子學、光芯片、電磁超材料器件等。