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透射率這是一個衰減因子，可降低任何經歷散射事件的光線的強度。當射線散射在散射體積內時，其強度乘以此因子。例如，如果傳輸設置為 0.89，則散射射線的強度將是散射前強度的 0.89 倍。此因子允許用戶考慮散射球體中能量的吸收。背景介質中能量的吸收將由卷"材料"列中指定的材料的傳輸屬性確定。

<p>對于球形納米顆粒被平面光照射后的散射問題，前人mie已經給出了精確的數值解析解來求解散射效率，消光效率，吸收效率，我簡稱mie散射公式/米氏散射公式。其他形貌（金棒形，金納米星形，正方形等等）不適用mie散射公式。

由圖可知, 仿真后的不同垂直方向角的改變對于模型聲散射的影響在于低頻響應的微弱改變, 對于散射聲壓級曲線的大體趨勢影響不大。圖10 45°入射散射曲線圖11 0°入射散射曲線接下來考慮正橫方向入射時目標的散射聲場情況, 建立潛艇縱切面模型, 如圖12所示。

如何有效的模擬散射對于絕大多數光學系統進行散射模擬是非常重要的，尤其在雜散光分析中散射模擬更是關鍵所在。Zemax OpticStudio有很多內建散射模型，這些模型支持使用者輸入任何散射分布。在非序列光線追跡中，需要使用非常多的光線射向模擬物件才能精確而適當的模擬散射分布。特別是當觀察目標相對于散射點占據的立體角很小時，這個問題會更加嚴重。

如我們預期的一樣，此時探測器接收到的總能量降低到初始能量的60%： 對表面添加散射屬性 與膜層的定義類似，散射屬性也是在物體屬性中的膜層/散射選項卡里進行定義的。在當前示例中，重新打開矩形體的物體屬性，在膜層/散射選項卡中選擇表面為1，前面。 在OpticStudio中內置了多種散射模型；默認情況下，表面不會定義任何散射。這里我們選擇朗伯散射模型。

目前為止，光學成像的實際應用都集中在自由空間、透明介質或者弱散射環境下，云、霧、渾濁溶液、生物組織等散射介質仍然是光學成像難以逾越的障礙。數十年以來，科研人員嘗試了諸多方法克服散射對光學成像的影響，發展出了光學相位共軛、波前整形、散射矩陣測量、點擴散函數（PSF）卷積、散斑自相關等方法，各類輔助算法也蓬勃發展。

遠場角散射在大多數散射實驗中，散射場（輻射圖）的測量相對于所考慮的波長尺度遠離散射體。“scat_ff” 監視器返回遠場中的散射場分布。以下極坐標圖顯示了 X-Y、X-Z 和 Y-Z 平面中遠場中的散射場。每個圖都包含兩種顏色的線條：藍色表示 FDTD 仿真結果，綠色表示 mie3ds12 腳本命令的分析結果。第一個圖顯示了如何在每個平面中定義極角。

比較 K- 相關散射和 ABg 散射模型從 BSDF 方程可以看出，K- 相關散射模型與 ABg 模型非常相似。

散射方向關注的區域（Scatter Direction Regions of Interest）是有效散射計算的主要部分。它們可以將散射光線引導到只關注的區域。在產生散射光線時，FRED評估由散射方向關注的區域所朝向的立體角，并處理輻射度，以便于基于BSDF散射模型可以計算正確的通量。本文提供了一個分步過程，用于定位和確定最大效率的散射方向關注區域的大小。

比較 K- 相關散射和 ABg 散射模型從 BSDF 方程可以看出，K- 相關散射模型與 ABg 模型非常相似。

在OpticStudio中內置了多種散射模型；默認情況下，表面不會定義任何散射。這里我們選擇朗伯散射模型。在選擇朗伯散射模型后會激活兩個關鍵的數據輸入欄：光線數 (Numbers of Rays) 和散射函數 (Scatter Fraction)。散射函數必須在0（表示入射光能量的0%會發生散射）到1（表示入射光能量的100%會發生散射）之間。

這是因為FRED已經將入射通量的15%分配給了散射模型。反射系數0.55實際上是考慮過散射之后的剩余功率值。

簡介 散射方向關注的區域（Scatter Direction Regions of Interest）是有效散射計算的主要部分。它們可以將散射光線引導到只關注的區域。在產生散射光線時，FRED評估由散射方向關注的區域所朝向的立體角，并處理輻射度，以便于基于BSDF散射模型可以計算正確的通量。本文提供了一個分步過程，用于定位和確定最大效率的散射方向關注區域的大小。

如何有效的模擬散射對于絕大多數光學系統進行散射模擬是非常重要的，尤其在雜散光分析中散射模擬更是關鍵所在。Zemax OpticStudio有很多內建散射模型，這些模型支持使用者輸入任何散射分布。在非序列光線追跡中，需要使用非常多的光線射向模擬物件才能精確而適當的模擬散射分布。特別是當觀察目標相對于散射點占據的立體角很小時，這個問題會更加嚴重。

我們組合了光學相干斷層掃描（OCT）和AF成像系統，依據散射層的厚度和濃度來測量AF信號的強度。使用由生成的OCT圖像計算得到的厚度和散射濃度，結合AF-OCT系統能夠估計由上皮組織散射引起的AF損耗。我們定義了一個校正因子來計算上皮組織中的散射損耗，并且計算了一個校正散射AF信號。

在JCMsuite中，利用光學手性的形式和內置的手性參量可以計算光散射體的手性響應。結果表明，時間諧波光學手性密度服從局部連續性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于研究電磁能量的標準消光實驗。 在電磁能量的情況下，消光由散射和損失[2]組成。對應的手性參量是光學手性的消光散射，以及體積和界面上的手性轉換。

因此，“Lambertian”散射函數被添加到對象屬性中圓柱的側面，如下所示： 新的著色模型圖如下所示。在散射函數之前應用TIR時，反射光線（以綠色顯示）被散射，但光線全部散射到圓柱體中。實際上，在粗糙的表面上，光線也會從圓柱體中散射出來。 當光線與圓柱體相交時，OpticStudio中會進行兩次計算。首先，軟件根據斯涅爾定律計算鏡面反射光線路徑。

摘要 平面波對于任意半徑和折射率的球形粒子的吸收和散射問題，米氏解是嚴格的麥克斯韋求解器。其得到的散射效應十分依賴于粒子的大小。根據其特性，散射可以分為瑞利散射、米氏散射和幾何光學散射。VirtualLab Fusion中包含了完整的米氏解。該案例研究了不同半徑的球形粒子散射。

遠場角散射在大多數散射實驗中，散射場（輻射圖）的測量相對于所考慮的波長尺度遠離散射體。“scat_ff” 監視器返回遠場中的散射場分布。以下極坐標圖顯示了 X-Y、X-Z 和 Y-Z 平面中遠場中的散射場。每個圖都包含兩種顏色的線條：藍色表示 FDTD 仿真結果，綠色表示 mie3ds12 腳本命令的分析結果。第一個圖顯示了如何在每個平面中定義極角。

于大多數散射模型，透射散射和反射散射之間的BSDF值沒有差異，因此無需指定繪圖是透射還是反射。然而，表面顆粒 (Mie) 散射模型具有向前和向后的散射分量，在BSDF繪圖中需要加以考慮，但FRED中的默認繪圖類型僅適用于反射散射。本文章中包含的FRED文件加載了一個嵌入式腳本，該腳本將BSDF數據寫入 Microsoft Excel進行交互繪圖，并說明該模型在傳輸過程中的應用。