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帖子 通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究
摘要 通常可以采用瑞利判據理論表征顯微鏡的分辨率,瑞利判據是1896年由第三代瑞利男爵約翰·威廉·斯特拉特(John William Strutt)提出的。該理論認為,當一個艾里圖樣的中心與另一個艾里圖樣的第一個最小值重疊時,就可以分辨它們。在這個例子中,我們根據瑞利的理論,檢驗不同數值孔徑(NA)顯微物鏡的分辨率。
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追光ing ??? 2年前
通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究
帖子 通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究
摘要 通常可以采用瑞利判據理論表征顯微鏡的分辨率,瑞利判據是1896年由第三代瑞利男爵約翰·威廉·斯特拉特(John William Strutt)提出的。該理論認為,當一個艾里圖樣的中心與另一個艾里圖樣的第一個最小值重疊時,就可以分辨它們。在這個例子中,我們根據瑞利的理論,檢驗不同數值孔徑(NA)顯微物鏡的分辨率。
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追光ing ??? 2年前
通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究
帖子 STAAD模態分析與固有頻率求解方法 附STAAD_PRO教程入門及算例下載
CALCULATE RAYLEIGH (FREQUENCY) 瑞利 2. MODAL CALCULATION (REQUESTED) 特征向量 瑞利 一般來說,工程結構的基頻或者前幾階固有頻率比較重要,瑞利就是一種計算結構基頻的常用近似算法。
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房灰馮 ??? 4年前
STAAD模態分析與固有頻率求解方法 附STAAD_PRO教程入門及算例下載
帖子 通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究
摘要 通常可以采用瑞利判據理論表征顯微鏡的分辨率,瑞利判據是1896年由第三代瑞利男爵約翰·威廉·斯特拉特(John William Strutt)提出的。該理論認為,當一個艾里圖樣的中心與另一個艾里圖樣的第一個最小值重疊時,就可以分辨它們。在這個例子中,我們根據瑞利的理論,檢驗不同數值孔徑(NA)顯微物鏡的分辨率。
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張藝凡 ??? 2年前
通過瑞利判據對顯微鏡物鏡進行分辨率研究
帖子 【JY】淺析時程分析中的阻尼設置
這種便捷的方式,使得直接積分計算速度加快(相對采用模態阻尼的直接積分)。相關推文可看: 【JY】結構瑞利阻尼與經濟訂貨模型 上述文章已經詳細闡述,對于瑞利阻尼不過多贅述。比例阻尼的來源依然是材料阻尼、工況定義的系統阻尼,并且模擬直接積分使用的阻尼比值不允許超過 1。 來自材料的比例阻尼:來自荷載工況的比例阻尼:完 更多精彩,關注建源學堂!
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建源之光 - 減隔震 ??? 2年前
【JY】淺析時程分析中的阻尼設置
帖子 【JY】ETABS彈塑性分析注意要點和常見問題
圖3 連接單元的剛度選項5、FNA和直接積分可都采用了瑞利阻尼,但是兩者也不是一樣的。FNA是將瑞利阻尼轉換為模態阻尼進行使用的,而且FNA阻尼值不會超過1,如圖4所示,而瑞利阻尼是可以出現過阻尼的情況的。但這對分析結果影響比較小,因為此時結構頻率非常高,動力效應比較小,可忽略。
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建源之光 - 減隔震 ??? 3年前
【JY】ETABS彈塑性分析注意要點和常見問題
帖子 abaqus中阻尼的設置
Abaqus阻尼設置方式 abaqus的阻尼分為兩類,與速度成比例的粘性阻尼;和與位移成比例的結構阻尼(在頻域分析中采用) abaqus引入阻尼的3中途徑: 材料和單元的阻尼 整體阻尼,包括粘性阻尼,瑞利阻尼,結構阻尼 模態阻尼,只能用于模態分析 在ABAQUS中阻尼可以應用在下面的動力學分析中: 非線性問題直接積分求解(顯式分析或者隱式分析) 直接或子空間穩態動力學分析 模態動力學分析(線性)
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dwg_2931 ??? 4年前
abaqus中阻尼的設置
帖子 基于ABAQUS的橡膠減振器非線性有限元分析
接觸屬性可定義接觸面之間的向行為和切向行為: 向行為,是指接觸面之間向力的傳遞方式,這里選擇’’硬接觸’’即接觸面之間傳遞的力的大小不受限制,當接觸力變為零或者負值時,兩個接觸面分離,并且去掉相應節點上的接觸約束。 切向行為,是指接觸面之間切向的力學作用,常見的方式是定義庫倫摩擦,通過摩擦系數來表示接觸面之間的摩擦特性。
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想飛更高 ??? 2年前
基于ABAQUS的橡膠減振器非線性有限元分析
帖子 【JY】YJK前處理參數詳解及常見問題分析(六):地震信息
2、瑞利-利茲反應譜與等效扭矩相比,瑞利-里茲投影反應譜具有以下優點:(1)等效扭矩是一種靜力等效的方法,沒有考慮振型耦合作用。而瑞利-里茲投影反應譜近似地進行了振型重新分析,比較精確地求解了偏心后結構的特征值,其計算結果更接近完全重新分析。(2)等效扭矩需要對各偏心情況下的各模態進行靜力分析和內力計算,與振型數量成倍數關系。
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建源之光 - 減隔震 ??? 3年前
【JY】YJK前處理參數詳解及常見問題分析(六):地震信息
帖子 【JY】ETABS的非線性直接積分的設置與應用
阻尼設置ETABS中有兩種設置阻尼的方式,一種為瑞利阻尼,一種為模態阻尼。瑞利阻尼是在直接積分時程分析中常用的阻尼形式。ETABS和SAP2000都允許用戶在直接積分時程分析工況中采用模態阻尼。當用戶采用模態阻尼的形式時,阻尼矩陣按下式確定:其中和分別是模態i的周期、阻尼系數和振型;N是模態總數,由最大頻率控制。圖5左圖紅框部分為瑞尼阻尼設置框。
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建源之光 - 減隔震 ??? 3年前
【JY】ETABS的非線性直接積分法的設置與應用
帖子 VirtualLab Fusion:衍射級次偏振狀態的研究
?在嚴格模擬光柵效率的過程中,例如利用傅里葉模態,通過使用復數場求解均勻介質的波動方程(也稱為亥姆霍茲方程)。?因此,對于每個衍射級次(??)和偏振態,算法的結果以復數值瑞利系數給出。?特定級次(??)的效率表示入射光的功率與輸出衍射級的光功率之間的關系。它是從瑞利系數計算出來的。 光柵結構參數 ?此處探討的是矩形光柵結構。
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追光ing ??? 3年前
VirtualLab Fusion:衍射級次偏振狀態的研究
帖子 衍射級次偏振狀態的研究
?在嚴格模擬光柵效率的過程中,例如利用傅里葉模態,通過使用復數場求解均勻介質的波動方程(也稱為亥姆霍茲方程)。?因此,對于每個衍射級次(??)和偏振態,算法的結果以復數值瑞利系數給出。?特定級次(??)的效率表示入射光的功率與輸出衍射級的光功率之間的關系。它是從瑞利系數計算出來的。 光柵結構參數 ?此處探討的是矩形光柵結構。
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追光ing ??? 1年前
衍射級次偏振狀態的研究
帖子 [VirtualLab] 光柵階次分析器
效率可由瑞利系數計算得到,對于光柵的每個衍射階次都給出了這兩個量。VirtualLab Fusion可通過全矢量的傅里葉模態(FMM,也稱為RCWA)來計算效率和瑞利系數。借助光柵階次分析器,可以以各種方式顯示不同階次的效率和瑞利系數。 光柵詳細說明 ?為了演示一維光柵的光柵分析器,我們使用帶HR涂層的正弦光柵。
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信光嗎 ??? 6月前
[VirtualLab] 光柵階次分析器
帖子 【JY】建筑結構鋼筋混凝土承重墻拆除模擬
對于瑞利阻尼的定義如下:對于瑞利阻尼的填寫,建議有兩種方式:1、第一周期填寫豎向第一周期,第二周期填寫豎向第三周期; 2、第一周期填寫豎向第一周期,第二周期填寫1/10的豎向第一周期。此處由于阻尼比建議為0.02~0.04,而非0.05,混凝土構件拆除后,塑性鉸開展,非線性展開的阻尼應在塑性鉸發展中產生。整體的阻尼比考慮過高,會高估系統阻尼比。
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建源之光 - 減隔震 ??? 3年前
【JY】建筑結構鋼筋混凝土承重墻拆除模擬
帖子 光柵階次分析器
效率可由瑞利系數計算得到,對于光柵的每個衍射階次都給出了這兩個量。VirtualLab Fusion可通過全矢量的傅里葉模態(FMM,也稱為RCWA)來計算效率和瑞利系數。借助光柵階次分析器,可以以各種方式顯示不同階次的效率和瑞利系數。
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追光ing ??? 6月前
光柵階次分析器
帖子 光柵階次分析器........
效率可由瑞利系數計算得到,對于光柵的每個衍射階次都給出了這兩個量。VirtualLab Fusion可通過全矢量的傅里葉模態(FMM,也稱為RCWA)來計算效率和瑞利系數。借助光柵階次分析器,可以以各種方式顯示不同階次的效率和瑞利系數。 光柵詳細說明 ?為了演示一維光柵的光柵分析器,我們使用帶HR涂層的正弦光柵。
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張藝凡 ??? 2年前
光柵階次分析器........
帖子 全網首發!基于ANSYS的工程結構抗震分析全過程(含全部程序+使用教程)
(2)瑞利阻尼系數設定采用經典的雙頻點瑞利阻尼方法,根據結構第一階(0.708577Hz)與第二階(7.63773Hz)固有頻率計算出阻尼系數α與β,對質量項與剛度項進行阻尼控制,阻尼比設定為5%。(3)分析類型與控制參數設置分析類型為瞬態動力分析,使用直接積分進行時程積分。啟用集中質量矩陣以提高慣性力計算效率。
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一只科研汪 ??? 11月前
全網首發!基于ANSYS的工程結構抗震分析全過程(含全部程序+使用教程)
帖子 145基于matlab的求解懸臂梁前3階固有頻率和振型
基于matlab的求解懸臂梁前3階固有頻率和振型,采用的方法分別是(假設模態,解析瑞利里茲)。程序已調通,可直接運行。
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matlab應用與學習 ??? 2年前
145基于matlab的求解懸臂梁前3階固有頻率和振型
帖子 【JY】基于Matlab的(單)多自由度動力學代碼分享
步驟三:構建 荷載矩陣步驟四:采用Newmark-β進行計算步驟五:進行數據整理步驟六:結果展示運行代碼可得到相關結果:包括選取樓層的 絕對加速度、速度、位移,以及振型。
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建源之光 - 減隔震 ??? 2年前
【JY】基于Matlab的(單)多自由度動力學代碼分享
帖子 光刻膠解析和發展困境
在半導體制程的光刻工藝中,集成電路線寬的特征尺寸可以由如右所示的瑞利公式確定:CD= k1*λ/NA (瑞利公式中各個參數的意義) CD (Critical Dimension)表示集成電路制程中的特征尺寸;k1是瑞利常數,是光刻系統中工藝和材料的一個相關系數;λ是曝光波長,而NA(Numerical Aperture
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半導體材料與工藝設備 ??? 4年前
光刻膠解析和發展困境
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