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粗糙度參數：?最小特征尺寸：40nm?全高度調制：400nm?高度輪廓?效率?對于較粗糙的表面，0級衍射效率大幅降低，而且±1級衍射效率的不對稱性增大。 7.總結?VirtualLab的光柵工具箱可對任意形狀光柵結構進行嚴格分析(如包含一個附加粗糙面的正弦光柵)。

光柵被空氣包圍。周期固定在 393 nm。對光柵進行優化，以將波長為 550 nm 的光傳輸到 -1 光柵階次。RCWA 求解器用于SRG的優化和完整的特性描述，具體包含定義仿真參數和運行仿真這兩個步驟。第 1 步：耦合光柵的優化使用內置的粒子群優化（PSO）實用程序，優化SRG的傾斜角、填充因子和光柵高度，以最大限度地提高在法向入射時 550 nm波長下S偏振的透射率。

而對于微透鏡成像系統，可通過粒子群優化（PSO）進行優化，包括微透鏡的長度D_l、高度h以及微透鏡的中心與變跡光柵的中心之間的距離l_x。

圖4（b）比較了裸光柵耦合器、覆蓋的光柵耦合器以及ML-VGC的耦合效率。結果顯示，裸光柵耦合器在1550nm處的峰值耦合效率為?5.78dB；而覆蓋的光柵耦合器中心波長偏移至1560nm；通過微透鏡輔助角度控制的ML-VGC的性能提高到-3.06dB。此外，圖4（c）和圖4（d）展示了透鏡位置偏差和高度偏差對耦合效率的影響。

02 綜述SRG所設計的幾何參數為其傾斜角度、填充因子和高度，如下圖所示:光柵和襯底的折射率為1.8，光柵被空氣包圍，周期為393nm。光柵將被優化為將550nm波長的光傳輸到光柵的-1級。我們將使用RCWA求解器來定義仿真參數并運行和優化仿真。

在該系統中，外耦合光柵被切割成 6 塊。這是必需的，因為我們希望不同區域的衍射效率不同。最終目標是在設備的出瞳（眼盒）處獲得均勻分布的輻照度。請注意，光柵區域的兩部分設置為忽略光線跟蹤。這是因為系統具有對稱性，我們希望利用它來加快優化速度。 該變量在多配置編輯器中設置。它對應于中央頂部光柵中的圓柱體高度。

傾斜光柵介質的編輯對話框 ? 在材料設置下方，可以定義光柵的幾何參數。 ? 有如下參數可選： ─ 占空比（相對于光柵的上面或者下面） ─ Z方向擴展（在z方向光柵的高度） ─ 左傾斜角（光柵脊左側的傾斜角度） ─ 右傾斜角（光柵脊右側的傾斜角度） 如果傾斜角度相同，可以通過點擊（不）等號關聯角度設定。

可觀察到z-方向，即高度方向最小值(Boundary Minimum)為-800 nm。

關于解算器的更多信息可以在這里找到: ? FMM/RCWA ? Diffractive Lens Component 正弦光柵-效率vs高度(只用TEA) 正弦光柵-傳輸相位形態 正弦光柵-傳輸相位形態

建模任務 正弦光柵—效率與高度（TEA） 正弦光柵—透射相位曲線 正弦光柵—透射相位曲線 正弦光柵—衍射效率 正弦光柵—效率與周期 正弦光柵—特定周期下的相位曲線 閃耀光柵—效率與高度（TEA

截錐光柵參數 柱柵是一個可編程接口，由以下參數定義: ? 錐高度 ? 高度因子(例如允許反轉結構) ? 頂部直徑 ? 底部(基底)直徑 ? 光柵周期在x和y方向 ? 材料自動設定 ? 由于這是一個通用的可編程界面，光柵周期必須在周期選項卡中設置。

傾斜光柵介質的編輯對話框 ?在材料設置下方，可以定義光柵的幾何參數。?有如下參數可選：─占空比（相對于光柵的上面或者下面）─Z方向擴展（在z方向光柵的高度）─左傾斜角（光柵脊左側的傾斜角度）─右傾斜角（光柵脊右側的傾斜角度）如果傾斜角度相同，可以通過點擊（不）等號關聯角度設定。

關于解算器的更多信息可以在這里找到:? FMM/RCWA? Diffractive Lens Component正弦光柵-效率vs高度(只用TEA) 正弦光柵-傳輸相位形態 正弦光柵-傳輸相位形態 正弦光柵-衍射效率正弦光柵-效率vs.

建模任務 正弦光柵—效率與高度（TEA） 正弦光柵—透射相位曲線 正弦光柵—透射相位曲線 正弦光柵—衍射效率 正弦光柵—效率與周期 正弦光柵—特定周期下的相位曲線 閃耀光柵—效率與高度（TEA）

截錐光柵參數柱柵是一個可編程接口，由以下參數定義:? 錐高度? 高度因子(例如允許反轉結構)? 頂部直徑? 底部(基底)直徑? 光柵周期在x和y方向? 材料自動設定 ? 由于這是一個通用的可編程界面，光柵周期必須在周期選項卡中設置。

過渡點列表界面?另一種可用于光柵配置的界面是過渡點列表界面。?此界面允許根據周期內不同位置的高度值配置結構。?同樣，平面界面用于將光柵材料或介質與其中一個基板分離。 過渡點列表參數?過渡點列表界面由包含x位置和高度數據的列表定義。

?此界面允許根據周期內不同位置的高度值配置結構。 ?同樣，平面界面用于將光柵材料或介質與其中一個基板分離。 過渡點列表參數 ?過渡點列表界面由包含x位置和高度數據的列表定義。

1.摘要 為了控制用于 AR/MR 應用的光導設備的均勻性和效率，有必要在某些區域，例如 在擴展和輸出耦合光柵區域，引入變化的光柵參數，例如填充因子或光柵高度值。為此，VirtualLab Fusion 能夠在一個區域內引入平滑變化的光柵參數，其中可以以非常不同的方式配置所需的變化。這還包括一個工具，用于研究針對特定入射條件和光柵參數提供的衍射效率。

摘要 為了控制用于 AR/MR 應用的光導設備的均勻性和效率，有必要在某些區域，例如 在擴展和輸出耦合光柵區域，引入變化的光柵參數，例如填充因子或光柵高度值。為此，VirtualLab Fusion 能夠在一個區域內引入平滑變化的光柵參數，其中可以以非常不同的方式配置所需的變化。這還包括一個工具，用于研究針對特定入射條件和光柵參數提供的衍射效率。

關于解算器的更多信息可以在這里找到:? FMM/RCWA? Diffractive Lens Component正弦光柵-效率vs高度(只用TEA) 正弦光柵-傳輸相位形態 正弦光柵-傳輸相位形態 正弦光柵-衍射效率正弦光柵-效率vs.