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光學測量>顯微鏡 亮點 ?在顯微鏡系統中，完整的矢量分析光柵?數秒內快速的高性能分析復雜系統?簡單地在光線追跡和物理光學模擬之間切換?研究偏振效應 說明：光源角向偏振光 徑向偏振光 說明：透鏡系統 說明：樣品結構

光學測量＞顯微 任務/系統視圖 亮點 ? 顯微鏡系統中光柵的全矢量分析? 在幾秒鐘內對復雜系統進行快速高性能分析? 光線追跡和物理光學建模之間的簡單切換 說明：光源 說明：透鏡系統 說明：樣品結構 說明：探測器

光學測量＞顯微 任務/系統視圖 亮點 ?顯微鏡系統中光柵的全矢量分析?在幾秒鐘內對復雜系統進行快速高性能分析?光線追跡和物理光學建模之間的簡單切換 說明：光源 說明：透鏡系統 說明：樣品結構 說明：探測器

結構光照明的顯微系統 在VirtualLab Fusion中，包含光柵的顯微系統可以在充分考慮矢量效應的情況下進行建模和分析。結果表明，結構照明圖樣的對比度受入射光束的偏振的影響。

1.摘要 傅里葉顯微術廣泛應用于單分子成像、表面等離子體觀測、光子晶體成像等領域。它使直接觀察空間頻率分布成為可能。在高NA傅里葉顯微鏡中，不同的效應(每個透鏡表面上角度相關的菲涅耳損耗、衍射等)會影響單個分子最終獲得的圖像質量。快速物理光學軟件VirtualLab Fusion可以使用其強大的場追跡引擎對整個系統進行建模，包括菲涅耳損耗和孔徑衍射效應。

結構光照明的顯微系統 在VirtualLab Fusion中，包含光柵的顯微系統可以在充分考慮矢量效應的情況下進行建模和分析。結果表明，結構照明圖樣的對比度受入射光束的偏振的影響。

若入射為線偏振光，焦斑往往表現出一定方向性；若改為徑向偏振光，則可能獲得更強的縱向電場與更緊湊的聚焦效果。在案例分析中，還應關注參數變化對焦斑的影響。第一，數值孔徑越大，理論上橫向分辨率越高，但系統對像差和裝調誤差也更敏感。第二，入射光束的填充程度會改變物鏡有效利用率，欠填充會削弱高角度光線貢獻，導致焦斑變大；過度填充則可能增加邊緣衍射效應。

摘要 了解高NA物鏡的焦點附近的矢量電場分布對顯微鏡、光鑷、激光加工等應用是非常重要的。高NA物鏡通常被認為是消球差透鏡。 通過VirtualLab Fusion中消球差透鏡，我們展示了如線性、圓形和徑向偏振光束等各種偏振光束的聚焦。 我們研究了關于不同形狀的孔徑的聚焦場，例如圓形和環形孔徑。

加工得到的超構光學透鏡在掃描電子顯微鏡下的圖像 注 1：數值孔徑是光學透鏡最重要的基本參量，是衡量光學系統成像能力的標尺。對于顯微物鏡，數值孔徑越大，成像光斑越小，成像細節越清晰。 注 2：超構表面是一種具有橫向亞波長尺度的微納光學器件，可以在不到一個光學波長的結構層上實現全 2π 相位的精確控制，從而實現對光波相位、偏振方式、傳播方向等特性的靈活有效調控。

摘要 高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。

摘要 了解高NA物鏡的焦點附近的矢量電場分布對顯微鏡、光鑷、激光加工等應用是非常重要的。高NA物鏡通常被認為是消球差透鏡。 通過VirtualLab Fusion中消球差透鏡，我們展示了如線性、圓形和徑向偏振光束等各種偏振光束的聚焦。 我們研究了關于不同形狀的孔徑的聚焦場，例如圓形和環形孔徑。

摘要 傅里葉顯微鏡廣泛應用于單分子成像、表面等離子體觀察、光子晶體成像等領域，它使得直接觀測空間頻率分布成為可能。 單分子的成像質量取決于高NA 傅里葉顯微鏡系統，例如，在復雜透鏡系統中，每個光學界面的角度相關的菲涅耳損耗和孔徑的衍射。VirtualLab Fusion可以在考慮菲涅耳損耗和孔徑衍射效應的情況下對整個系統進行建模。

在下面的文檔鏈接您會找到一個STED顯微鏡的演示以及詳細查看我們的復合光源，對于這個例子有特別重要的特性，因為它提供了充分的自由度來定義系統中的多個發射源并根據需要為了隔離可能產生的不同的影響而獨立控制每個發射源的開關。受激發射損耗（STED）顯微鏡工作原理在這個用例中，演示了STED顯微鏡的工作原理。兩束激光束傳播到焦平面，其中飽和耗盡效應近似為一個軟孔徑。

高數值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。

>>>>科學儀器雙折射可用于不同分析表征技術中的材料屬性研究，包括：偏振光顯微鏡：該技術方案將偏振光照射到樣品上，然后樣品的雙折射特性會改變光的偏振狀態。顯微鏡中的分析儀組件可以選擇性地僅透過偏振狀態發生改變的光，從而增強圖像對比度，并提供有關樣品內在屬性（例如結構和成分細節）的信息。

摘要 傅里葉顯微鏡廣泛應用于單分子成像、表面等離子體觀察、光子晶體成像等領域，它使得直接觀測空間頻率分布成為可能。單分子的成像質量取決于高NA 傅里葉顯微鏡系統，例如，在復雜透鏡系統中，每個光學界面的角度相關的菲涅耳損耗和孔徑的衍射。VirtualLab Fusion可以在考慮菲涅耳損耗和孔徑衍射效應的情況下對整個系統進行建模。

摘 要：以顯微鏡支架為研究對象，利用NX12.0軟件Nastran模塊對顯微鏡支架部件進行前置處理、理想化幾何體、三維四面體網格劃分等，生成對應的模型。采用有限元分析法研究在靜力情況下支架部件的受力情況，找到結構設計優化點。通過NX Nastran仿真對顯微鏡支架結構建模進行驗證，對顯微鏡支架部件結構強度和剛度進行校核，判斷結構設計的可靠性。

了解高NA物鏡的焦點附近的矢量電場分布對顯微鏡、光鑷、激光加工等應用是非常重要的。高NA物鏡通常被認為是消球差透鏡。 通過VirtualLab Fusion中消球差透鏡，我們展示了如線性、圓形和徑向偏振光束等各種偏振光束的聚焦。 我們研究了關于不同形狀的孔徑的聚焦場，例如圓形和環形孔徑。

</div><div contenteditable="false" width="100%"> SZX16：這款研究級體視顯微鏡具有大變焦比率(16.4:1)，可在采用1倍物鏡時實現7倍至115倍的放大倍率，并且使用復消色差光學器件減少色差模糊，提供清晰的細節觀察。

奧林巴斯推出的BX61WI和BX51WI系列載物臺固定式顯微鏡，專為高精度的材料分析和動態信號檢測設計。這兩款設備以其卓越的穩定性、針對液體環境優化的光學元件以及創新的設計理念，在材料研究領域展現了極高的應用價值。