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渦旋光沿z軸向上傳播，兩側的4個動圖是不同z值時的XY面的光強分布，可以看到xy面上好像是一個厄密特光不停的旋轉，與一般印象中的”甜甜圈“狀渦旋光相去甚遠。這是因為這是時域中的結果，如果用監(jiān)視器轉變?yōu)轭l域中的結果那么就像下圖看一下yz面的頻域結果，也是明顯的空心狀最后，檢測一下相位，是非常典型的”渦旋“這里只展示渦旋光，至于其他光源的仿真暫時懶得仿了。

隨著微納加工技術的飛速發(fā)展，二維叉形光柵的制備精度與性能不斷提升，不僅能實現單一拓撲荷的渦旋光束輸出，還可通過級聯或復用設計生成多通道、多模式的 OAM 光束陣列。這一技術突破，極大地推動了渦旋光束在光通信、光學操控及量子信息處理等領域的實用化進程，為下一代光子學器件的發(fā)展奠定了重要基礎。建模任務這一期為大家介紹的案例為二維叉形光柵產生渦旋光陣列，如圖1所示。

comsol仿真高斯光經過渦旋板變成渦旋光，其中渦旋板的建模要動點腦子comsol模型在下面的付費內容中

端口、周期性條件、參數化掃描 等；繪制了：透射光的振幅和相位變化圖、透射光的電場分布、透射渦旋光的電場模和相位分布；注意：本案例僅包含模型文件，沒有講解視頻，不附帶答疑指導。

如下圖，作者制作了一排鋯硅納米柱，在其中摻雜熒光染料，隨后用顯微鏡聚焦渦旋光在納米柱一側，觀察到熒光分子被激活且熒光向著一側單向輻射。有兩點需要說明，第一個作者在仿真中使用的是偶極子光來近似等效聚焦渦旋光，第二點是作者的實驗現象我覺得也并不明顯是單向輻射，盡管他的仿真很明顯。

在之前的一篇帖子中，介紹了用comsol仿真線偏振平面光，圓偏振平面光，橢圓偏振平面光。這些都是本科階段接觸到的光源，它們有一個特點，就是它們的波前是平面的。到了研究生階段，就會接觸到一些特殊的光源，比如渦旋光和矢量光。

當粒子比較小，光束很強時，由于強光強區(qū)域的梯度力，會使粒子被捕獲在光束的亮環(huán)上。　　原理解釋：　　對于小顆粒，由光散射產生的力，即動量反沖力占主導地位。對于緊密聚焦的渦旋光束，散射力的主要分量在于光束傳播的方向，而梯度力再次將粒子約束到最大光束強度的環(huán)上。然而，由于渦旋光束強度分布是圓柱對稱的，因此粒子不受方位角的約束，而可能被捕獲在最強光環(huán)的任意位置。

解決了多齒渦旋壓縮機型線的構建和型線的修正問題，提升了渦旋壓縮機的整體性能。β角圓弧類渦旋修正建立齒端生成的方法、齒型的特點和齒端修正參數的通用方程，對動態(tài)的徑向與切向氣體作用力面積的計算方法進行了推導。比較了兩種算法，結果發(fā)現相關修正理論都能應用β角圓弧類渦旋修正的所有齒型。多對圓弧修正建立n對圓弧修正的通用表達式與n對圓弧參數方程，并和雙圓弧修正進行對比。

，其相位實際上是普通透鏡相位加載上渦旋光相位，這點符合開始講述的SLM原理。

隨著渦旋壓縮機技術的一直成熟，數碼渦旋壓縮機技術在許多商用多聯機領域也有了很大的發(fā)展［１］。動渦盤是渦旋壓縮機轉子部分最重要的部件之一，在渦旋壓縮機運行過程中，由于動渦盤上的驅動力與其上的徑向氣體力和切向氣體力的合力不在同一平面內，從而引起動渦盤在軸向方向上受力不平衡，造成動渦盤傾覆，從而造成磨損加劇和泄漏增大［２］。

3. 2 動力學分析 圖7（a）為渦旋壓縮機動渦旋盤所受軸向力、切向力和徑向力在一個循環(huán)周期內隨主軸轉角的變化規(guī)律。從圖7（a）中可以看出：在動渦旋齒所受的3 個力中，軸向力最大，切向力次之，徑向力最小；軸向力和切向力都呈現出先增大后減小的趨勢，軸向力和切向力的最大值分別為4. 202 kN和1. 499 kN，徑向力一直保持150. 64 N 不變。

隨著渦旋壓縮機技術的一直成熟，數碼渦旋壓縮機技術在許多商用多聯機領域也有了很大的發(fā)展［１］。動渦盤是渦旋壓縮機轉子部分最重要的部件之一，在渦旋壓縮機運行過程中，由于動渦盤上的驅動力與其上的徑向氣體力和切向氣體力的合力不在同一平面內，從而引起動渦盤在軸向方向上受力不平衡，造成動渦盤傾覆，從而造成磨損加劇和泄漏增大［２］。

分析結果顯示：平衡鐵Ⅰ和Ⅱ的離心慣性力設計誤差很小，分別為 0.39% 和 0.06%，符合機械精度設計要求。為渦旋壓縮機的高速化設計提供了思路和技術參考。

表2 材料參數 圖3 動渦旋盤網格1.3 載荷與約束條件 溫度載荷、氣體載荷、慣性力載荷及渦盤接觸之間的載荷是渦旋空壓機實際運行過程中主要承受的外力。但由于渦旋盤整機裝配精度和本身零件的高精度加工，渦旋齒之間的接觸力較小，且慣性力載荷和軸向力會由背壓腔等技術得到平衡，故對渦旋齒強度影響最主要的因素是溫度載荷及氣體力載荷的耦合作用。

在本文件中，按照Chu等人[Opt.Express 16，19934-19949（2008）]的步驟，使用Dove棱鏡嵌入非平衡馬赫-曾德爾干涉儀來模擬基于Ince-Gaussian模式的渦旋陣列激光束的產生。所提出的干涉測量裝置產生的渦旋陣列激光束在傳播過程中，也通過聚焦，保持其光束輪廓。因此，所提出的渦旋陣列激光束在二維陣列形式的光鑷和原子阱中具有巨大的應用前景。

由于加速度的存在，使做往復運動的十字滑環(huán)存在慣性力，并引起振動，所以設計時，要盡量減小十字滑塊的質量，以降低慣性力［5］。　　圖 11 十字滑環(huán)質心位置與加速度示意5． 4 動渦旋盤運動機構分析由可知動渦旋盤理論機構模型。　　

參考論文是南京郵電大學碩士畢業(yè)論文《光力和光熱效應的有限元分析方法研究》。模型如下 在真空中有一個銀納米棒，有平面光從上往下照射，研究納米棒受到的光力。下圖是論文圖VS我的仿真結果。

在本文件中，按照Chu等人[Opt.Express 16，19934-19949（2008）]的步驟，使用Dove棱鏡嵌入非平衡馬赫-曾德爾干涉儀來模擬基于Ince-Gaussian模式的渦旋陣列激光束的產生。所提出的干涉測量裝置產生的渦旋陣列激光束在傳播過程中，也通過聚焦，保持其光束輪廓。因此，所提出的渦旋陣列激光束在二維陣列形式的光鑷和原子阱中具有巨大的應用前景。

在本文件中，按照Chu等人[Opt.Express 16，19934-19949（2008）]的步驟，使用Dove棱鏡嵌入非平衡馬赫-曾德爾干涉儀來模擬基于Ince-Gaussian模式的渦旋陣列激光束的產生。所提出的干涉測量裝置產生的渦旋陣列激光束在傳播過程中，也通過聚焦，保持其光束輪廓。因此，所提出的渦旋陣列激光束在二維陣列形式的光鑷和原子阱中具有巨大的應用前景。

Express 16, 19934-19949(2008)]的步驟，利用嵌入Dove棱鏡的非平衡Mach-Zehnder干涉儀模擬了基于Ince-Gaussian模的渦旋陣列激光光束的生成。所提出的干涉裝置產生的渦旋陣列激光光束在傳播過程中和焦點都可以保持其光束輪廓。因此，所提出的渦旋陣列激光光束以二維陣列的形式應用于光鑷和原子阱中，具有很大的前景。