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這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模擬功能，該功能可以在考慮其物理特性的情況下，在序列模式下對全像光柵進行全面模擬和分析。在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對於設計用於虛擬實境 (VR) 和增強實境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統(tǒng)非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數(shù)。

在像差方面，彗差會隨視場角的變化而線性增加，而像散則是呈二次方增加。但人眼系統(tǒng)具有相對較小的光瞳尺寸，因此在此類系統(tǒng)的設計上，一般會認為球差和彗差並不十分重要。同理，其餘的像差在此也可先行忽略。隨著自由曲面製程技術(shù)的演進，光學設計者得以摒除許多以往的限制條件。同時，OpticStudio具有優(yōu)越的運算能力，可以進行規(guī)模較大的系統(tǒng)和更多影像參數(shù)的模擬。

用戶需要創(chuàng)建自己的序列表面DLL來建模唯一的表面下垂。此外，當前OpticStudio不支援在例如Y-Z平面上顯示橫截面PSF。如參考文獻[4]中所述，需要一個巨集來掃描不同Z位置的PSF並創(chuàng)建圖。1.4 參數(shù)化 DOE 矢高-> POP像上述方法一樣，可以透過在OpticStudio中對二進制矢高建模來模擬菲涅耳波帶片。但是，對於這種類型的DOE，光線追跡引擎將無法正常工作。

這些模式的電場分佈可以寫成 Hermite 多項式。此類模式可以在 OpticStudio 中使用 POP 設置對話框中的內(nèi)置“高斯腰”光束定義進行建模：此模式的主要輸入是 X 和 Y 中束腰以及 X 和 Y 中光束的階數(shù)。以上設置演示瞭如何對 X 和 Y 中具有相同腰尺寸的 (0,0) 模式進行建模，對應於單模高斯光束。

簡介偏振態(tài)分析(polarization analysis)可以作為一般光線追跡的進階功能。在模擬的過程中，會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下，OpticStudio可以對大多數(shù)的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。但有時因為分類數(shù)據(jù)報告(Prescription data)不夠齊全，在進行模擬時會需要簡化後的模型。

入射光的電場並非用單一個點來描述，相對的，我們會假設該電場比多重光束干涉發(fā)生的區(qū)域更大許多。在Zemax OpticStudio中，我們使用field係數(shù)來表示這個結(jié)果，這些係數(shù)已經(jīng)被薄膜膜層的程式驗證過許多次。薄膜理論的慣例是計算平面法向量方向上的相位變化，這表示其假設了一個虛擬的平面波從薄膜最外層一路傳播到基板。

因此，當我們要計算一條光線的OPD時，此光線會從物面出發(fā)後一路追跡穿過光學系統(tǒng)，最終到達像面後，在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點，半徑是主光線與像面交點到主光線與出瞳面的焦點。然後我們就計算這條光線的總光程，並扣去主光線的光程 (因此主光線的光程差永遠為零，因為他本身就是零的參考點)。

如下圖所示：來自紅色行人的散射光到達了雷射雷達探測器的一個單位圖元上。雷射雷達會將接收到返回信號花費的時長記錄下來，即飛行時間，並將飛行時間轉(zhuǎn)換為距離。圖元的位置可表明入射光的方向。這兩個值都表明散射光線來自站在離貨車10米遠的紅色行人。OpticStudio實際上測量的不是時間，而是光線路徑長度，也就是物體和探測器之間的距離。

智慧型手機是地球上最普遍的消費技術(shù)之一，包含大量高科技光學系統(tǒng)。大多數(shù)都有多個相機單元，這對設計師和製造商提出了挑戰(zhàn)，以滿足嚴格的性能、成本和尺寸要求。在這篇Blog中，我們將討論 Zemax 解決方案如何幫助應對和克服這些挑戰(zhàn)。智慧型手機鏡頭模組用於智慧型手機相機的鏡頭模組非常複雜，每個模組都包含多個鏡頭元件。

此外，為了提升導光效果，產(chǎn)品中有兩處狹縫設計(圖二)，造成局部模溫較低。塑料流經(jīng)模溫較低處時容易凝固而難以流動，導致壓力傳遞不易，體積收縮率也較高，使成品后端產(chǎn)生明顯凹痕，影響集光、傳光與出光的效果。為解決這些難題，臺科大精密制造實驗室運用Moldex3D模流分析軟件，評估開發(fā)模內(nèi)階段式射壓成型制程，是否能夠獲得較優(yōu)化的產(chǎn)品。

在此示例中，我們將使用840 nm中心波長，60 nm FWHM光源，該光源透過以下方式在空氣中提供5μm的軸向分辨率：這些光譜特性來自Superlum市售的超發(fā)光二極管，它具有生物成像的共同波長和足夠高的分辨率的帶寬。 我們將忽略準直光學，而是從入射光束進入干涉儀開始。

單個光學元件的表面形狀可以是球面或變形（垂直和水準子午線的光焦度不同）。光焦度通常僅在陣列的一個表面上，而第二個表面通常是平面的。在 OpticStudio 中對此設置進行建模的最簡單方法之一是使用陣列物件 (array object)。提供的範例，選擇了 Lenslet Array 1 物件， 它由矩形體陣列組成，每個矩形體的前表面為平面，後表面為使用者自訂數(shù)目的重複曲面。

嘗試在近軸限制之外操作高斯子光束傳播會使準確性大打折扣。二級光線未能保持與它們的Base Rays好的相關(guān)性可能會導致相干光誤差和錯誤的輻照度計算。 雖然沒有精確的定義，近軸近似可以使用至少兩種形式描述： 。在這兩種情況中，對于 一個合適的選擇是0.1弧度，大約為6度。根據(jù)公式1，近軸近似最明顯的隱意是子光束的束腰半徑ω0必須大于等于3 。

曾牽頭建設了國內(nèi)領(lǐng)先的硅光專用封測平臺，并在上海具體推動先進制程硅光量產(chǎn)流片平臺和測試平臺建設和產(chǎn)業(yè)化運營。</p><p><strong>內(nèi)容簡介：</strong>本報告具體介紹先進硅基光電子制造平臺對硅光器件的賦能和提升，并展望制造平臺對高速光互連以及其它硅光特色應用的關(guān)鍵支撐作用。

圖一 汽車大燈透鏡 圖二 車燈透鏡3D圖挑戰(zhàn) 光學性質(zhì)欠佳 翹曲問題 體積收縮過高(圖三) 殘留應力集中(圖四)圖三 透過Moldex3D充填分析溫度等位面分布圖，可以看到產(chǎn)品有嚴重的積熱和收縮問題圖四 Moldex3D光學分析可以辨識殘留應力集中在澆口處效益透過Moldex3D塑料射出模擬分析與實際試模

要產(chǎn)生激光，必須滿足粒子數(shù)反轉(zhuǎn)和增益大于損耗這兩個條件。諧振腔是激光器的重要組成部分，它可以使激光具有良好的方向性和相干性。COMSOL的特征頻率分析可以計算各類激光器諧振腔的基模和高階模場分布，為激光器的設計提供了強有力的工具。對稱激光腔中的高階模 華裔科學家高錕博士在1966年發(fā)表的一篇論文奠定了光纖通信的基礎(chǔ)。1970年，低損耗的石英光纖制造成功，光通信的時代到來了。

Alvarez變焦的一般表示及其與傳統(tǒng)光學變焦的比較我們的 Alvarez 變焦鏡頭的核心是無焦伽利略系統(tǒng)。第一對Alvarez鏡組代表伽利略系統(tǒng)的物鏡，而第二對Alvarez鏡組代表目鏡。要了解更多資訊，您可以在 MyZemax.com 找到以下文章，這些文章將介紹如何在 OpticStudio 中對 Alvarez 變焦鏡頭進行建模並查看真實範例！

該調(diào)制器無需數(shù)字信號處理器即可分別生成高達180和300Gbps的非歸零信號和八電平脈沖幅度調(diào)制信號，為下一代電光系統(tǒng)提供了超大帶寬、超高效率和緊湊的解決方案。1.引言隨著近幾十年來數(shù)據(jù)流量的激增，高速且節(jié)能的未來光子系統(tǒng)已引起廣泛的研究關(guān)注。為實現(xiàn)這類系統(tǒng)，研究人員開發(fā)了采用CMOS兼容工藝的光子集成電路（PIC），以實現(xiàn)低成本和大規(guī)模集成。

共射成型制程開始將第一射的材料（皮層材料）以預定的短射體積射入模穴中，接序第二射（核芯層材料）直到模穴充填完全為止。表層材料的噴泉流行為將在模壁上產(chǎn)生固化層；同時，第二射藉由阻力較低的路徑注入熔融區(qū)域，以取代第一射的材料。由于噴泉流行為，第一射材料的流動波前將一路向前形成額外的固化層。因此，理想的三明治射出成型件的核芯層材料會被皮層材料完全包覆。