OPC技術(shù)歷經(jīng)“基于規(guī)則”到“基于模型”的迭代升級,精度與適配性持續(xù)提升。早期基于規(guī)則的OPC依賴預(yù)設(shè)的固定規(guī)則表對特定圖形進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化修正,雖操作簡便,但面對復(fù)雜圖形或微小特征尺寸時校正精度不足。當(dāng)前主流的基于模型的OPC通過構(gòu)建全流程仿真體系實現(xiàn)突破:一方面建立涵蓋光源、鏡頭、掩膜等要素的光學(xué)成像模型,另一方面融入光刻膠曝光、顯影全過程的物理化學(xué)模型,通過仿真模擬精準(zhǔn)預(yù)測誤差并完成校正。