光學(xué)檢測系統(tǒng)的案例
光 · 學(xué)堂| 基于VirtualLab Fusion的光學(xué)檢測與精密成像（上海場） 2026/5/21-5/22
課程大綱
1
VirtualLab Fusion光之數(shù)字模型平臺
光之數(shù)字模型平臺在精密系統(tǒng)檢測方面的工作原理
VirtualLab Fusion 用戶界面的基礎(chǔ)操作
VirtualLab Fusion中非序列追跡的通道配置
2
典型光學(xué)檢測系統(tǒng)建模與性能驗證
基礎(chǔ)邁克爾遜干涉儀建模仿真
OCT系統(tǒng)仿真-光學(xué)相干層析掃描干涉儀
用于光學(xué)表面測量的菲索干涉儀
切爾尼-特納光譜儀的仿真
Mirau干涉儀系統(tǒng)分析-顯微干涉檢測
3
高端精密成像系統(tǒng)（半導(dǎo)體 / 工業(yè)檢測方向）
半導(dǎo)體晶圓微結(jié)構(gòu)缺陷檢測光學(xué)系統(tǒng)
晶圓兩側(cè)光柵圖案的成像
激光共聚焦掃描顯微鏡成像分析
大數(shù)值孔徑聚焦中的粒子散射與反射
晶圓多層膜厚非接觸式光學(xué)測量仿真
4
先進顯微鏡系統(tǒng)的物理光學(xué)級仿真
顯微鏡系統(tǒng)的設(shè)計
通過瑞利判據(jù)對顯微鏡物鏡進行分辨率研究
熒光顯微鏡的彩色效應(yīng)分析
高NA傅里葉顯微鏡單分子成像
高NA顯微鏡系統(tǒng)分析偶極子源的PSF
顯微鏡系統(tǒng)中來自光圈的衍射
5
光學(xué)系統(tǒng)的公差分析
考慮加工公差下的傾斜光柵魯棒性優(yōu)化
鏡頭粗糙度對PSF的影響
衍射光學(xué)元件的加工圓角和高度公差分析
展開 光 · 學(xué)堂 | VirtualLab Fusion干涉檢測技術(shù)|干涉原理分析及光學(xué)系統(tǒng)建模 2026/6/23-24（上海場）
授課時間
2026/6/23（二）-6/24（三）AM 9:00-PM 16:00
授課地點
上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室
課程講師
訊技光電工程團隊及資深顧問
課程費用
3000RMB/1人次
(課程包含課程材料費、開票稅金、午餐費)
課程簡介
縱觀歷史，光學(xué)為進行極其精確的測量提供了必要的手段，這是激發(fā)科學(xué)技術(shù)潛力的重要一環(huán)。對計量系統(tǒng)的分析不可避免地需要考慮物理光學(xué)效應(yīng)(相干、偏振、干涉、行射等)，以產(chǎn)生現(xiàn)實、充分的結(jié)果。VirtualLab Fusion為這種分析提供了必要的工具，利用快速物理光學(xué)理論來促進快速仿真。
干涉系統(tǒng)被廣泛地應(yīng)用于光學(xué)測量和光學(xué)檢測等領(lǐng)域。對這類系統(tǒng)工作原理的討論必須要結(jié)合物理光學(xué)的知識，如光的電磁場表示、光的波動性、光場的疊加等。顯微系統(tǒng)也是組成光學(xué)測量的一個重要組成部分，課程內(nèi)容中也涵蓋了高NA系統(tǒng)，微觀與宏觀相結(jié)合的完整系統(tǒng)仿真如晶圓檢測系統(tǒng)，摩爾紋系統(tǒng)等。該課程無需軟件基礎(chǔ)。
展開 遠心物鏡光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計遇瓶頸？OAS 軟件提供專業(yè)解決方案
遠心物鏡案例分析
簡介
遠心物鏡是工業(yè)機器視覺檢測、高精度尺寸測量領(lǐng)域的核心光學(xué)元件，依托遠心光路設(shè)計可消除被測物體位置偏移引發(fā)的測量誤差，其成像的高分辨率、低畸變特性成為精密檢測系統(tǒng)的關(guān)鍵支撐。本案例依托 OAS 光學(xué)軟件，針對遠心物鏡開展全流程的設(shè)計、仿真與優(yōu)化分析，精準模擬光路傳播特性與成像性能，量化各項光學(xué)參數(shù)對系統(tǒng)的影響，為遠心物鏡的高精度設(shè)計與工程化落地提供科學(xué)的仿真依據(jù)。
案例設(shè)置與操作
模型構(gòu)建
本案例基于 OAS 軟件的成像設(shè)計與光機建模功能，完成遠心物鏡光學(xué)系統(tǒng)的精準建模，還原前組大口徑透鏡、中繼校正透鏡組及后組成像透鏡的幾何形貌、材料特性與空間裝配關(guān)系，匹配工業(yè)檢測用遠心物鏡的工程設(shè)計標準。通過軟件光學(xué)元件數(shù)據(jù)庫，為各透鏡配置高透光學(xué)玻璃材料，設(shè)定可見光工作波段，同時對鏡筒等配套機械結(jié)構(gòu)進行建模，統(tǒng)一設(shè)置表面散射與膜層特性，貼合實際光學(xué)傳播規(guī)律。
探測器與參數(shù)設(shè)置
為精準捕捉遠心物鏡的成像與光路信息，對 OAS 軟件的成像探測器進行精細化配置，根據(jù)遠心物鏡的放大倍率、工作距離設(shè)定探測接收范圍與分辨率，同步設(shè)置光線追跡的能量閾值，有效排除系統(tǒng)噪聲干擾。在光學(xué)參數(shù)設(shè)置中，精準定義物方遠心光路的孔徑光闌位置、視場角等核心參數(shù)，為后續(xù)仿真分析奠定基礎(chǔ)。
分析優(yōu)化
通過 OAS 軟件的序列光線追跡核心功能，生成遠心物鏡的三維光路傳播圖，直觀呈現(xiàn)軸上與軸外光線的傳播路徑。借助軟件的像質(zhì)評估工具，生成 MTF 曲線、點列圖、波前圖等分析結(jié)果，量化評估系統(tǒng)分辨率、畸變與像差水平，通過內(nèi)置優(yōu)化算法實現(xiàn)像差自動校正與多目標迭代優(yōu)化。同時利用軟件雜散光分析功能，識別系統(tǒng)內(nèi)鬼像、散射等雜散光干擾源，定位關(guān)鍵影響區(qū)域并提出優(yōu)化方案。
展開 VirtualLab：用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測的光學(xué)系統(tǒng)
摘要
在半導(dǎo)體工業(yè)中，晶片檢測系統(tǒng)被用來檢測晶片上的缺陷并找到它們的位置。為了確保微結(jié)構(gòu)所需的圖像分辨率，檢測系統(tǒng)通常使用高NA物鏡，并且工作在UV波長范圍內(nèi)。作為例子，我們建立了包括高NA聚焦和光與微結(jié)構(gòu)相互作用的完整晶片檢測系統(tǒng)的模型，并演示了成像過程。
任務(wù)描述
微結(jié)構(gòu)晶圓
通過在堆棧中定義適當形狀的表面和介質(zhì)來模擬諸如在晶片上使用的周期性結(jié)構(gòu)的柵格結(jié)構(gòu)。然后，該堆棧可以導(dǎo)入到各種不同的組件中，具體取決于預(yù)期用途。在這種情況下，我們將堆棧加載到一般光學(xué)設(shè)置中的一個光柵組件中，以便模擬整個系統(tǒng)。有關(guān)詳細信息，請參閱：用于通用光學(xué)系統(tǒng)的光柵元件
微結(jié)構(gòu)晶片的角度響應(yīng)
該光柵組件使用傅里葉模態(tài)法(FMM)，也稱為嚴格耦合波分析(RCWA)，其運作在k域中。當入射大NA光束時，需要考慮在k域中有足夠數(shù)量的采樣點來解決角度敏感效應(yīng)。在光柵組件的求解器區(qū)域中，用戶可以輕松地調(diào)整此參數(shù)，以確保快速而準確的模擬。
大NA物鏡
Lens System Component允許輕松定義由光滑表面和均勻、各向同性介質(zhì)的交替序列組成的組件。在界面和材料方面，可以從內(nèi)置目錄中選擇現(xiàn)成的條目，也可以定制自己的條目，以實現(xiàn)最大的靈活性。
通用探測器和探測器插件
通用探測器可以評估入射場，并通過所謂的附加組件計算各種物理量。作為結(jié)果，所提供的附加組件之一提供了空間域中的輻照度。有關(guān)詳細信息，請參閱：通用探測器
非序列追跡
將通道配置模式切換設(shè)置為手動配置后，用戶可以為系統(tǒng)中的每個表面指定要為模擬打開哪些通道。當運行模擬時，將執(zhí)行活動光路的初步分析(通過所謂的光路查找器)。
展開 
[VirtualLab] 用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測的光學(xué)系統(tǒng)
摘要
在半導(dǎo)體工業(yè)中，晶片檢測系統(tǒng)被用來檢測晶片上的缺陷并找到它們的位置。為了確保微結(jié)構(gòu)所需的圖像分辨率，檢測系統(tǒng)通常使用高NA物鏡，并且工作在UV波長范圍內(nèi)。作為例子，我們建立了包括高NA聚焦和光與微結(jié)構(gòu)相互作用的完整晶片檢測系統(tǒng)的模型，并演示了成像過程。
任務(wù)描述
微結(jié)構(gòu)晶圓
通過在堆棧中定義適當形狀的表面和介質(zhì)來模擬諸如在晶片上使用的周期性結(jié)構(gòu)的柵格結(jié)構(gòu)。然后，該堆棧可以導(dǎo)入到各種不同的組件中，具體取決于預(yù)期用途。在這種情況下，我們將堆棧加載到一般光學(xué)設(shè)置中的一個光柵組件中，以便模擬整個系統(tǒng)。有關(guān)詳細信息，請參閱：用于通用光學(xué)系統(tǒng)的光柵元件
微結(jié)構(gòu)晶片的角度響應(yīng)
該光柵組件使用傅里葉模態(tài)法(FMM)，也稱為嚴格耦合波分析(RCWA)，其運作在k域中。當入射大NA光束時，需要考慮在k域中有足夠數(shù)量的采樣點來解決角度敏感效應(yīng)。在光柵組件的求解器區(qū)域中，用戶可以輕松地調(diào)整此參數(shù)，以確保快速而準確的模擬。
大NA物鏡
Lens System Component允許輕松定義由光滑表面和均勻、各向同性介質(zhì)的交替序列組成的組件。在界面和材料方面，可以從內(nèi)置目錄中選擇現(xiàn)成的條目，也可以定制自己的條目，以實現(xiàn)最大的靈活性。
通用探測器和探測器插件
通用探測器可以評估入射場，并通過所謂的附加組件計算各種物理量。作為結(jié)果，所提供的附加組件之一提供了空間域中的輻照度。有關(guān)詳細信息，請參閱：通用探測器
非序列追跡
將通道配置模式切換設(shè)置為手動配置后，用戶可以為系統(tǒng)中的每個表面指定要為模擬打開哪些通道。當運行模擬時，將執(zhí)行活動光路的初步分析(通過所謂的光路查找器)。然后，引擎將沿著這些光路追跡磁場，直到系統(tǒng)中的探測器。
展開 基于4f光學(xué)系統(tǒng)的周期性結(jié)構(gòu)微小形變檢測
關(guān)鍵詞：位移檢測；４ｆ光學(xué)系統(tǒng)；光強分布；ＶｉｒｔｕａｌＬａｂ Ｆｕｓｉｏｎ
摘要：為了快速、直觀地檢測出周期性結(jié)構(gòu)的微小偏移，提出了基于４ｆ光學(xué)系統(tǒng)的周期性結(jié)構(gòu)微小偏移檢測方法。 首先使用ＶｉｒｔｕａｌＬａｂ Ｆｕｓｉｏｎ 光學(xué)仿真軟件進行理論研究，建立預(yù)設(shè)偏移的周期性微結(jié)構(gòu)模型，構(gòu)造了光學(xué)傳遞函數(shù)，利用４ｆ空間濾波方法，獲得與周期性微結(jié)構(gòu)對應(yīng)的像面幅值圖。 經(jīng)分析得出在透明基底的周期性結(jié)構(gòu)中，不論尺寸大小，若偏移量在相鄰特征尺寸間距的８０％范圍內(nèi)，經(jīng)擬合后幅值變化與微結(jié)構(gòu)偏移量呈線性關(guān)系，且幅值變化位置與微結(jié)構(gòu)偏移位置一致。 依據(jù)仿真的光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)搭建了實驗系統(tǒng)，實驗結(jié)果與仿真一致，并且該套系統(tǒng)可以實現(xiàn)３.４ｍｍ×２.６ｍｍ的測量視場，分辨率能達５ μｍ，能夠?qū)崟r快速地對周期性結(jié)構(gòu)材料進行位移或缺陷檢測。
閱讀全文請私信我，謝謝
展開 Zemax案例 | 用于炮膛檢測的內(nèi)窺鏡光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計的精準化解決方案
<p><strong>引言</strong></p><p>火炮身管內(nèi)壁的燒蝕、裂紋等疵病直接影響火炮使用安全性，Ф30~Ф85mm小口徑炮膛的檢測對設(shè)備的空間適配性、成像質(zhì)量和三維測量能力提出嚴苛要求，而傳統(tǒng)內(nèi)窺系統(tǒng)存在成像失真、適配性差、無法三維測量等痛點。Zemax作為全球領(lǐng)先的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計與仿真平臺，憑借建模、優(yōu)化、像質(zhì)評價與公差分析的全流程能力，成為攻克炮膛檢測內(nèi)窺鏡光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計難題的核心工具。<strong>本文結(jié)合新近研究成果，解析Zemax在該內(nèi)窺鏡光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計中的全流程應(yīng)用，展現(xiàn)其對高精度工業(yè)內(nèi)窺鏡研發(fā)的價值</strong><sup><strong>[1]</strong></sup><strong>。</strong></p><p><br></p><p><strong>小口徑炮膛檢測的光學(xué)設(shè)計挑戰(zhàn)</strong></p><p>小口徑炮膛的狹小空間，要求檢測內(nèi)窺鏡具備<strong>小口徑、長工作距離、大景深</strong>的特性<sup>[2]</sup>，同時炮膛疵病的三維測量需求，對內(nèi)窺鏡的雙目立體成像匹配性、多口徑工況適配性提出更高標準<sup>[3]</sup>。現(xiàn)有炮膛檢測內(nèi)窺系統(tǒng)存在諸多短板：多子系統(tǒng)拼接成像成本高、錐形反射鏡方案易失真、非側(cè)視式設(shè)計無法探入小口徑炮膛、廣角鏡頭物距不足等，且難以在小口徑約束下兼顧大視場、長工作距離與高成像質(zhì)量。</p><p>解決這些難題，需要設(shè)計一款側(cè)視式雙光路大景深內(nèi)窺鏡光學(xué)系統(tǒng)，而核心難點在于多口徑參數(shù)匹配、雙光路視差控制、長距像質(zhì)保持及加工裝調(diào)可行性驗證。Zemax憑借全流程光學(xué)設(shè)計與仿真能力，成為解決這些問題的關(guān)鍵支撐，實現(xiàn)從理論設(shè)計到工程落地的高效轉(zhuǎn)化。
展開 基于4f光學(xué)系統(tǒng)的周期性結(jié)構(gòu)微小形變檢測
[圖片]
[VirtualLab論文] 基于4f光學(xué)系統(tǒng)的周期性結(jié)構(gòu)微小形變檢測
摘要：為了快速、直觀地檢測出周期性結(jié)構(gòu)的微小偏移，提出了基于４ｆ光學(xué)系統(tǒng)的周期性結(jié)構(gòu)微小偏移檢測方法。 首先使用ＶｉｒｔｕａｌＬａｂ Ｆｕｓｉｏｎ 光學(xué)仿真軟件進行理論研究，建立預(yù)設(shè)偏移的周期性微結(jié)構(gòu)模型，構(gòu)造了光學(xué)傳遞函數(shù)，利用４ｆ空間濾波方法，獲得與周期性微結(jié)構(gòu)對應(yīng)的像面幅值圖。 經(jīng)分析得出在透明基底的周期性結(jié)構(gòu)中，不論尺寸大小，若偏移量在相鄰特征尺寸間距的８０％范圍內(nèi)，經(jīng)擬合后幅值變化與微結(jié)構(gòu)偏移量呈線性關(guān)系，且幅值變化位置與微結(jié)構(gòu)偏移位置一致。 依據(jù)仿真的光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)搭建了實驗系統(tǒng)，實驗結(jié)果與仿真一致，并且該套系統(tǒng)可以實現(xiàn)３.４ｍｍ×２.６ｍｍ的測量視場，分辨率能達５ μｍ，能夠?qū)崟r快速地對周期性結(jié)構(gòu)材料進行位移或缺陷檢測。
關(guān)鍵詞：位移檢測；４ｆ光學(xué)系統(tǒng)；光強分布；ＶｉｒｔｕａｌＬａｂ Ｆｕｓｉｏｎ
展開 [NEWSLETTER] 基于干涉的光學(xué)測試系統(tǒng)
?為了對結(jié)構(gòu)表面進行高精度檢查（通常用于半導(dǎo)體行業(yè)），可以使用基于干涉效應(yīng)的光學(xué)測試系統(tǒng)。對這些設(shè)置的完整模擬需要包括所有物理光學(xué)效應(yīng)，如結(jié)構(gòu)處的衍射、相干性以及在圖像平面上產(chǎn)生的干涉。為了幫助光學(xué)工程師完成這項任務(wù)，快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion提供了一系列工具，包括系統(tǒng)中的衍射和非序列建模。
隨著新版本2023.1的發(fā)布，我們還提供了一種新的探測器概念，允許用戶直接根據(jù)場信息計算可能感興趣的任何物理量。為了了解所有這些工具的是如何工作的，我們展示了以下兩個示例。在第一個例子中，使用高NA物鏡檢查非對稱微結(jié)構(gòu)晶片，而在第二個例子中我們使用不同形狀的測試表面顯示了來自經(jīng)典斐索干涉儀的輻照度圖案。
用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測的光學(xué)系統(tǒng)
該用例顯示了高NA晶片檢測系統(tǒng)的快速物理光學(xué)模擬，該系統(tǒng)通常用于半導(dǎo)體工業(yè)中檢測晶片上的缺陷。
光學(xué)檢測用的斐索干涉儀
借助非連續(xù)場追跡技術(shù)建立了斐索干涉儀，并顯示了來自幾個不同測試表面的干涉條紋。
展開 高精度試驗T型槽平臺：三坐標測量與光學(xué)檢測專用定點基準臺
在制造檢測領(lǐng)域，三坐標測量與光學(xué)檢測是保障產(chǎn)品尺寸精度的核心手段，而高精度試驗T型槽平臺作為專用定點基準臺，其精度穩(wěn)定性與定點可靠性直接決定檢
三、光學(xué)檢測專用方案：低干擾下的基準
1.抗反光與干擾設(shè)計：平臺表面采用亞光發(fā)黑處理，反射率≤5%，避免光學(xué)檢測過程中產(chǎn)生反光干擾，確保成像清晰；選用無磁鑄鐵材質(zhì)，減少對光學(xué)檢測設(shè)備的電磁干擾，保障檢測信號穩(wěn)定。
2.熱穩(wěn)定性強化：選用低熱膨脹系數(shù)材質(zhì)（8-10×10??/℃），可適配20±2℃的恒溫檢測環(huán)境，減少溫度變化導(dǎo)致的熱變形，確保檢測精度穩(wěn)定；臺面邊緣做倒角處理，避免銳邊產(chǎn)生光影干擾。
3.兼容性適配：預(yù)留標準化接口，方便對接光學(xué)顯微鏡、激光掃描儀等檢測設(shè)備；T型槽支持多規(guī)格工裝安裝，可適配不同尺寸的工件檢測，提升平臺通用性。
綜上，高精度試驗T型槽平臺通過針對性的材質(zhì)優(yōu)化、結(jié)構(gòu)設(shè)計與低干擾配置，可適配三坐標測量與光學(xué)檢測的專用需求。科學(xué)選用專用平臺不僅能保障檢測數(shù)據(jù)的可靠，還能提升檢測效率。在制造業(yè)向高精度、高附加值轉(zhuǎn)型的趨勢下，專用高精度試驗T型槽平臺成為檢測的核心裝備，對推動產(chǎn)品品質(zhì)升級具有重要意義。
展開 
光學(xué)型輪廓儀專業(yè)檢測光學(xué)鏡片曲面
在現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)中，精密光學(xué)元件的制作是一項重要任務(wù)。而粗糙度是影響光學(xué)曲面質(zhì)量的重要因素之一。為確保光學(xué)元件的卓越性能，輪廓儀成為不可或缺的檢測工具。它以其超高精度、全自動化、多功能性和數(shù)據(jù)分析的特點，實現(xiàn)非球面鏡片的高精度專業(yè)檢測，解讀光學(xué)曲面的微妙變化。
光學(xué)鏡片曲面測量難點
1、幾何復(fù)雜性
光學(xué)鏡片具有各種各樣的幾何形狀，包括球面、非球面和自由曲面等。不同幾何形狀對測量方法和設(shè)備的要求各不相同，增加了測量的難度。
2、表面反射和折射
光學(xué)鏡片曲面的高反射和折射特性會影響信號的傳輸和測量結(jié)果的準確性。需要采取適當?shù)募夹g(shù)手段或選擇合適的涂層材料來減小這些影響。
3、鏡片尺寸和材料
大尺寸和特殊材料的光學(xué)鏡片曲面測量更具挑戰(zhàn)性。需要使用大型、高精度的測量設(shè)備，并制定相應(yīng)的測量策略和方法。
傳統(tǒng)的測量方法通常需要操作人員進行手動測量，不僅費時費力，而且容易受到人為因素的影響。而SJ5900光學(xué)型輪廓儀配備了高精度的傳感器和智能化的軟件，專業(yè)檢測光學(xué)鏡片曲面，實現(xiàn)自動化測量、數(shù)據(jù)分析，大大提高了測量的效率和一致性。自動化測量不僅可以減少人力投入，還能夠避免由于人為操作而引起的誤差。
直線度≤0.25μm/200mm，大范圍形貌微觀輪廓Pt≤0.3μm，測力最小0.5mN，無視微小凹凸、起伏，輕松應(yīng)對復(fù)雜的曲率和曲面結(jié)構(gòu)，準確檢測微觀輪廓參數(shù)、水平軸線夾角、光軸位置參數(shù)及頂點半徑誤差、斜率參數(shù)等。
非球面分析軟件
SJ5900光學(xué)型輪廓儀nm級高精密光學(xué)曲面測量。
展開 光學(xué)人的輔助工具｜成本低且效益高！適合光學(xué)器件生產(chǎn)檢測檢驗的產(chǎn)品
Lenscheck光學(xué)測試系統(tǒng)（傳函儀）
LenscheckVIS/LWIR是一個成本低效益高的產(chǎn)品，適合您的光學(xué)器件生產(chǎn)和產(chǎn)品原型檢測檢驗的需求。作為光學(xué)成像測試領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者，Optikos推出這款精簡、高效、易用的產(chǎn)品用于產(chǎn)品質(zhì)量檢測。Lenscheck包含了擁有專利的VideoMTF圖像分析軟件，以及實時的調(diào)制傳遞函數(shù)測試和分析。使用這種測試系統(tǒng)可以讓光學(xué)儀器廠家迅速、可靠的測試產(chǎn)品，降低產(chǎn)品及組件不合格的風險。
測量
● 軸上/離軸 調(diào)制傳遞函數(shù)MTF
● 離焦調(diào)制傳遞函數(shù)
● 有效焦距
● 后焦距
● 像散
● 場曲
● 位置色差，倍率色差
● 畸變
● 主光線角度
● 環(huán)繞能
● 透射率
● 相對照度
● 散射光
● 視線
特性
● 擁有專利的VideoMTF技術(shù)，可實時測量MTF
● 平臺靈活度高，可測試一系列不同參數(shù)
● 業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的精確度和可重復(fù)性
● 可具體配置的全自動測量程序
● 輕松切換各種波段（可見光/近紅外，短波紅外，長波紅外）
● 高分辨率的USB電機控制平移臺
● 集成的玻璃鱗片編碼器
● 50mm通光孔徑的折/反射式準直儀
● 集成的八個靶位的靶標輪和濾光片輪
● 自動定心的光學(xué)鏡頭支架
● 12bit實時視頻
展開 ASAP 高級光學(xué)系統(tǒng)分析軟件，光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制第28屆培訓(xùn)班
ASAP 高級光學(xué)系統(tǒng)分析軟件，光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制第28屆培訓(xùn)班
Zemax光學(xué)設(shè)計技術(shù)教程：共軸理想光學(xué)系統(tǒng)特性
今天為大家介紹一下光學(xué)設(shè)計的基礎(chǔ)——共軸理想光學(xué)系統(tǒng)特性，歡迎大家學(xué)習(xí)一下！
(1) 位于光軸上的物點對應(yīng)的共軛像點必然位于光軸上;位于過(包含)光軸的某一個截面內(nèi)的物點對應(yīng)的共軛像點必位于同一平面內(nèi);同時, 過(包含)光軸的任意截面成像性質(zhì)都是相同的。可用一個過(包含)光軸的截面來代表一個共軸系統(tǒng)。垂直于光軸的物平面, 它的共軛像平面也必然垂直于光軸。
(2) 垂直于光軸的平面物所成的共軛平面像的幾何形狀完全與物相似，在整個垂軸物平面上無論那一部分, 物和像的大小比例等于常數(shù)(橫向放大率)。
(3) 一個共軸理想光學(xué)系統(tǒng), 如果已知兩對共軛面的位置和橫向放大率; 或者一對共軛面的位置和橫向放大率, 以及軸上的兩對共軛點的位置, 則所有其它物點的像點都可以根據(jù)這些已知的共軛面和共軛點來表示。
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