橢圓偏振光譜分析的案例
VirtualLab Fusion應(yīng)用：氧化硅膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析
摘要
可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對(duì)光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對(duì)于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對(duì)輕微變化的涂層厚度有多敏感。
任務(wù)描述
鍍膜樣品
橢圓偏振分析儀
總結(jié) - 組件...
橢圓偏振系數(shù)測(cè)量
橢圓偏振分析儀測(cè)量反射系數(shù)（s-和p-極化分量）的比率??，并輸出相位差??，以及振幅分量Ψ，根據(jù)
在VirtualLab Fusion中，復(fù)數(shù)系數(shù)??p和??s是通過(guò)應(yīng)用嚴(yán)格耦合波分析（RCWA），也被稱(chēng)為傅里葉模態(tài)法（FMM）來(lái)計(jì)算。因此，在研究光柵樣品的情況下，這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。
橢圓偏振對(duì)小厚度變化的敏感性
為了評(píng)估橢偏儀對(duì)涂層厚度即使是非常小的變化的敏感性，對(duì)10納米厚的二氧化硅層和10.1納米厚的二氧化硅膜的結(jié)果進(jìn)行了比較。即使是厚度的微小變化，1埃的差異也高于普通橢圓偏振的分辨率（0.02°為??，0.1°為??*）。因此，即使是涂層中的亞納米變化也可以通過(guò)橢偏儀來(lái)測(cè)量。
* 數(shù)值根據(jù)Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
仿真結(jié)果與參考文獻(xiàn)的比較
被研究的SiO2層厚度變化為1埃時(shí)，??和??的差異。
展開(kāi) SiO2膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析
摘要
可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對(duì)光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對(duì)于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對(duì)輕微變化的涂層厚度有多敏感。
[VirtualLab] SiO2膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析
摘要
可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對(duì)光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對(duì)于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對(duì)輕微變化的涂層厚度有多敏感。
任務(wù)描述
鍍膜樣品
關(guān)于配置堆棧的更多信息。
利用界面配置光柵結(jié)構(gòu)
一般光柵組件能夠?qū)χ芷谛越Y(jié)構(gòu)進(jìn)行建模。在各向同性的情況下，使用一個(gè)非常小的周期，以確保只有0階會(huì)傳播。二氧化硅層也是根據(jù)參考文獻(xiàn)來(lái)定義的。
- 涂層厚度：10納米
- 涂層材料。二氧化硅
- 折射率：擴(kuò)展的Cauchy模型。
?? = 1.44, ?? = 0.00422????2, ?? = 1.89?? - 05????4
- 基板材料：晶體硅
- 入射角度。75°
橢圓偏振分析儀
橢圓偏振分析儀用于計(jì)算相位差??，以及反射光束的振幅分量Ψ。
有關(guān)該分析儀的更多信息可在這里找到。
橢圓偏振分析儀
總結(jié) - 組件...
橢圓偏振系數(shù)測(cè)量
橢圓偏振分析儀測(cè)量反射系數(shù)（s-和p-極化分量）的比率??，并輸出相位差??，以及振幅分量Ψ，根據(jù)
在VirtualLab Fusion中，復(fù)數(shù)系數(shù)??p和??s是通過(guò)應(yīng)用嚴(yán)格耦合波分析（RCWA），也被稱(chēng)為傅里葉模態(tài)法（FMM）來(lái)計(jì)算。因此，在研究光柵樣品的情況下，這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。
展開(kāi) VirtualLab Fusion應(yīng)用：氧化硅膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析
摘要
可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對(duì)光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對(duì)于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對(duì)輕微變化的涂層厚度有多敏感。
任務(wù)描述
鍍膜樣品
橢圓偏振分析儀
總結(jié) - 組件...
橢圓偏振系數(shù)測(cè)量
橢圓偏振分析儀測(cè)量反射系數(shù)（s-和p-極化分量）的比率??，并輸出相位差??，以及振幅分量Ψ，根據(jù)
在VirtualLab Fusion中，復(fù)數(shù)系數(shù)??p和??s是通過(guò)應(yīng)用嚴(yán)格耦合波分析（RCWA），也被稱(chēng)為傅里葉模態(tài)法（FMM）來(lái)計(jì)算。因此，在研究光柵樣品的情況下，這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。
橢圓偏振對(duì)小厚度變化的敏感性
為了評(píng)估橢偏儀對(duì)涂層厚度即使是非常小的變化的敏感性，對(duì)10納米厚的二氧化硅層和10.1納米厚的二氧化硅膜的結(jié)果進(jìn)行了比較。即使是厚度的微小變化，1埃的差異也高于普通橢圓偏振的分辨率（0.02°為??，0.1°為??*）。因此，即使是涂層中的亞納米變化也可以通過(guò)橢偏儀來(lái)測(cè)量。
* 數(shù)值根據(jù)Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
仿真結(jié)果與參考文獻(xiàn)的比較
被研究的SiO2層厚度變化為1埃時(shí)，??和??的差異。
展開(kāi) 
[VirtualLab] 橢圓偏振分析器
波長(zhǎng)和入射角的掃描
橢偏分析器包括一個(gè)選項(xiàng)，通過(guò)定義變化的范圍、步長(zhǎng)和步數(shù)來(lái)掃描波長(zhǎng)和入射角參數(shù)。
請(qǐng)注意，掃描的波長(zhǎng)范圍必須在所定義樣品材料定義的波長(zhǎng)范圍內(nèi)。
實(shí)例系統(tǒng)
請(qǐng)參閱完整的用例：SiO2涂層的可變角度橢偏光譜(VAS)分析
分析器的示例輸出
分析器的示例輸出——穆勒矩陣
文件信息
延伸閱讀
SiO2涂層的可變角度橢偏光譜(VAS)分析
VirtualLab：橢圓偏振分析器
摘要
橢圓偏振儀是一種光學(xué)測(cè)量方法，通常用于確定薄膜的介電特性。測(cè)量涉及確定不同波長(zhǎng)和入射角下從樣品反射或透射時(shí)光偏振態(tài)的變化。因此，它可用于表征成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶性能、導(dǎo)電性和其他材料特性。它對(duì)入射輻射與所研究材料相互作用的光學(xué)響應(yīng)變化非常敏感。此用例演示了橢圓偏振儀的基本原理，并說(shuō)明了 VirtualLab Fusion中內(nèi)置橢圓偏振分析器的使用。
橢圓偏振儀的基本原理
當(dāng)線(xiàn)偏振光(分解為一個(gè)偏振平行(??p,i)和一個(gè)垂直于入射面(??s,i)的波)與電介質(zhì)相互作用時(shí)，偏振態(tài)會(huì)發(fā)生變化。從入射波和反射(或透射)波之間的相移(??)，以及反射(或透射)振幅的比值(tan(??))，可以推導(dǎo)出介質(zhì)的介電特性(??, ??)。
橢圓偏振儀的基本原理
注意：類(lèi)似的考慮適用于透射情況，但為了簡(jiǎn)單起見(jiàn)，只討論反射。
將橢偏分析器加入系統(tǒng)
分析輸出
橢偏分析器可以計(jì)算光在所定義堆棧上反射或透射的結(jié)果。
該堆棧可以由單個(gè)或一定數(shù)量的層組成，也可以由1D或2D周期結(jié)構(gòu)(光柵)組成。
分析器在計(jì)算過(guò)程中配置光學(xué)設(shè)置的方向和位置。因此，不需要配置光源的位置，光學(xué)系統(tǒng)中的探測(cè)器或光源中的偏振態(tài)。
級(jí)次選擇
對(duì)于一個(gè)層堆棧，如果沒(méi)有橫向周期性，則應(yīng)選擇級(jí)次(0,0)。
如果使用光柵結(jié)構(gòu)作為樣品，可以通過(guò)在x和y上定義所研究的衍射級(jí)次的指數(shù)，來(lái)選擇所考慮的衍射級(jí)次。
對(duì)于一維周期光柵，第二指數(shù)應(yīng)為零。
輸出
角度定義
入射角可以用度(Deg)或弧度(Rad)來(lái)定義。
展開(kāi) 橢圓偏振分析器
當(dāng)線(xiàn)偏振光(分解為一個(gè)偏振平行(??p,i)和一個(gè)垂直于入射面(??s,i)的波)與電介質(zhì)相互作用時(shí)，偏振態(tài)會(huì)發(fā)生變化。從入射波和反射(或透射)波之間的相移(??)，以及反射(或透射)振幅的比值(tan(??))，可以推導(dǎo)出介質(zhì)的介電特性(??, ??)。
橢圓偏振儀的基本原理
橢圓偏振儀是一種光學(xué)測(cè)量方法，通常用于確定薄膜的介電特性。測(cè)量涉及確定不同波長(zhǎng)和入射角下從樣品反射或透射時(shí)光偏振態(tài)的變化。因此，它可用于表征成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶性能、導(dǎo)電性和其他材料特性。它對(duì)入射輻射與所研究材料相互作用的光學(xué)響應(yīng)變化非常敏感。此用例演示了橢圓偏振儀的基本原理，并說(shuō)明了 VirtualLab Fusion中內(nèi)置橢圓偏振分析器的使用。
級(jí)次選擇
分析器在計(jì)算過(guò)程中配置光學(xué)設(shè)置的方向和位置。因此，不需要配置光源的位置，光學(xué)系統(tǒng)中的探測(cè)器或光源中的偏振態(tài)。
該堆棧可以由單個(gè)或一定數(shù)量的層組成，也可以由1D或2D周期結(jié)構(gòu)(光柵)組成。
橢偏分析器可以計(jì)算光在所定義堆棧上反射或透射的結(jié)果。
展開(kāi) 9，comsol仿真線(xiàn)偏振平面光，圓偏振平面光，橢圓偏振平面光在真空中的傳播 ￥200
spm_id_from=333.999.0.0</a> ），介紹了使用背景場(chǎng)仿真線(xiàn)偏振，圓偏振，橢圓偏振在真空中的傳播。</p><p>具體如下：</p><p>1，平面光在真空中的傳播</p><div contenteditable="false" width="100%">
<img src="https://img.jishulink.com/upload/202202/f290a08d3f6c426aabffc7b5476e8eb3.gif" title="1，背景場(chǎng)-平面光.gif" alt="1，背景場(chǎng)-平面光.gif" style="max-width:760px;" data-mobile-src="https://img.jishulink.com/upload/202202/f290a08d3f6c426aabffc7b5476e8eb3.gif?image_process=/format,webp/quality,q_40/resize,w_400" data-pc-src="https://img.jishulink.com/upload/202202/f290a08d3f6c426aabffc7b5476e8eb3.gif?
展開(kāi) 基于橢圓偏振法的光學(xué)薄膜測(cè)量
橢圓偏振分析器
在最新發(fā)布的快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion 2023.1中，橢圓偏振分析器已被添加到該軟件不斷增加的功能陣列中。它提供了一個(gè)簡(jiǎn)單明了的方法，通過(guò)在模擬產(chǎn)生的電磁場(chǎng)結(jié)果上應(yīng)用橢圓偏振的概念來(lái)研究涂層、多層結(jié)構(gòu)和光柵的特性。此外，它還提供了在分析儀內(nèi)自動(dòng)掃描波長(zhǎng)和入射角的可能性，從而方便地生成典型的橢圓偏振曲線(xiàn)，這些曲線(xiàn)在擬合到一個(gè)模型后，可以繼續(xù)揭示我們?cè)噲D從這些實(shí)驗(yàn)中獲得的材料特性。你可以在下面找到解釋如何使用這個(gè)新的分析儀的文件鏈接，以及一個(gè)應(yīng)用于二氧化硅涂層測(cè)量的例子。
橢圓偏振法是一種光學(xué)測(cè)量方法，它利用了光在被表面反射（或透過(guò)）時(shí)發(fā)生的偏振變化，例如塊狀材料或薄膜。隨著時(shí)間的推移，它在半導(dǎo)體和光學(xué)涂層應(yīng)用中得到了普及，因?yàn)榕c傳統(tǒng)的反射測(cè)量相比，它的靈敏度更高。 因此，橢圓偏振法現(xiàn)在被用來(lái)準(zhǔn)確地表征不同樣品的成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶特性、導(dǎo)電性和其他材料特性。
展開(kāi) 基于橢圓偏振法的光學(xué)薄膜測(cè)量
橢圓偏振法是一種光學(xué)測(cè)量方法，它利用了光在被表面反射（或透過(guò)）時(shí)發(fā)生的偏振變化，例如塊狀材料或薄膜。隨著時(shí)間的推移，它在半導(dǎo)體和光學(xué)涂層應(yīng)用中得到了普及，因?yàn)榕c傳統(tǒng)的反射測(cè)量相比，它的靈敏度更高。因此，橢圓偏振法現(xiàn)在被用來(lái)準(zhǔn)確地表征不同樣品的成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶特性、導(dǎo)電性和其他材料特性。
在最新發(fā)布的快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion 2023.1中，橢圓偏振分析器已被添加到該軟件不斷增加的功能陣列中。它提供了一個(gè)簡(jiǎn)單明了的方法，通過(guò)在模擬產(chǎn)生的電磁場(chǎng)結(jié)果上應(yīng)用橢圓偏振的概念來(lái)研究涂層、多層結(jié)構(gòu)和光柵的特性。此外，它還提供了在分析儀內(nèi)自動(dòng)掃描波長(zhǎng)和入射角的可能性，從而方便地生成典型的橢圓偏振曲線(xiàn)，這些曲線(xiàn)在擬合到一個(gè)模型后，可以繼續(xù)揭示我們?cè)噲D從這些實(shí)驗(yàn)中獲得的材料特性。你可以在下面找到解釋如何使用這個(gè)新的分析儀的文件鏈接，以及一個(gè)應(yīng)用于二氧化硅涂層測(cè)量的例子。
橢圓偏振分析器
本用例展示了橢圓偏振法的基本原理，并說(shuō)明了VirtualLab Fusion中內(nèi)置的橢圓儀分析器的使用。
SiO2涂層的可變角度光譜橢圓偏振（VASE）分析
本用例說(shuō)明了在VirtualLab Fusion中實(shí)現(xiàn)的橢圓偏振分析器在文獻(xiàn)中的使用：Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999).
展開(kāi) [NEWSLETTER] 基于橢圓偏振法的光學(xué)薄膜測(cè)量
橢圓偏振法是一種光學(xué)測(cè)量方法，它利用了光在被表面反射（或透過(guò)）時(shí)發(fā)生的偏振變化，例如塊狀材料或薄膜。隨著時(shí)間的推移，它在半導(dǎo)體和光學(xué)涂層應(yīng)用中得到了普及，因?yàn)榕c傳統(tǒng)的反射測(cè)量相比，它的靈敏度更高。 因此，橢圓偏振法現(xiàn)在被用來(lái)準(zhǔn)確地表征不同樣品的成分、粗糙度、厚度、結(jié)晶特性、導(dǎo)電性和其他材料特性。
在最新發(fā)布的快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion 2023.1中，橢圓偏振分析器已被添加到該軟件不斷增加的功能陣列中。它提供了一個(gè)簡(jiǎn)單明了的方法，通過(guò)在模擬產(chǎn)生的電磁場(chǎng)結(jié)果上應(yīng)用橢圓偏振的概念來(lái)研究涂層、多層結(jié)構(gòu)和光柵的特性。此外，它還提供了在分析儀內(nèi)自動(dòng)掃描波長(zhǎng)和入射角的可能性，從而方便地生成典型的橢圓偏振曲線(xiàn)，這些曲線(xiàn)在擬合到一個(gè)模型后，可以繼續(xù)揭示我們?cè)噲D從這些實(shí)驗(yàn)中獲得的材料特性。你可以在下面找到解釋如何使用這個(gè)新的分析儀的文件鏈接，以及一個(gè)應(yīng)用于二氧化硅涂層測(cè)量的例子。
橢圓偏振分析器
本用例展示了橢圓偏振法的基本原理，并說(shuō)明了VirtualLab Fusion中內(nèi)置的橢圓儀分析器的使用。
SiO2涂層的可變角度光譜橢圓偏振（VASE）分析
本用例說(shuō)明了在VirtualLab Fusion中實(shí)現(xiàn)的橢圓偏振分析器在文獻(xiàn)中的使用：Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999).
展開(kāi) 
ACS Nano: 用納米球透鏡光刻法制備的偏振選擇III族氮化物橢圓納米棒發(fā)光二極管
電流注入的橢圓形納米棒發(fā)光二極管(LEDs)被證明發(fā)射具有底部發(fā)射結(jié)構(gòu)的偏振光。當(dāng)橢圓納米棒的短軸長(zhǎng)度小到150 nm時(shí)，電致發(fā)光的偏振比達(dá)到3.17。電磁模擬證實(shí)了極化選擇性的出現(xiàn)，特別是當(dāng)短軸長(zhǎng)度降至150 nm時(shí)。不同偏振的光在這些不對(duì)稱(chēng)橢圓納米棒中以不同的速度傳播。只有一種偏振直接來(lái)自光源的光和頂部金屬界面反射的光之間的相消干涉。加入薄的遮光層以增加偏振選擇性。作者也不建議用二氧化硅填充間隙，因?yàn)闃O化選擇性會(huì)降低。所提出的納米棒LEDs是通過(guò)結(jié)合納米球透鏡光刻和兩步蝕刻工藝使用自上而下納米制造方法制造的，這兩種工藝都與當(dāng)前的半導(dǎo)體制造工藝完全兼容。這項(xiàng)研究的結(jié)果將有助于開(kāi)發(fā)芯片級(jí)偏振選擇LED，這對(duì)于需要偏振光的應(yīng)用非常有用。對(duì)于不適合使用外部偏振器或需要在單個(gè)芯片級(jí)偏振光的應(yīng)用來(lái)說(shuō)，這是特別有益的。
【圖文導(dǎo)讀】
圖1. 制備示意圖以及微觀(guān)形貌
(a–d) 各制造步驟后樣品的示意圖；
在干ICP蝕刻之后，截頭圓錐形納米棒的(e)頂視圖和(g)傾斜視圖SEM圖像；
(f) 濕法蝕刻后納米棒的頂視圖和(h)傾斜視圖SEM圖像；
圖2.
展開(kāi) VirtualLab運(yùn)用：切爾尼-特納光譜儀—光譜分辨率的分析
光學(xué)測(cè)量＞光譜儀
任務(wù)/系統(tǒng)描述
亮點(diǎn)
復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的高性能分析
使用嚴(yán)格算法對(duì)光柵進(jìn)行嚴(yán)格矢量分析
說(shuō)明：光源
說(shuō)明：孔徑
說(shuō)明：拋物面反射鏡
說(shuō)明：光柵
說(shuō)明：探測(cè)器
結(jié)果：3D光線(xiàn)追跡
結(jié)果：波長(zhǎng)的變化
由于波長(zhǎng)的變化，入瞳的像可經(jīng)過(guò)探測(cè)器孔徑進(jìn)行掃描
結(jié)果：?jiǎn)紊珒x的分辨率
光譜分辨率的定義：
光譜分辨率：A=1244
文件&技術(shù)信息
分析手持式光譜儀與直讀光譜儀有什么樣的區(qū)別?
光譜儀有許多種類(lèi)，包括我們常用的手持式光譜儀與直讀光譜儀，便攜式光譜儀等，那么，你知道手持式光譜儀與直讀光譜儀有什么區(qū)別嗎?
直讀光譜儀:
? 直讀光譜儀是定量分析，測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確，重復(fù)性好，長(zhǎng)期穩(wěn)定。
手持式光譜儀:
手持式光譜儀是定性和半定量分析。用于標(biāo)識(shí)材料等級(jí)。該測(cè)試很方便，但是不能測(cè)量精度要求很高的材料。
一、檢測(cè)試樣的大小不同
直讀光譜儀對(duì)樣品量有嚴(yán)格的要求。樣品必須至少具有不小于激發(fā)腔的平坦表面，并且厚度不得小于1.5mm(通常建議不小于3mm)，并且手持式光譜儀的尺寸和厚度應(yīng)與樣品。沒(méi)有如此高的要求，可以測(cè)試普通樣品。
二、檢測(cè)環(huán)境不同
??直讀光譜儀只能在實(shí)驗(yàn)室使用，環(huán)境溫度和濕度的波動(dòng)不應(yīng)太大，嚴(yán)重影響檢測(cè)效果;手持式光譜儀可以檢測(cè)室內(nèi)或室外工作。
三、測(cè)試樣品的損壞程度不同
??直讀光譜儀是一種破壞性測(cè)試。在激發(fā)過(guò)程中，將在材料表面形成直徑約8毫米的小凹坑。直讀光譜儀不適用于貴重和裝飾性金屬。手持式光譜儀是非破壞性測(cè)試。測(cè)試本身不會(huì)影響樣品。有任何不良影響。在靈活性方面，手持式光譜儀還具有很高的利用率。用于測(cè)試樣品的直讀光譜儀的尺寸必須適合該表。測(cè)試前必須銷(xiāo)毀過(guò)多和較長(zhǎng)的樣本。
四、數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性不同
??碳和氮的兩個(gè)元素只能通過(guò)直讀光譜儀檢測(cè)。建議使用直讀光譜儀來(lái)準(zhǔn)確地確定非金屬元素，例如磷和硫，以及對(duì)準(zhǔn)確性有較高要求的地方(要求數(shù)據(jù)波動(dòng)低于0.05%);通常建議使用手持式光譜儀進(jìn)行品牌識(shí)別或其他定性和半定性定量精度要求。
展開(kāi) 光柵偏振分析器
-分析器提供了一個(gè)內(nèi)置的Parameter Run功能，用于分析指定范圍內(nèi)的波長(zhǎng)和/或入射角的目標(biāo)函數(shù)。
例子
-對(duì)于歐拉角，可以改變Psi、Theta和Phi的角度。
-對(duì)于笛卡爾角，可以改變Alpha、Beta和Zeta的角度。
-對(duì)于方向角，Zeta角可以改變。
-對(duì)于球面角，Theta、Phi和Zeta角可以被改變。
如果您在光學(xué)設(shè)置中創(chuàng)建一個(gè)新的偏振分析器，偏振分析器中的角度定義類(lèi)型將根據(jù)該光學(xué)設(shè)置中光柵組件的方向定義類(lèi)型來(lái)設(shè)置，即：
入射角定義的注意事項(xiàng)：
