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此用例演示了橢圓偏振儀的基本原理，并說明了 VirtualLab Fusion中內置橢圓偏振分析器的使用。 橢圓偏振儀的基本原理 當線偏振光(分解為一個偏振平行(??p,i)和一個垂直于入射面(??s,i)的波)與電介質相互作用時，偏振態會發生變化。

摘要橢圓偏振儀是一種光學測量方法，通常用于確定薄膜的介電特性。測量涉及確定不同波長和入射角下從樣品反射或透射時光偏振態的變化。因此，它可用于表征成分、粗糙度、厚度、結晶性能、導電性和其他材料特性。它對入射輻射與所研究材料相互作用的光學響應變化非常敏感。此用例演示了橢圓偏振儀的基本原理，并說明了 VirtualLab Fusion中內置橢圓偏振分析器的使用。

此用例演示了橢圓偏振儀的基本原理，并說明了 VirtualLab Fusion中內置橢圓偏振分析器的使用。 級次選擇 分析器在計算過程中配置光學設置的方向和位置。

摘要可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術，由于其對光學參數的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結構的應用中，如半導體、光學涂層、數據存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統的參數，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I.

摘要可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術，由于其對光學參數的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結構的應用中，如半導體、光學涂層、數據存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統的參數，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I.

摘要可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術，由于其對光學參數的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結構的應用中，如半導體、光學涂層、數據存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統的參數，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I.

摘要 可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術，由于其對光學參數的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結構的應用中，如半導體、光學涂層、數據存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統的參數，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。

任務描述 本文件的主題是使用偏振分析器研究光柵的衍射階數的偏振狀態。 光柵式光學裝置中的偏振分析器 編輯偏振分析器 -該分析器計算了所定義結構的每個衍射階數的兩個正交偏振狀態的效率之和（無論是透射還是反射）。-為此，在相應系統的光柵組件中配置的光柵被使用。

如果您在光學設置中創建一個新的偏振分析器，偏振分析器中的角度定義類型將根據該光學設置中光柵組件的方向定義類型來設置，即： 入射角定義的注意事項：

橢圓偏振分析器 本用例展示了橢圓偏振法的基本原理，并說明了VirtualLab Fusion中內置的橢圓儀分析器的使用。 SiO2涂層的可變角度光譜橢圓偏振（VASE）分析 本用例說明了在VirtualLab Fusion中實現的橢圓偏振分析器在文獻中的使用：Woollam et al., Proc.

內置的參數運行功能 入射角定義的注意事項： 如果您在光學設置中創建一個新的偏振分析器，偏振分析器中的角度定義類型將根據該光學設置中光柵組件的方向定義類型來設置，即： -對于球面角，Theta、Phi和Zeta角可以被改變。 -對于方向角，Zeta角可以改變。

此外，它還提供了在分析儀內自動掃描波長和入射角的可能性，從而方便地生成典型的橢圓偏振曲線，這些曲線在擬合到一個模型后，可以繼續揭示我們試圖從這些實驗中獲得的材料特性。你可以在下面找到解釋如何使用這個新的分析儀的文件鏈接，以及一個應用于二氧化硅涂層測量的例子。橢圓偏振分析器本用例展示了橢圓偏振法的基本原理，并說明了VirtualLab Fusion中內置的橢圓儀分析器的使用。

橢圓偏振分析器 在最新發布的快速物理光學軟件VirtualLab Fusion 2023.1中，橢圓偏振分析器已被添加到該軟件不斷增加的功能陣列中。它提供了一個簡單明了的方法，通過在模擬產生的電磁場結果上應用橢圓偏振的概念來研究涂層、多層結構和光柵的特性。

內置的參數運行功能 入射角定義的注意事項：如果您在光學設置中創建一個新的偏振分析器，偏振分析器中的角度定義類型將根據該光學設置中光柵組件的方向定義類型來設置，即：-對于球面角，Theta、Phi和Zeta角可以被改變。-對于方向角，Zeta角可以改變。-對于笛卡爾角，可以改變Alpha、Beta和Zeta的角度。

偏振片模型 考慮一個簡單的偏振片系統，包括隨機偏振光，接著是虛擬表面、x偏振片和探測表面。相干光源由在z方向傳播的10 ×10橢圓網格創建。光源的偏振態定義為“偏振”&“隨機性”，取決于(i)橢圓率(ii)旋轉方向(iii)橢圓偏振角。虛擬和探測器表面具有“Absorb”涂層和“Halt All”光線追跡控制的橢圓平面。分析面分配到了每個平面。

偏振片模型 考慮一個簡單的偏振片系統，包括隨機偏振光，接著是虛擬表面、x偏振片和探測表面。相干光源由在z方向傳播的10 ×10橢圓網格創建。光源的偏振態定義為“偏振”&“隨機性”，取決于(i)橢圓率(ii)旋轉方向(iii)橢圓偏振角。虛擬和探測器表面具有“Absorb”涂層和“Halt All”光線追跡控制的橢圓平面。分析面分配到了每個平面。

然而，在偏振光瞳圖并不是這樣的，它會在笛卡爾坐標圖中顯示出特定表面處的電場向量 (Ex, Ey) 的端點在一個時間周期內的軌跡。這是由于相位不同造成了偏振橢圓方向不同。對于大多數計算，OpticStudio分析偏振橢圓時是沿時間軸的正向還是反向并不重要，這是因為我們假設系統為穩態系統。在默認設置下，分析計算都是沿時間軸正向的（光線即將入射到特定表面的時候）。

然而，在偏振光瞳圖并不是這樣的，它會在笛卡爾坐標圖中顯示出特定表面處的電場向量 (Ex, Ey) 的端點在一個時間周期內的軌跡。這是由于相位不同造成了偏振橢圓方向不同。對于大多數計算，OpticStudio分析偏振橢圓時是沿時間軸的正向還是反向并不重要，這是因為我們假設系統為穩態系統。在默認設置下，分析計算都是沿時間軸正向的（光線即將入射到特定表面的時候）。

使用模式2和45度線偏振輸入光束，輸出是完美的軸上圓偏振光。這與真正的零階波片（見下表）完全匹配預期結果。 然而，隨著光束入射角的增加，有效的零級板開始增加比真正的零級板更多的延遲，導致橢圓偏振光并最終接近線性偏振光。在31.5度時，有效的零級片基本上用作半波片而不是四分之一波片。 分析這些系統在僅考慮普通或特殊光束時的行為方式也很有趣。

使用模式2和45度線偏振輸入光束，輸出是完美的軸上圓偏振光。這與真正的零階波片（見下表）完全匹配預期結果。 然而，隨著光束入射角的增加，有效的零級板開始增加比真正的零級板更多的延遲，導致橢圓偏振光并最終接近線性偏振光。在31.5度時，有效的零級片基本上用作半波片而不是四分之一波片。 分析這些系統在僅考慮普通或特殊光束時的行為方式也很有趣。