光刻膠及配套材料的案例
市場(chǎng) | 南大光電光刻膠再獲突破，在邏輯芯片55nm節(jié)點(diǎn)獲客戶(hù)認(rèn)證
認(rèn)證評(píng)估結(jié)果顯示，本次認(rèn)證系選擇客戶(hù) 55nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)邏輯芯片產(chǎn)品的工藝進(jìn)行驗(yàn)證，寧波南大光電研發(fā)的 ArF 光刻膠的測(cè)試良率結(jié)果符合要求，具備 55nm 平臺(tái)后段金屬布線層的工藝要求。
據(jù)悉，南大光電從事先進(jìn)前驅(qū)體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料三類(lèi)半導(dǎo)體材料產(chǎn)品生產(chǎn)、研發(fā)和銷(xiāo)售。2020年底，南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品通過(guò)下游客戶(hù)的使用認(rèn)證，成為通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠，各項(xiàng)光學(xué)性能均達(dá)到商用膠水平。
南大光電目前已完成兩條光刻膠生產(chǎn)線的建設(shè)，正在推動(dòng)ArF光刻膠的客戶(hù)驗(yàn)證和量產(chǎn)工作，相關(guān)配套材料產(chǎn)業(yè)化也在穩(wěn)步推進(jìn)。半個(gè)月前，南大光電曾在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，公司已建成25噸光刻膠生產(chǎn)線，生產(chǎn)線已具備批量生產(chǎn)的條件。
公告同時(shí)提示，ArF 光刻膠產(chǎn)品與本次認(rèn)證通過(guò)的客戶(hù)之間的產(chǎn)品銷(xiāo)售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商之中。ArF 光刻膠的復(fù)雜性決定了其在穩(wěn)定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風(fēng)險(xiǎn)，不僅需要技術(shù)攻關(guān)，還需要在應(yīng)用中進(jìn)行工藝的改進(jìn)、完善，這些都會(huì)決定 ArF 光刻膠的量產(chǎn)規(guī)模和經(jīng)濟(jì)效益。公司將根據(jù)后續(xù)進(jìn)展履行信息披露義務(wù)。
展開(kāi) A股光刻膠飆漲背后：僅一家可供應(yīng)高端光刻膠
南大光電：子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠已通過(guò)客戶(hù)認(rèn)證
南大光電是一家專(zhuān)業(yè)從事先進(jìn)電子材料高純金屬有機(jī)化合物的研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售的高新技 術(shù)企業(yè)，對(duì)關(guān)鍵技術(shù)擁有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，亦是全球 MO 源領(lǐng)導(dǎo)供應(yīng)商之一，產(chǎn)品主要應(yīng)用于下游制備 LED 外延片等。在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域，南大光電擬投資 6.56 億元，3 年建成年產(chǎn) 25 噸 193nm（ArF 干式和浸沒(méi)式）光刻膠生產(chǎn)線，該啟動(dòng)項(xiàng)目已獲得國(guó)家 02專(zhuān)項(xiàng)正式立項(xiàng)。2020 年 11 月 6 日，南大光電披露 2020 年度向特定對(duì)象發(fā)行股票預(yù)案， 擬向特定對(duì)象發(fā)行股票的募集資金總額不超過(guò) 6.35 億元，其中 1.5 億元擬用于先進(jìn)光刻 膠及高純配套材料的開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化、ArF 光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。
上海新陽(yáng)：主攻KrF和干法ArF光刻膠，目前已進(jìn)入產(chǎn)能建設(shè)階段
上海新陽(yáng)是以技術(shù)為主導(dǎo)，立足于自主創(chuàng)新的高新技術(shù)企業(yè)，專(zhuān)業(yè)從事半導(dǎo)體行業(yè)所需電子化學(xué)品及配套設(shè)備的研發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造和銷(xiāo)售服務(wù)，致力于為用戶(hù)提供化學(xué)材料、配套設(shè)備、應(yīng)用工藝和現(xiàn)場(chǎng)服務(wù)一體化的整體解決方案。上海新陽(yáng)主攻 KrF 和干法 ArF 光刻膠，已經(jīng)進(jìn)入產(chǎn)能建設(shè)階段。根據(jù) 2020 年 11 月 3 日定增預(yù)案，公司擬定增募資不超過(guò)14.50 億元，其中 8.15 億元擬投資于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目，主要目標(biāo)為實(shí)現(xiàn) ArF 干法工藝使用的光刻膠和面向 3D NAND 臺(tái)階刻蝕的 KrF 厚膜光刻膠的產(chǎn)業(yè)化，力爭(zhēng)于 2023 年前實(shí)現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白。
展開(kāi) 砥礪前行的國(guó)內(nèi)光刻膠
趨勢(shì)：國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫，國(guó)內(nèi)企業(yè)追風(fēng)趕月
背景及政策|政策持續(xù)加碼，
國(guó)產(chǎn)替代乃大勢(shì)所趨
政策頻出，為國(guó)產(chǎn)替代浪潮推波助瀾：
光刻膠是集成電路領(lǐng)域微加工的關(guān)鍵性材料，為推動(dòng)光刻膠等半導(dǎo)體材料行業(yè)的發(fā)展，國(guó)家、地方層面政策先后出臺(tái)。
其中，既有國(guó)家層面印發(fā)的戰(zhàn)略性、鼓勵(lì)性、支持性政策等，也有各個(gè)省市進(jìn)一步落實(shí)國(guó)家政策發(fā)布的規(guī)劃、意見(jiàn)、指導(dǎo)目錄等。
尤其在中美貿(mào)易沖突的影響下，產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈安全和自主可控成為重中之重，國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫，乃行業(yè)發(fā)展的大勢(shì)所趨。
與光刻膠相關(guān)的政策：
2014.06國(guó)務(wù)院《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》：從國(guó)家戰(zhàn)略層面系統(tǒng)全面的為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)定下發(fā)展方向和重點(diǎn)，其中提出要開(kāi)發(fā)光刻膠等關(guān)鍵材料，研發(fā)光刻機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備，增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)配套能力。
2015.05商務(wù)部《國(guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域（2015）》：將分辨率光刻膠及配套化學(xué)品列入“精細(xì)化學(xué)品”大類(lèi)下的“電子化學(xué)品”項(xiàng)。
2017.05科技部“十三五”先進(jìn)制造技術(shù)領(lǐng)域科技創(chuàng)新專(zhuān)項(xiàng)規(guī)劃》：將深紫外光刻膠列為極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝的關(guān)鍵材料。
2019.12工信部《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄(2019年版)》：將集成電路用光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑、ArF光刻膠用脂環(huán)族環(huán)氧樹(shù)脂、g/i線正性光刻膠用酚醛樹(shù)脂列入推薦材料。
展開(kāi) 華為進(jìn)軍光刻膠！一文看懂光刻膠市場(chǎng)
——以下內(nèi)容已上傳【半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)研究】知識(shí)星球，成員可登錄星球搜索關(guān)鍵詞“光刻膠”下載（文末查看如何成為星球成員）。
8月10日，工商信息顯示，華為哈勃新增對(duì)外投資徐州博康信息化學(xué)品有限公司（徐州博康屬博康集團(tuán)旗下材料版塊企業(yè)，是集研發(fā)、生產(chǎn)、經(jīng)營(yíng)中高端光刻膠、光刻膠單體和光刻膠樹(shù)脂為主的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)）。徐州博康注冊(cè)資本增幅11.11%，同時(shí)新增華為哈勃為股東。
《光刻膠行業(yè)深度研究報(bào)告》
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展開(kāi) 
半導(dǎo)體材料簡(jiǎn)介─光刻膠
半導(dǎo)體光刻膠的分類(lèi)及特點(diǎn)
資料來(lái)源：龐玉蓮，鄒應(yīng)全《光刻材料的發(fā)展及應(yīng)用》
根據(jù)光刻膠在曝光過(guò)程中對(duì)光線的反應(yīng)，可以分為正性光刻膠（正膠）和負(fù)性光刻膠（負(fù)膠）。正性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，受光照射后感光部分將發(fā)生分解反應(yīng)，可溶于顯影液，未感光部分不溶于顯影液，仍然保留在襯底上，將與掩膜上相同的圖形復(fù)制到襯底上。正性光刻膠響應(yīng)波長(zhǎng)為330-430納米，膠膜厚為1-3微米。負(fù)性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，在顯影溶液的作用下，負(fù)性光刻膠曝光部分產(chǎn)生交聯(lián)反應(yīng)而不溶于顯影液；未曝光部分溶于顯影液，將與掩膜上相反的圖形復(fù)制到襯底上。負(fù)性光刻膠響應(yīng)波長(zhǎng)為 330-430 納米，膠膜厚0.3-1微米。正性光刻膠的分辨率更高，無(wú)溶脹現(xiàn)象。因此，正性光刻膠的應(yīng)用比負(fù)性光刻膠更為普及。
圖2. 負(fù)性光刻膠和負(fù)性光刻膠
資料來(lái)源：Lam Research
根據(jù)在曝光時(shí)的光化學(xué)反應(yīng)過(guò)程的不同，光刻膠可以分為光聚合型、光分解型、光交聯(lián)型和化學(xué)放大四種類(lèi)型。光聚合型是最為初級(jí)的材料類(lèi)型，通過(guò)烯類(lèi)單體在光作用下可產(chǎn)生自由基，生成聚化物的特性，常用于制造正型光刻膠。光分解型光刻膠采用含有重氮醌類(lèi)化合物材料作為感光劑，光線照射后發(fā)生光分解反應(yīng)，由油性變?yōu)樗匀軇芍圃煺?em>光刻膠。光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯作為光敏材料，光線照射后形成一種網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的不溶物，可起到抗蝕作用，適用于制成負(fù)性光刻膠。化學(xué)放大型光刻膠使用光致酸劑作為光引發(fā)劑，光線照射后，曝光區(qū)域的光致酸劑會(huì)產(chǎn)生一種酸，并在后熱烘培工序期間作為催化劑移除樹(shù)脂的保護(hù)基團(tuán)，使樹(shù)脂變得可溶。化學(xué)放大光刻膠對(duì)深紫外光源具有良好的光敏性，具有高對(duì)比度、分辨率等優(yōu)點(diǎn)。
圖3.
展開(kāi) 光刻膠｜JSR、SK海力士聯(lián)合研制DRAM EUV光刻膠
年主要半導(dǎo)體ArF/ArFi光刻膠材料廠商市場(chǎng)分析
第三章：正型光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)分析
一、 全球顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1.2016-2025全球顯示面板光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2.2016-2025全球顯示面板光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
二、 中國(guó)顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1.2016-2025中國(guó)顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2.2016-2025中國(guó)顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
三、全球半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1. 2016-2025全球半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2. 2016-2025全球半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
四、中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1. 2016-2025中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2. 2016-2025中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
五、全球光敏劑材料供應(yīng)鏈及市場(chǎng)分析
1.
展開(kāi) 半導(dǎo)體光刻膠系列報(bào)告：國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)迎來(lái)重大機(jī)遇
——以下內(nèi)容摘自《中國(guó)化工新時(shí)代系列報(bào)告之半導(dǎo)體光刻膠》，已上傳【半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)研究】知識(shí)星球，成員可登錄星球搜索關(guān)鍵詞下載（文末查看如何成為星球成員）。
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光刻膠 | 三星SDI欲打破日本壟斷！已著手開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體光刻膠
CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，
經(jīng)確認(rèn)，三星
SDI已著手開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體
光刻膠（
PR）。
據(jù)分析，此舉一方面為了打破日本廠商的壟斷實(shí)現(xiàn)光刻膠的韓國(guó)國(guó)產(chǎn)化，另外從公司角度看，也可擺脫電子材料事業(yè)部的單一銷(xiāo)售結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售多元化。
據(jù)韓媒Sedaily6月20日消息，三星SDI電子材料事業(yè)部最近向研究所入庫(kù)了用于開(kāi)發(fā)PR的8英寸晶圓曝光及履帶設(shè)備。據(jù)悉，在三星SDI電子材料開(kāi)發(fā)室室長(zhǎng)金相均的帶領(lǐng)下，還進(jìn)行了PR研究部門(mén)的重整及力量強(qiáng)化。公司還通過(guò)公開(kāi)招聘，聘請(qǐng)了利用光刻膠的的半導(dǎo)體曝光領(lǐng)域的專(zhuān)家。
三星SDI開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體光刻膠的舉措將對(duì)韓國(guó)半導(dǎo)體材料國(guó)產(chǎn)化產(chǎn)生重大的影響。作為半導(dǎo)體工藝中必不可少的物質(zhì)，光刻膠一直被日本廠商所壟斷。光刻膠也是2019年日本政府對(duì)韓國(guó)出口管制時(shí)，被指定為出口限制清單之一。
當(dāng)時(shí)，日本僅限制出口尖端工藝用材料—極紫外線(EUV)光刻膠。但通用的ArF、KrF光刻膠卻被日本材料廠商獨(dú)食。比如，用于制造CMOS圖像傳感器的KrF光刻膠，日本富士公司占據(jù)大部分市場(chǎng)份額，技術(shù)領(lǐng)先。
自日本出口管制事件以來(lái)，日本TOK、美國(guó)杜邦等廠商為了實(shí)現(xiàn)光刻膠本地化生產(chǎn)，一直有推動(dòng)供應(yīng)鏈重塑的行動(dòng)。
展開(kāi) 光刻膠 | 韓國(guó)實(shí)現(xiàn)OLED面板用光刻膠國(guó)產(chǎn)化，已出貨三星
1.2016-2025全球顯示面板光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2.2016-2025全球顯示面板光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
二、 中國(guó)顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1.2016-2025中國(guó)顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2.2016-2025中國(guó)顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
三、全球半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1. 2016-2025全球半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2. 2016-2025全球半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
四、中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1. 2016-2025中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2. 2016-2025中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
五、全球光敏劑材料供應(yīng)鏈及市場(chǎng)分析
1.
展開(kāi) 光刻膠｜中國(guó)市場(chǎng)持續(xù)增長(zhǎng)！光刻膠巨頭JSR積極擴(kuò)大在華業(yè)務(wù)
1.2016-2025全球顯示面板光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2.2016-2025全球顯示面板光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
二、 中國(guó)顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1.2016-2025中國(guó)顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2.2016-2025中國(guó)顯示面板光刻膠用光敏劑市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
三、全球半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1. 2016-2025全球半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2. 2016-2025全球半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
四、中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑市場(chǎng)現(xiàn)狀及趨勢(shì)
1. 2016-2025中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)容量及預(yù)測(cè)
2. 2016-2025中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠用光敏劑材料市場(chǎng)規(guī)模及預(yù)測(cè)
五、全球光敏劑材料供應(yīng)鏈及市場(chǎng)分析
1.
展開(kāi) 光刻膠：核心半導(dǎo)體材料，步入國(guó)產(chǎn)替代機(jī)遇期
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光刻膠｜總投資1.03億！國(guó)科天驥超高精細(xì)光刻膠項(xiàng)目試生產(chǎn)
光刻是大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路制備過(guò)程中最重要的工藝過(guò)程之一，而作為光刻工藝中使用的核心材料，超高精細(xì)光刻膠也成為了半導(dǎo)體工業(yè)中最關(guān)鍵的材料之一，是制約我國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)健康發(fā)展的“卡脖子”材料。
面對(duì)我國(guó)對(duì)光刻膠快速增長(zhǎng)的需求，國(guó)產(chǎn)高檔半導(dǎo)體光刻膠還處于空白狀況。
國(guó)科天驥（濱州）新材料有限責(zé)任公司的“超高精細(xì)光刻膠項(xiàng)目”將可以填補(bǔ)上述國(guó)內(nèi)空白。
半導(dǎo)體光刻膠具有廣闊的經(jīng)濟(jì)前景。
目前，國(guó)內(nèi)外光刻膠市場(chǎng)日益增長(zhǎng)。
預(yù)計(jì)到2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將突破100億美元。
而隨著微電子制造業(yè)精細(xì)度不斷提升，高檔光刻膠的占比也將不斷增大。
國(guó)科天驥的“超高精細(xì)光刻膠項(xiàng)目”將為保障國(guó)家核心技術(shù)產(chǎn)業(yè)的戰(zhàn)略安全貢獻(xiàn)力量，同時(shí)也帶來(lái)顯著的社會(huì)效益和經(jīng)濟(jì)效益，將有利于光刻膠上下游產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，吸引更多高精尖、高技術(shù)企業(yè)來(lái)濱州投資。
儀式結(jié)束后，與會(huì)領(lǐng)導(dǎo)嘉賓參觀考察了國(guó)科天驥新材料有限責(zé)任公司、魏橋國(guó)科、渤海先進(jìn)技術(shù)研究院等處。
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展開(kāi) 光刻膠｜年產(chǎn)1.1萬(wàn)噸！上海彤程半導(dǎo)體光刻膠及高純?cè)噭╉?xiàng)目開(kāi)工
來(lái)源 ：彤程新材官微
快速切入半導(dǎo)體光刻膠，面板光刻膠市場(chǎng)，早日攻克高端光刻膠的難關(guān)，解決“卡脖子”問(wèn)題，助力國(guó)家集成電路發(fā)展。5月26日，上海彤程電子材料有限公司“半導(dǎo)體光刻膠及高純?cè)噭╉?xiàng)目”已在上海化學(xué)工業(yè)區(qū)順利開(kāi)工，計(jì)劃年內(nèi)機(jī)械竣工。
彤程新材料集團(tuán)股份有限公司高級(jí)副總裁袁敏健表示：“今天我們攜手中電子第四建設(shè)在這里舉行光刻膠項(xiàng)目開(kāi)工儀式，共同見(jiàn)證‘彤程電子光刻膠’“”項(xiàng)目打下第一根樁，這對(duì)于彤程新材一體兩翼，三箭齊發(fā)的發(fā)展戰(zhàn)略具有里程碑式的意義。”
當(dāng)天，項(xiàng)目施工方中國(guó)電子系統(tǒng)工程第四建設(shè)有限公司副總裁譚松林等出席。“樹(shù)形象、降成本、抓質(zhì)量、保安全。”譚松林表示，“我們將全力解決項(xiàng)目建設(shè)過(guò)程中的全部問(wèn)題”。
彤程新材料集團(tuán)股份有限公司總裁周建輝說(shuō)：
“彤程電子將通過(guò)全面支持其子品牌科華微電子和北旭電子，加速光刻膠產(chǎn)品研發(fā)，并積極關(guān)注周邊濕法電子化學(xué)品的投資機(jī)會(huì)，全面助力國(guó)家集成電路發(fā)展。
未來(lái)，可形成年產(chǎn)1.1萬(wàn)噸半導(dǎo)體光刻膠及2萬(wàn)噸相關(guān)配套溶劑。
”
交流融通，為民族品牌賦能，為傳統(tǒng)企業(yè)求新，提升本土企業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)力。作為上海市“十四五”開(kāi)局落地的首批重大216個(gè)產(chǎn)業(yè)項(xiàng)目之一，彤程電子聚焦制造業(yè)中的集成電路領(lǐng)域，在上海化工區(qū)新建半導(dǎo)體光刻膠及配套試劑項(xiàng)目，進(jìn)一步推動(dòng)光刻膠生產(chǎn)本土化。
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光刻膠：核心半導(dǎo)體材料，步入國(guó)產(chǎn)替代機(jī)遇期
大硅片、光刻膠、FMM等8大高度依賴(lài)進(jìn)口的半導(dǎo)體材料大解析
目前國(guó)內(nèi)光刻膠自給率僅10%，主要集中于技術(shù)含量相對(duì)較低的PCB領(lǐng)域。6英寸硅片的g/i線光刻膠的自給率約為20%，8英寸硅片的KrF光刻膠的自給率不足5%，12寸硅片的ArF光刻膠目前尚無(wú)國(guó)內(nèi)企業(yè)可以大規(guī)模生產(chǎn)。
