雙面鍍膜模擬
關(guān)注創(chuàng)建者：匿名 創(chuàng)建時間：2026-01-04
雙面鍍膜模擬的視頻教程
基于ABAQUS的帶構(gòu)造邊緣構(gòu)件的L形雙面疊合剪力墻抗震模擬
本課程選取武漢理工大學做的一個帶構(gòu)造邊緣構(gòu)件的Ｌ形雙面疊合剪力墻的低周往復加載試驗，發(fā)表于《建筑科學與工程學報》。課程主要內(nèi)容包括： （1）一步步在CAD建模，然后導入到ABAQUS進行前處理； （2）新老混凝土疊合面采用Cohesive+庫倫摩擦混合接觸屬性。
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雙面鍍膜模擬的實例教程
這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
為什么介質(zhì)或基板不支持干涉？這是一個系統(tǒng)問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應很小，但對它們所代表的相位變化有很大影響，因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當各種光線組合在一起時，干涉條紋會被沖掉，只留下總的輻照度。在單個設(shè)計文檔時，我們總是假設(shè)使用完全準直的單色光，其中入射角和波長變化的相應影響通常很小，可以忽略不計，從而在設(shè)計中存在完全相干效應。
圖1.基板足夠厚時，無需考慮干涉效應。如果考慮基板的干涉，要將基板看成一層薄膜，而整個系統(tǒng)看作一個膜系
另一個問題是，如果角度或波長的變化仍然較大，即使設(shè)計中的層也顯示出減少的干涉效應，那么會發(fā)生什么，什么叫做部分相干？此工具存在于Stack文檔中。計算參數(shù)包括光中缺少準直性（以圓錐半角表示）和缺少單色性（以光譜帶寬表示）的影響。這些在Design文檔中不可用（除非在Stack中設(shè)置，稍后將介紹）。
Stack中的第一列是標題為Medium Type，這里有兩種選擇：Parallel以及Wedge。透射或反射的光將由某種接收器收集，這種接收器在計算中假定為均勻靈敏度。此接收器可能無法收集在不同表面之間來回反射后最終出現(xiàn)的所有光束。兩種極端情況是收集所有光束，以便沒有丟失，這種情況稱為Parallel。 另一個極端是它只收集從離它最近的表面反射一次的光束，這種情況被稱為Wedged。假設(shè)所有其他反射光束走出系統(tǒng)，在傳輸中，那么Wedge不收集反射光束。如果我們有成像系統(tǒng)，Wedge計算代表形成的像，而Parallel計算代表所有可能的光。因此，它們之間的差異是雜散光。
展開 這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
為什么介質(zhì)或基板不支持干涉？這是一個系統(tǒng)問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應很小，但對它們所代表的相位變化有很大影響，因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當各種光線組合在一起時，干涉條紋會被沖掉，只留下總的輻照度。在單個設(shè)計文檔時，我們總是假設(shè)使用完全準直的單色光，其中入射角和波長變化的相應影響通常很小，可以忽略不計，從而在設(shè)計中存在完全相干效應。
圖1.基板足夠厚時，無需考慮干涉效應。如果考慮基板的干涉，要將基板看成一層薄膜，而整個系統(tǒng)看作一個膜系
另一個問題是，如果角度或波長的變化仍然較大，即使設(shè)計中的層也顯示出減少的干涉效應，那么會發(fā)生什么，什么叫做部分相干？此工具存在于Stack文檔中。計算參數(shù)包括光中缺少準直性（以圓錐半角表示）和缺少單色性（以光譜帶寬表示）的影響。這些在Design文檔中不可用（除非在Stack中設(shè)置，稍后將介紹）。
Stack中的第一列是標題為Medium Type，這里有兩種選擇：Parallel以及Wedge。透射或反射的光將由某種接收器收集，這種接收器在計算中假定為均勻靈敏度。此接收器可能無法收集在不同表面之間來回反射后最終出現(xiàn)的所有光束。兩種極端情況是收集所有光束，以便沒有丟失，這種情況稱為Parallel。另一個極端是它只收集從離它最近的表面反射一次的光束，這種情況被稱為Wedged。假設(shè)所有其他反射光束走出系統(tǒng)，在傳輸中，那么Wedge不收集反射光束。如果我們有成像系統(tǒng)，Wedge計算代表形成的像，而Parallel計算代表所有可能的光。因此，它們之間的差異是雜散光。
展開 這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
為什么介質(zhì)或基板不支持干涉？這是一個系統(tǒng)問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應很小，但對它們所代表的相位變化有很大影響，因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當各種光線組合在一起時，干涉條紋會被沖掉，只留下總的輻照度。在單個設(shè)計文檔時，我們總是假設(shè)使用完全準直的單色光，其中入射角和波長變化的相應影響通常很小，可以忽略不計，從而在設(shè)計中存在完全相干效應。
圖1.基板足夠厚時，無需考慮干涉效應。如果考慮基板的干涉，要將基板看成一層薄膜，而整個系統(tǒng)看作一個膜系
另一個問題是，如果角度或波長的變化仍然較大，即使設(shè)計中的層也顯示出減少的干涉效應，那么會發(fā)生什么，什么叫做部分相干？此工具存在于Stack文檔中。計算參數(shù)包括光中缺少準直性（以圓錐半角表示）和缺少單色性（以光譜帶寬表示）的影響。這些在Design文檔中不可用（除非在Stack中設(shè)置，稍后將介紹）。
Stack中的第一列是標題為Medium Type，這里有兩種選擇：Parallel以及Wedge。透射或反射的光將由某種接收器收集，這種接收器在計算中假定為均勻靈敏度。此接收器可能無法收集在不同表面之間來回反射后最終出現(xiàn)的所有光束。兩種極端情況是收集所有光束，以便沒有丟失，這種情況稱為Parallel。 另一個極端是它只收集從離它最近的表面反射一次的光束，這種情況被稱為Wedged。假設(shè)所有其他反射光束走出系統(tǒng)，在傳輸中，那么Wedge不收集反射光束。如果我們有成像系統(tǒng)，Wedge計算代表形成的像，而Parallel計算代表所有可能的光。因此，它們之間的差異是雜散光。
展開 這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
為什么介質(zhì)或基板不支持干涉？這是一個系統(tǒng)問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應很小，但對它們所代表的相位變化有很大影響，因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當各種光線組合在一起時，干涉條紋會被沖掉，只留下總的輻照度。在單個設(shè)計文檔時，我們總是假設(shè)使用完全準直的單色光，其中入射角和波長變化的相應影響通常很小，可以忽略不計，從而在設(shè)計中存在完全相干效應。
圖1.基板足夠厚時，無需考慮干涉效應。如果考慮基板的干涉，要將基板看成一層薄膜，而整個系統(tǒng)看作一個膜系
另一個問題是，如果角度或波長的變化仍然較大，即使設(shè)計中的層也顯示出減少的干涉效應，那么會發(fā)生什么，什么叫做部分相干？此工具存在于Stack文檔中。計算參數(shù)包括光中缺少準直性（以圓錐半角表示）和缺少單色性（以光譜帶寬表示）的影響。這些在Design文檔中不可用（除非在Stack中設(shè)置，稍后將介紹）。
Stack中的第一列是標題為Medium Type，這里有兩種選擇：Parallel以及Wedge。透射或反射的光將由某種接收器收集，這種接收器在計算中假定為均勻靈敏度。此接收器可能無法收集在不同表面之間來回反射后最終出現(xiàn)的所有光束。兩種極端情況是收集所有光束，以便沒有丟失，這種情況稱為Parallel。另一個極端是它只收集從離它最近的表面反射一次的光束，這種情況被稱為Wedged。假設(shè)所有其他反射光束走出系統(tǒng)，在傳輸中，那么Wedge不收集反射光束。如果我們有成像系統(tǒng)，Wedge計算代表形成的像，而Parallel計算代表所有可能的光。因此，它們之間的差異是雜散光。
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雙面鍍膜模擬的最新內(nèi)容
傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無限的，但其它介質(zhì)的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續(xù)支持完全一致性，即完全干涉。這通常是真實膜層和基底的情況
傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無限的，但其它介質(zhì)的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續(xù)支持完全一致性，即完全干涉。這通常是真實膜層和基底的情況
Macleod中雙面鍍膜的模擬10個月前
要使用此附加功能，請打開Design，然后在File菜單中選擇Display Setup。單擊Medium。設(shè)計文件的外觀如圖2所示，有兩個新的列，Medium Type和Medium Thickness，另外一種方法是在File菜單中選擇New-Stack。
一般來說
· 光學技術(shù)文章分享 ·
Essential Macleod
在光學設(shè)置中包含透鏡系統(tǒng)
傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（
Essential Macleod
在光學設(shè)置中包含透鏡系統(tǒng)
傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無限的，但其它介質(zhì)的厚度都是有限的
Essential Macleod
在光學設(shè)置中包含透鏡系統(tǒng)
傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無限的
Essential Macleod在光學設(shè)置中包含透鏡系統(tǒng)
傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無限的，但其它介質(zhì)的厚度都是有限的
傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無限的，但其它介質(zhì)的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續(xù)支持完全一致性，即完全干涉。這通常是真實膜層和基底的情況
Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無限的，但其它介質(zhì)的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續(xù)支持完全一致性，即完全干涉。這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
為什么介質(zhì)或基板不支持干涉？這是一個系統(tǒng)問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應很小
案例246.01：鍍膜正弦光柵中光衍射的精確模擬
這個案例演示了對于鍍膜光柵的嚴格模擬，它說明了鍍膜對所有反射級次的總反射效率的影響。
關(guān)鍵詞：嚴格分析，F(xiàn)MM，正弦光柵，鍍膜
所需工具箱子：光柵工具箱
相關(guān)案例：G.001a,Scenario 104.01
建模任務(wù)
加載例子文件‘246.01_Sinusoidal_Grating_with_Coating.lpd
