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傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計(jì)是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個(gè)面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開(kāi)，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無(wú)限的，但其它介質(zhì)的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續(xù)支持完全一致性，即完全干涉。

Essential Macleod在光學(xué)設(shè)置中包含透鏡系統(tǒng)傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計(jì)是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個(gè)面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開(kāi)，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。

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這通常是真實(shí)膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。為什么介質(zhì)或基板不支持干涉？這是一個(gè)系統(tǒng)問(wèn)題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來(lái)測(cè)量，因此路徑差異非常長(zhǎng)。入射角、波長(zhǎng)和厚度的微小變化，雖然對(duì)路徑差異的比例效應(yīng)很小，但對(duì)它們所代表的相位變化有很大影響，因?yàn)樵S多波長(zhǎng)都涉及到這些路徑差異。當(dāng)各種光線組合在一起時(shí)，干涉條紋會(huì)被沖掉，只留下總的輻照度。

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Essential Macleod反演工程對(duì)四層減反膜進(jìn)行分析有很多的過(guò)程可以被稱(chēng)之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術(shù)語(yǔ)的意思是用來(lái)識(shí)別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問(wèn)題”。這一過(guò)程類(lèi)似于優(yōu)化，在優(yōu)化過(guò)程中，將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化，以滿(mǎn)足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測(cè)量出來(lái)的、有問(wèn)題的膜層性能，但有的時(shí)候會(huì)有很復(fù)雜的情況。

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結(jié)果使用膜堆功能查看設(shè)計(jì)的光學(xué)薄膜雙面鍍膜后的光譜見(jiàn)圖10所示，滿(mǎn)足設(shè)計(jì)要求，設(shè)計(jì)合理。圖10 雙面鍍膜后的光譜

鍍膜是由任意層數(shù)、任意材料組成的，每一層材料都有各自的復(fù)折射率以及完整的色散模型。基板材料可以是玻璃、金屬也可以由使用者自己設(shè)置。OpticStudio可以直接從“The Essential Macleod”或“Film Star”軟件以及其他薄膜設(shè)計(jì)軟件中直接導(dǎo)入鍍膜定義。

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Simulator是Essential Macleod的新增功能, 可以幫助我們回答這個(gè)問(wèn)題。光學(xué)薄膜中的公差評(píng)定是個(gè)實(shí)際問(wèn)題。沒(méi)有一個(gè)好的、通用的分析技術(shù)。Essential Macleod里的一個(gè)簡(jiǎn)單工具－Errors, 假定所有膜層中的厚度誤差都是隨機(jī)的，能夠顯示在許多薄膜中獨(dú)立控制命令不可能精確，而用其它的方法確實(shí)能夠構(gòu)造這些薄膜。

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