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Essential Macleod在光學設置中包含透鏡系統傳統意義上，Essential Macleod的設計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質（或基底）分開，介質（或基底）由其材料和厚度定義。

Stack中，膜層被介質（或基底）分開，介質（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質和出射介質是半無限的，但其它介質的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續支持完全一致性，即完全干涉。這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。

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傳統意義上，Essential Macleod的設計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質（或基底）分開，介質（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質和出射介質是半無限的，但其它介質的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續支持完全一致性，即完全干涉。

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傳統意義上，Essential Macleod的設計是由一系列完全干涉的薄膜組成，并只在基板的一側形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質（或基底）分開，介質（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質和出射介質是半無限的，但其它介質的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續支持完全一致性，即完全干涉。

Stack中，膜層被介質（或基底）分開，介質（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質和出射介質是半無限的，但其它介質的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續支持完全一致性，即完全干涉。這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。為什么介質或基板不支持干涉？這是一個系統問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量，因此路徑差異非常長。

Essential Macleod反演工程對四層減反膜進行分析有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術語的意思是用來識別理想設計的和實際生產嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優化，在優化過程中，將初始設計進行優化，以滿足一組優化目標。優化的目標是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時候會有很復雜的情況。

結果使用膜堆功能查看設計的光學薄膜雙面鍍膜后的光譜見圖10所示，滿足設計要求，設計合理。圖10 雙面鍍膜后的光譜

鍍膜是由任意層數、任意材料組成的，每一層材料都有各自的復折射率以及完整的色散模型。基板材料可以是玻璃、金屬也可以由使用者自己設置。OpticStudio可以直接從“The Essential Macleod”或“Film Star”軟件以及其他薄膜設計軟件中直接導入鍍膜定義。

鍍膜是由任意層數、任意材料組成的，每一層材料都有各自的復折射率以及完整的色散模型。基板材料可以是玻璃、金屬也可以由使用者自己設置。OpticStudio可以直接從“The Essential Macleod”或“Film Star”軟件以及其他薄膜設計軟件中直接導入鍍膜定義。

有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術語的意思是用來識別理想設計的和實際生產嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優化，在優化過程中，將初始設計進行優化，以滿足一組優化目標。優化的目標是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時候會有很復雜的情況。

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Simulator是Essential Macleod的新增功能, 可以幫助我們回答這個問題。光學薄膜中的公差評定是個實際問題。沒有一個好的、通用的分析技術。Essential Macleod里的一個簡單工具－Errors, 假定所有膜層中的厚度誤差都是隨機的，能夠顯示在許多薄膜中獨立控制命令不可能精確，而用其它的方法確實能夠構造這些薄膜。