高NA物鏡矢量聚焦仿真的案例
高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析
摘要 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類(lèi)鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱(chēng)現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)?em>聚焦區(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。
2. 建模任務(wù)
3. 概述
? 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。
4. 光線追跡仿真 ? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。? 點(diǎn)擊“Go!”。? 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。? 點(diǎn)擊“Go!”。? 隨即獲得點(diǎn)列圖(2D光線追跡結(jié)果)。
5. 場(chǎng)追跡仿真
? 轉(zhuǎn)換到場(chǎng)追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。? 點(diǎn)擊“Go!”。
6. 場(chǎng)追跡結(jié)果(相機(jī)探測(cè)器) ? 上圖所示為僅通過(guò)疊加Ex和Ey場(chǎng)分量得到的強(qiáng)度分布。? 下圖所示為通過(guò)疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強(qiáng)度分布：由于在高NA條件下相對(duì)較大Ez分量，導(dǎo)致聚焦光斑明顯的失對(duì)稱(chēng)性。
7. 場(chǎng)追跡結(jié)果(電磁場(chǎng)探測(cè)器)? 利用電磁場(chǎng)探測(cè)器，我們可以獲得多有電磁場(chǎng)分量的結(jié)果
8. 文件信息
展開(kāi) 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析
摘要
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類(lèi)鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱(chēng)現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)?em>聚焦區(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。
2. 建模任務(wù)
3. 概述
? 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡
? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。
4. 光線追跡仿真
? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。
? 點(diǎn)擊“Go!”。
? 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。
? 點(diǎn)擊“Go!”。
? 隨即獲得點(diǎn)列圖(2D光線追跡結(jié)果)。
5. 場(chǎng)追跡仿真
? 轉(zhuǎn)換到場(chǎng)追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。
? 點(diǎn)擊“Go!”。
6. 場(chǎng)追跡結(jié)果(相機(jī)探測(cè)器)
? 上圖所示為僅通過(guò)疊加Ex和Ey場(chǎng)分量得到的強(qiáng)度分布。
? 下圖所示為通過(guò)疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強(qiáng)度分布：由于在高NA條件下相對(duì)較大Ez分量，導(dǎo)致聚焦光斑明顯的失對(duì)稱(chēng)性。
7. 場(chǎng)追跡結(jié)果(電磁場(chǎng)探測(cè)器)
? 利用電磁場(chǎng)探測(cè)器，我們可以獲得多有電磁場(chǎng)分量的結(jié)果
8.
展開(kāi) VirtualLab Fusion高NA物鏡聚焦的分析
摘要
高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱(chēng)焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶(hù)深入了解矢量效應(yīng)。
建模任務(wù)
概觀
光線追跡仿真
?首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。
?點(diǎn)擊Go！
?獲得3D光線追跡結(jié)果。
光線追跡仿真
?然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。
?單擊Go！
?結(jié)果，獲得點(diǎn)列圖（2D光線追跡結(jié)果）。
場(chǎng)追跡仿真
?切換到場(chǎng)追跡并選擇“第二代場(chǎng)追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。
?單擊Go！
場(chǎng)追跡結(jié)果（攝像機(jī)探測(cè)器）
?上圖只顯示整合了Ex和Ey場(chǎng)分量的強(qiáng)度。
?下圖顯示整合了Ex，Ey和Ez分量的強(qiáng)度。
Ez分量：由于在高NA情況下相對(duì)較大的Ez分量，可以看到明顯的不對(duì)稱(chēng)性。
場(chǎng)追跡結(jié)果（電磁場(chǎng)探測(cè)器）
?所有電磁場(chǎng)分量均使用電磁場(chǎng)探測(cè)器獲得。
文件信息
展開(kāi) [VirtualLab] 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析
摘要
高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類(lèi)鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱(chēng)現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)?em>聚焦區(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。
2. 建模任務(wù)
3. 概述
? 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡
? 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。
4. 光線追跡仿真
? 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。
? 點(diǎn)擊“Go!”。
? 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果
? 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。
? 點(diǎn)擊“Go!”。
? 隨即獲得點(diǎn)列圖(2D光線追跡結(jié)果)。
5. 場(chǎng)追跡仿真
? 轉(zhuǎn)換到場(chǎng)追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。
? 點(diǎn)擊“Go!”。
6. 場(chǎng)追跡結(jié)果(相機(jī)探測(cè)器)
? 上圖所示為僅通過(guò)疊加Ex和Ey場(chǎng)分量得到的強(qiáng)度分布。
? 下圖所示為通過(guò)疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強(qiáng)度分布：由于在高NA條件下相對(duì)較大Ez分量，導(dǎo)致聚焦光斑明顯的失對(duì)稱(chēng)性。
7. 場(chǎng)追跡結(jié)果(電磁場(chǎng)探測(cè)器)
? 利用電磁場(chǎng)探測(cè)器，我們可以獲得多有電磁場(chǎng)分量的結(jié)果
8.
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