、輻射亮度分布圖； 量化評估成像畸變、重影、視場角、光效、色彩均勻性及日光雜散光干擾等關鍵指標。

圖 2. 溫度條件示意圖 4、運行仿真。不同溫度下間隔器的變形和應力云圖如圖3所示。 圖 3. 不同溫度下的應力云圖 （a）23.85℃ 時的等效應力云圖 （b）51.85℃ 時的等效應力云圖 總結 本仿真演示了如何模擬由形狀記憶合金制成的脊柱間隔器。

仿真可幫助設計人員分析由衍射光學元件調制時的場分布、遠場方向圖和波前變化。 Ansys Lumerical套件、Ansys Speos軟件和Ansys Zemax OpticStudio軟件都可以對衍射光學元件進行仿真。在Lumerical套件中，可以使用FDTD和RCWA求解器對單個組件進行設計，而在OpticStudio軟件中，可以對DOE的性能進行分析。

我們可以基于預定義的模板預加載阻力系數、材料屬性和屈曲參數，從而簡化設置，并且在清晰的圖中可視化板屈曲和加勁肋檢查結果，其中，突出顯示的應力過載區域有助于進行快速調整，以滿足合規性要求。 此外，我們可以無縫地添加DNV標準。阻力系數和材料屬性已經過預加載，板屈曲和加固件的結果也在圖中清晰可見。

</u>所以四象限分析其實是在幫助我們判斷：澆排系統的放置是不是合理，受力是否均勻，模具是否存在局部風險。

傳統有限元分析通常采用各向同性塑性模型，通過宏觀應力–應變曲線描述材料響應。但實際金屬材料并不是“均勻黑箱”：晶粒取向、滑移系激活、織構演化都會影響局部塑性變形，尤其在薄壁管壓潰這類大變形、強局部化問題中，微觀結構可能對吸能行為產生重要影響。

傳統 CP-FEM 可以很好地描述晶粒取向、滑移系活動、應力應變不均勻性，但如果不額外加入某種長度尺度，它通常很難預測“晶粒越小、強度越高”的 Hall–Petch 效應。于是很多模型會選擇加入一個經驗項，比如 (K/sqrtgobyq3g)，這樣當然有效，但物理圖像多少有些不夠清楚：晶界到底是怎么影響位錯運動的？不同晶界為什么會產生不同的阻礙作用？滑移能不能從一個晶粒傳到另一個晶粒？

作者的初始數值模型： SEM實驗的斷口特征： 數值框架實現流程圖： 考慮梯度效應的影響效果: 結果表明，引入應變梯度效應后，局部應力水平明顯提高，材料在剪切區內的損傷演化也明顯加快。也就是說，尺寸效應并不只是讓材料“更強”，而是會改變局部變形與失效方式，使超薄板更容易在狹窄剪切帶內發生撕裂。

空間排布： 通過調整點過程參數，控制晶粒的密集程度與均勻性。 實時可視化預覽： 網頁右側提供 3D 實時渲染，調整左側參數后，模型形態即刻更新，真正實現“所見即所得”。 多格式導出： 生成的模型支持導出為坐標數據、拓撲連接信息等，方便后續導入 ABAQUS、ANSYS 或自編的有限元/晶體塑性（CPFEM）程序中。

▲ 圖7 在25°C下純冷卻液與不同體積分數納米流體的剪切應力與剪切速率的關系：（a）氧化銅與（b）氧化鋁 實驗數據清晰指出，無論添加何種納米金屬氧化物，在0.15%以下的極低摻量區間內，納米流體均保持了極為完美的牛頓流體力學特征——其剪切應力隨剪切速率呈現嚴格的線性單調增長。