面向設計早期，Discovery 幫你在幾何修改同時快速得到仿真反饋，極速迭代、快速收斂方案。

Report Designer的主要特性 靈活的布局控制：工程師可以設計自定義報告布局，修改頁眉、頁腳、頁邊距和字體，以符合項目標準。Report Designer提供了基于表格的布局，其中可以調整行、列和跨度，以直觀地從功能上組織內容。 包含基本項目數據：工程師可以根據監管或客戶特定文檔要求，整合模型描述、識別的單元、載荷摘要和標準圖。

Zemax OpticStudio 的版本必須為 Ansys Zemax OpticStudio Premium 或 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise。不支持 Legacy Zemax OpticStudio。Lease 和 Paid-Up 兩類 Ansys Zemax 許可證均可用于使用該工具。

多格式導出： 生成的模型支持導出為坐標數據、拓撲連接信息等，方便后續導入 ABAQUS、ANSYS 或自編的有限元/晶體塑性（CPFEM）程序中。 【操作流程：三步搞定】 第一步：設定全局參數。 在左側面板選擇晶粒總數及 RVE 尺寸。 第二步：精修幾何特征。 調整權重系數（Weights）和偏度，生成不規則或特定分布的晶粒形狀。 第三步：導出與應用。

對于大多數的裝配體來說，模型修改成有限元可以接受的程度，考慮性能計算時間比，那么模型和網格部分占比就很大。例如汽車整體碰撞模擬、飛機整體碰撞模擬，其模型和網格劃分占比接近90%，相當花費時間。 如果AI集成到CAE軟件中，你告訴他給我劃分一個漂亮的網格，他自己給你搞定，那么AI就完美了，顯然，目前的AI是不可能的。

3.請修改第7行，根據STACK中計算的入射角選擇合適的源（例如，在使用本文提供的JSON文件時，對于垂直入射應使用0°）。如有必要，請調整第9行以選擇STACK中計算的采樣數據。 4.執行腳本。 該腳本會輸出反射偏振片在指定入射角下的反射率和透射率隨波長變化的曲線。

核心原理：不變光柵結構，調控掩模填充因子 與傳統方案通過修改光柵結構實現衍射效率分布調控不同，隨機掩模光柵的核心創新點在于：保持單個光柵的結構不變，通過調整掩模的填充因子（光柵結構存在概率，PGS）實現等效衍射效率的精準調控。 隨機掩模光柵被劃分為眾多方形單元，每個單元中光柵結構的存在與否呈隨機分布，而整個光柵的物理結構保持一致。

結果體驗 GPU仿真報告： - 錯誤報告 - 顯存峰值使用率 GPU加速–相機仿真重新平衡 光學部件設計 光導–混合模式下控制最大棱鏡高度(Ansys Speos) 自由曲面透鏡–銳利截止(Ansys Speos) 全內反射透鏡–基于光軸定義(Ansys Speos) 同時修改多個參數(Ansys Speos) OS/OL

8.調整Layer Builder窗口中的Background Geometry和GDS Pattern Reference Frame，以重新定位和修改導入的3D結構。

傳統的熱設計方法（ “設計-試制-測試-修改”的串行模式）耗時漫長、成本高昂，難以洞察器件內部的詳細熱流分布。