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關(guān)注創(chuàng)建者:王靖雯 創(chuàng)建時(shí)間:2023-03-07

ansys干涉檢查的實(shí)例教程
但是劃分網(wǎng)格提示有干涉二網(wǎng)格劃分失敗:
但是在干涉檢查中,卻沒(méi)有干涉。
這是哪里出現(xiàn)了問(wèn)題呢?檢查模型可以發(fā)現(xiàn),零部件中由焊件建立,出現(xiàn)是多實(shí)體的零部件。裝配體的干涉檢查中,默認(rèn)僅檢查零部件之間的干涉,要不零部件之間的多實(shí)體也包括在內(nèi)的話,需要在“干涉檢查”命令中勾選“包括多體零件干涉”。
打開(kāi)有干涉的零部件再仔細(xì)確認(rèn)問(wèn)題的所在---多實(shí)體出在干涉。修改模型即可成功劃分網(wǎng)格。
在做網(wǎng)格劃分的時(shí)候,建議把多實(shí)體的零件干涉也考慮在內(nèi),避免漏掉出現(xiàn)模型有干涉而無(wú)法劃分網(wǎng)格,但干涉檢查卻沒(méi)有干涉問(wèn)題。
展開(kāi) SOLIDWORKS參數(shù)化設(shè)計(jì)的思路和技巧我們講過(guò)很多了,今天來(lái)講一講如何在模型完成之后自動(dòng)執(zhí)行干涉檢查。
SOLIDWORKS軟件本身就有干涉檢查的功能,在評(píng)估選項(xiàng)卡里可以找到該功能,我們這里說(shuō)的干涉檢查指的是靜態(tài)干涉檢查,即模型在靜止時(shí),零件之間是否有干涉存在,我們參數(shù)化完成之后,也是直接調(diào)用該功能來(lái)進(jìn)行干涉檢查的。
SolidKits.AutoWorks軟件的設(shè)置中有開(kāi)啟干涉檢查的開(kāi)關(guān),見(jiàn)下圖。
勾選該選項(xiàng)之后,參數(shù)化模型更新完成之后就會(huì)自動(dòng)運(yùn)行干涉檢查,若SOLIDWORKS版本為2022及以上,還可以直接輸出干涉報(bào)告。
默認(rèn)情況下,是對(duì)整個(gè)裝配體進(jìn)行干涉檢查,那如果只想針對(duì)個(gè)別零件進(jìn)行干涉檢查,就需要在參數(shù)表中指定,哪些零件之間要進(jìn)行干涉檢查,標(biāo)記的方法也很簡(jiǎn)單,只需要在該零件對(duì)應(yīng)的選項(xiàng)單元格中輸入{INTERFER=1}即可。
SolidKits.AutoWorks是一款設(shè)計(jì)自動(dòng)化軟件,其核心是參數(shù)化設(shè)計(jì)工具。使用者僅僅通過(guò)輸入任務(wù)參數(shù),即可自動(dòng)完成整個(gè)設(shè)計(jì)改型流程的所有工作任務(wù),生成圖紙、BOM等完整交付物,而且可以與其他系統(tǒng)進(jìn)行集成,比如PDM/ERP/MES等。
展開(kāi) 設(shè)計(jì)師盡量保證模具的合理性,通過(guò)檢查、杜絕常見(jiàn)易忽略問(wèn)題的發(fā)生。
零基礎(chǔ)到模具設(shè)計(jì)精英 專業(yè)在線教學(xué) 更多學(xué)習(xí)資料加奉先老師QQ487209997 微信同號(hào)
說(shuō)明
本示例演示通過(guò)1×2端口多模干涉(MMI)耦合器計(jì)算寬帶傳輸和光損耗,并使用S參數(shù)在 INTERCONNECT 中創(chuàng)建 MMI 的緊湊模型。(聯(lián)系我們獲取文章附件)
綜述
低損耗光耦合器和光分路器是基于 Mach-Zehnder 的光調(diào)制器的基本組件,是集成電路的關(guān)鍵組成部分。通過(guò)在輸入和輸出波導(dǎo)處使用 taper 以確保輸入和輸出波導(dǎo)的模式與干涉區(qū)域之間的良好匹配,可以將損耗降至最低。EME 求解器非常適合表征這些器件,本例中的器件針對(duì)TE模式進(jìn)行了優(yōu)化,但該方法可以擴(kuò)展到任何設(shè)計(jì)和極化。
運(yùn)行和結(jié)果
第1步:優(yōu)化 MMI 幾何結(jié)構(gòu)
使用EME運(yùn)行一系列參數(shù)掃描以優(yōu)化 MMI 性能。
· 模式收斂掃描
確保每個(gè)單元格中的模式數(shù)量足以給出準(zhǔn)確的結(jié)果,模式收斂掃描是確保仿真結(jié)果可靠的重要部分,應(yīng)作為 EME 仿真文件初始設(shè)置的一部分來(lái)完成。下圖顯示輸出端口的傳輸結(jié)果收斂于約15種模式,稍大的值用于確保模式數(shù)量足以滿足本示例中使用的其他掃描(如波長(zhǎng)、纖芯長(zhǎng)度和錐形寬度)。右圖為從 field_profile 監(jiān)視器獲得的電場(chǎng)強(qiáng)度。
· 波長(zhǎng)掃描
EME 是一種單頻求解器,參數(shù)掃描是獲得寬頻結(jié)果所必需的。將波長(zhǎng)掃描設(shè)置為1.5~1.6 μm,具有100個(gè)波長(zhǎng)點(diǎn),按波長(zhǎng)掃描。波長(zhǎng)掃描選項(xiàng)卡返回S矩陣,然后可以根據(jù)S矩陣的S21元素計(jì)算從端口1通過(guò)端口2的基本TE模式傳輸。下圖顯示了使用EME分析窗口中的波長(zhǎng)掃描功能獲得的1.1 μm taper 寬度的 MMI 傳輸與波長(zhǎng)的函數(shù)關(guān)系 。
· 纖芯長(zhǎng)度掃描
確定纖芯的最佳長(zhǎng)度。涉及改變區(qū)域長(zhǎng)度的掃描非常適合EME求解器,因?yàn)閹缀蹩梢粤⒓传@得結(jié)果,下圖顯示了作為纖芯長(zhǎng)度函數(shù)的傳輸。
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說(shuō)明
本示例演示通過(guò)1×2端口多模干涉(MMI)耦合器計(jì)算寬帶傳輸和光損耗,并使用S參數(shù)在 INTERCONNECT 中創(chuàng)建 MMI 的緊湊模型。
綜述
低損耗光耦合器和光分路器是基于 Mach-Zehnder 的光調(diào)制器的基本組件,是集成電路的關(guān)鍵組成部分。通過(guò)在輸入和輸出波導(dǎo)處使用 taper 以確保輸入和輸出波導(dǎo)的模式與干涉區(qū)域之間的良好匹配,可以將損耗降至最低。EME 求解器非常適合表征這些器件,本例中的器件針對(duì)TE模式進(jìn)行了優(yōu)化,但該方法可以擴(kuò)展到任何設(shè)計(jì)和極化。
運(yùn)行和結(jié)果
第1步:優(yōu)化 MMI 幾何結(jié)構(gòu)
使用EME運(yùn)行一系列參數(shù)掃描以優(yōu)化 MMI 性能。
模式收斂掃描
確保每個(gè)單元格中的模式數(shù)量足以給出準(zhǔn)確的結(jié)果,模式收斂掃描是確保仿真結(jié)果可靠的重要部分,應(yīng)作為 EME 仿真文件初始設(shè)置的一部分來(lái)完成。下圖顯示輸出端口的傳輸結(jié)果收斂于約15種模式,稍大的值用于確保模式數(shù)量足以滿足本示例中使用的其他掃描(如波長(zhǎng)、纖芯長(zhǎng)度和錐形寬度)。右圖為從 field_profile 監(jiān)視器獲得的電場(chǎng)強(qiáng)度。
波長(zhǎng)掃描
EME 是一種單頻求解器,參數(shù)掃描是獲得寬頻結(jié)果所必需的。將波長(zhǎng)掃描設(shè)置為1.5~1.6 μm,具有100個(gè)波長(zhǎng)點(diǎn),按波長(zhǎng)掃描。波長(zhǎng)掃描選項(xiàng)卡返回S矩陣,然后可以根據(jù)S矩陣的S21元素計(jì)算從端口1通過(guò)端口2的基本TE模式傳輸。下圖顯示了使用EME分析窗口中的波長(zhǎng)掃描功能獲得的1.1 μm taper 寬度的 MMI 傳輸與波長(zhǎng)的函數(shù)關(guān)系 。
纖芯長(zhǎng)度掃描
確定纖芯的最佳長(zhǎng)度。涉及改變區(qū)域長(zhǎng)度的掃描非常適合EME求解器,因?yàn)閹缀蹩梢粤⒓传@得結(jié)果,下圖顯示了作為纖芯長(zhǎng)度函數(shù)的傳輸。
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表面的干涉儀數(shù)據(jù)包含不規(guī)則度的相關(guān)信息,包括旋轉(zhuǎn)對(duì)稱不規(guī)則性 (RSI)、用于確定中空間頻率的斜率誤差以及其他表面形狀制造誤差。這些制造誤差取決于在球面或非球面上進(jìn)行的拋光類型,可以是傳統(tǒng)的瀝青拋光、高速拋光以及磁流變拋光 (MRF)。由于很難使用 Zernike 項(xiàng)來(lái)模擬所有這些類型的表面形狀變化,因此確定表面誤差如何影響整體系統(tǒng)級(jí)性能的最佳方法是在 OpticStudio
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表面的干涉儀數(shù)據(jù)包含不規(guī)則度的相關(guān)信息,包括旋轉(zhuǎn)對(duì)稱不規(guī)則性 (RSI)、用于確定中空間頻率的斜率誤差以及其他表面形狀制造誤差。這些制造誤差取決于在球面或非球面上進(jìn)行的拋光類型,可以是傳統(tǒng)的瀝青拋光、高速拋光以及磁流變拋光 (MRF)。由于很難使用 Zernike 項(xiàng)來(lái)模擬所有這些類型的表面形狀變化,因此確定表面誤差如何影響整體系統(tǒng)級(jí)性能的最佳方法是在 OpticStudio
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概述
這篇文章旨在介紹楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)背后的理論知識(shí),并在OpticStudio中用幾何光線追跡模擬該實(shí)驗(yàn),最后比較理論和模擬的結(jié)果。
簡(jiǎn)介
楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)是物理學(xué)中最著名的實(shí)驗(yàn)之一。這個(gè)實(shí)驗(yàn)通過(guò)展示光從點(diǎn)光源到干涉圖樣的變化,揭示了光的波動(dòng)特性。楊氏實(shí)驗(yàn)的結(jié)果可以定性地解釋為條紋圖,也可以定量地解釋為相干因子(作為為光源寬度的函數(shù)
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本示例演示通過(guò)1×2端口多模干涉(MMI)耦合器計(jì)算寬帶傳輸和光損耗,并使用S參數(shù)在 INTERCONNECT 中創(chuàng)建 MMI 的緊湊模型。
綜述
低損耗光耦合器和光分路器是基于 Mach-Zehnder 的光調(diào)制器的基本組件,是集成電路的關(guān)鍵組成部分。通過(guò)在輸入和輸出波導(dǎo)處使用 taper 以確保輸入和輸出波導(dǎo)的模式與干涉區(qū)域之間的良好匹配
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表面的干涉儀數(shù)據(jù)包含不規(guī)則度的相關(guān)信息,包括旋轉(zhuǎn)對(duì)稱不規(guī)則性 (RSI)、用于確定中空間頻率的斜率誤差以及其他表面形狀制造誤差。這些制造誤差取決于在球面或非球面上進(jìn)行的拋光類型,可以是傳統(tǒng)的瀝青拋光、高速拋光以及磁流變拋光 (MRF)。由于很難使用 Zernike 項(xiàng)來(lái)模擬所有這些類型的表面形狀變化,因此確定表面誤差如何影響整體系統(tǒng)級(jí)性能的最佳方法是在 OpticStudio
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在ANSYS經(jīng)典界面下,是沒(méi)有單位的概念的,簡(jiǎn)言之需要讀者自行定義協(xié)調(diào)的單位制,那么在用外部建模軟件建好模型后,我怎么知道模型的尺度在當(dāng)前ansys軟件中是多少呢
①用check geometry命令,選中模型任意兩點(diǎn),就可以測(cè)量出長(zhǎng)度,對(duì)此就可以使用scale命令對(duì)模型進(jìn)行縮放來(lái)調(diào)整模型尺度
②在LSPP中使用measure命令,直接量取模型網(wǎng)格任意兩節(jié)點(diǎn)的距離來(lái)判斷
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