ansys干涉檢查的案例
如何解決：模型有干涉而無法劃分網格，但干涉檢查卻沒有干涉問題
但是劃分網格提示有干涉二網格劃分失敗：
但是在干涉檢查中，卻沒有干涉。
這是哪里出現了問題呢？檢查模型可以發現，零部件中由焊件建立，出現是多實體的零部件。裝配體的干涉檢查中，默認僅檢查零部件之間的干涉，要不零部件之間的多實體也包括在內的話，需要在“干涉檢查”命令中勾選“包括多體零件干涉”。
打開有干涉的零部件再仔細確認問題的所在---多實體出在干涉。修改模型即可成功劃分網格。
在做網格劃分的時候，建議把多實體的零件干涉也考慮在內，避免漏掉出現模型有干涉而無法劃分網格，但干涉檢查卻沒有干涉問題。
展開 SOLIDWORKS參數化設計之干涉檢查
SOLIDWORKS參數化設計的思路和技巧我們講過很多了，今天來講一講如何在模型完成之后自動執行干涉檢查。
SOLIDWORKS軟件本身就有干涉檢查的功能，在評估選項卡里可以找到該功能，我們這里說的干涉檢查指的是靜態干涉檢查，即模型在靜止時，零件之間是否有干涉存在，我們參數化完成之后，也是直接調用該功能來進行干涉檢查的。
SolidKits.AutoWorks軟件的設置中有開啟干涉檢查的開關，見下圖。
勾選該選項之后，參數化模型更新完成之后就會自動運行干涉檢查，若SOLIDWORKS版本為2022及以上，還可以直接輸出干涉報告。
默認情況下，是對整個裝配體進行干涉檢查，那如果只想針對個別零件進行干涉檢查，就需要在參數表中指定，哪些零件之間要進行干涉檢查，標記的方法也很簡單，只需要在該零件對應的選項單元格中輸入{INTERFER=1}即可。
SolidKits.AutoWorks是一款設計自動化軟件，其核心是參數化設計工具。使用者僅僅通過輸入任務參數，即可自動完成整個設計改型流程的所有工作任務，生成圖紙、BOM等完整交付物，而且可以與其他系統進行集成，比如PDM/ERP/MES等。
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Ansys Lumerical | 針對多模干涉耦合器的仿真設計與優化
說明
本示例演示通過1×2端口多模干涉(MMI)耦合器計算寬帶傳輸和光損耗，并使用S參數在 INTERCONNECT 中創建 MMI 的緊湊模型。(聯系我們獲取文章附件)
綜述
低損耗光耦合器和光分路器是基于 Mach-Zehnder 的光調制器的基本組件，是集成電路的關鍵組成部分。通過在輸入和輸出波導處使用 taper 以確保輸入和輸出波導的模式與干涉區域之間的良好匹配，可以將損耗降至最低。EME 求解器非常適合表征這些器件，本例中的器件針對TE模式進行了優化，但該方法可以擴展到任何設計和極化。
運行和結果
第1步：優化 MMI 幾何結構
使用EME運行一系列參數掃描以優化 MMI 性能。
· 模式收斂掃描
確保每個單元格中的模式數量足以給出準確的結果，模式收斂掃描是確保仿真結果可靠的重要部分，應作為 EME 仿真文件初始設置的一部分來完成。下圖顯示輸出端口的傳輸結果收斂于約15種模式，稍大的值用于確保模式數量足以滿足本示例中使用的其他掃描（如波長、纖芯長度和錐形寬度）。右圖為從 field_profile 監視器獲得的電場強度。
· 波長掃描
EME 是一種單頻求解器，參數掃描是獲得寬頻結果所必需的。將波長掃描設置為1.5~1.6 μm，具有100個波長點，按波長掃描。波長掃描選項卡返回S矩陣，然后可以根據S矩陣的S21元素計算從端口1通過端口2的基本TE模式傳輸。下圖顯示了使用EME分析窗口中的波長掃描功能獲得的1.1 μm taper 寬度的 MMI 傳輸與波長的函數關系 。
· 纖芯長度掃描
確定纖芯的最佳長度。涉及改變區域長度的掃描非常適合EME求解器，因為幾乎可以立即獲得結果，下圖顯示了作為纖芯長度函數的傳輸。
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Ansys Lumerical | 針對多模干涉耦合器的仿真設計與優化
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說明
本示例演示通過1×2端口多模干涉(MMI)耦合器計算寬帶傳輸和光損耗，并使用S參數在 INTERCONNECT 中創建 MMI 的緊湊模型。
綜述
低損耗光耦合器和光分路器是基于 Mach-Zehnder 的光調制器的基本組件，是集成電路的關鍵組成部分。通過在輸入和輸出波導處使用 taper 以確保輸入和輸出波導的模式與干涉區域之間的良好匹配，可以將損耗降至最低。EME 求解器非常適合表征這些器件，本例中的器件針對TE模式進行了優化，但該方法可以擴展到任何設計和極化。
運行和結果
第1步：優化 MMI 幾何結構
使用EME運行一系列參數掃描以優化 MMI 性能。
模式收斂掃描
確保每個單元格中的模式數量足以給出準確的結果，模式收斂掃描是確保仿真結果可靠的重要部分，應作為 EME 仿真文件初始設置的一部分來完成。下圖顯示輸出端口的傳輸結果收斂于約15種模式，稍大的值用于確保模式數量足以滿足本示例中使用的其他掃描（如波長、纖芯長度和錐形寬度）。右圖為從 field_profile 監視器獲得的電場強度。
波長掃描
EME 是一種單頻求解器，參數掃描是獲得寬頻結果所必需的。將波長掃描設置為1.5~1.6 μm，具有100個波長點，按波長掃描。波長掃描選項卡返回S矩陣，然后可以根據S矩陣的S21元素計算從端口1通過端口2的基本TE模式傳輸。下圖顯示了使用EME分析窗口中的波長掃描功能獲得的1.1 μm taper 寬度的 MMI 傳輸與波長的函數關系 。
纖芯長度掃描
確定纖芯的最佳長度。涉及改變區域長度的掃描非常適合EME求解器，因為幾乎可以立即獲得結果，下圖顯示了作為纖芯長度函數的傳輸。
展開 Ansys Zemax | 在OpticStudio中通過幾何光線追跡來模擬楊氏雙縫干涉實驗
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概述
這篇文章旨在介紹楊氏雙縫干涉實驗背后的理論知識，并在OpticStudio中用幾何光線追跡模擬該實驗，最后比較理論和模擬的結果。
簡介
楊氏雙縫干涉實驗是物理學中最著名的實驗之一。這個實驗通過展示光從點光源到干涉圖樣的變化，揭示了光的波動特性。楊氏實驗的結果可以定性地解釋為條紋圖，也可以定量地解釋為相干因子（作為為光源寬度的函數）。兩種理論都會在本文中詳細分析。
本文將討論雙縫實驗背后的理論，并在OpticStudio的非序列模式下對該實驗進行精確建模。
楊氏雙縫干涉實驗
楊氏雙縫干涉衍射實驗是描述空間相干性在干涉條紋形成中所起到的作用的經典裝置。總體布局如下圖所示：
在觀察面上形成的條紋圖案取決于照亮縫隙面的光的空間相干性、雙縫之間分隔的距離以及從縫隙面到觀察面上的傳播距離。雖然將嚴謹的統計數學應用到這個問題上看似艱巨，但一旦認識到觀察到的干涉圖樣只是來自不同點光源的基礎條紋的總和 [Ref. 1, Section 5.2.1] ，擴展光源形成的條紋圖樣實際上是相當明確的。這里我們考慮光源非相干的情況，即光源上的任意兩點以一種不相干的方式隨機輻射，比如熱白熾燈就是非相干光源。
在OpticStudio的非序列模式中，使用幾何光線追跡和表面散射及散射光線的 “重點采樣(Importance Sampling) ”，就可以很好地模擬這種裝置。在觀測面上的基礎條紋圖案是由擴展光源上的每個點形成的，而在OpticStudio中，這種條紋圖案是通過使用矩形探測器對光線進行相干探測來發現的。對基礎條紋圖案的集合（從整個光源的采樣點得到）按強度進行求和，得到合成的條紋圖。
展開 Ansys Zemax | 在 OpticStudio 中將干涉儀數據附加到光學表面 – 第二部分
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表面的干涉儀數據包含不規則度的相關信息，包括旋轉對稱不規則性 (RSI)、用于確定中空間頻率的斜率誤差以及其他表面形狀制造誤差。這些制造誤差取決于在球面或非球面上進行的拋光類型，可以是傳統的瀝青拋光、高速拋光以及磁流變拋光 (MRF)。由于很難使用 Zernike 項來模擬所有這些類型的表面形狀變化，因此確定表面誤差如何影響整體系統級性能的最佳方法是在 OpticStudio 中將測得的干涉儀數據直接鏈接到光學表面。
在第一部分文章：《Ansys Zemax | 在 OpticStudio 中將干涉儀數據附加到光學表面 – 第一部分中》，我們演示了如何根據表面形狀和方向將干涉測量數據導入 OpticStudio，本部分文章我們將引入更多的實例演示。
雙凸透鏡
作為實際演示案例，讓我們使用與之前相同的規格對雙凸透鏡進行建模：
通光孔徑：25.85 mm
半徑：111.9837 mm [注：半徑在 Zygo 生成的XXX.DAT數據文件中標明]
峰谷波前誤差：0.433 waves，RMS 波前誤差：0.084 waves，測試波長 632.8 nm
為了驗證我們可以附加 OpticStudio 生成的 YYY.DAT 文件至鏡頭的前表面，并針對鏡頭后表面使用倒置和翻轉數據文件，我們創建了一個鏡頭系統。鏡頭中名義雙凸透鏡與導入數據透鏡一起完美地聚焦準直入射光束，而不會產生殘余波前誤差。我們使用多重結構系統，其中第一個結構包含名義雙凸透鏡，而第二個結構添加了干涉測量結果。
與以前類似，光圈類型設置為按光闌尺寸浮動，但光闌表面是具有 25.85 mm半直徑的虛擬表面，位于雙凸透鏡前 5 mm處。
展開 Ansys Zemax | 在 OpticStudio 中將干涉儀數據附加到光學表面 – 第一部分
讓我們在 Wavefront Map 上仔細檢查一下。
正如預期的那樣，在雙通道仿真設置中，峰谷（0.8686 waves）和 RMS（0.1617 waves）波前誤差的數值是測量時報告的兩倍。波前映射的形狀似乎是倒置的，在中心顯示谷值而不是峰值，這是因為在 OpticStudio 中，波前誤差被定義為主光線和光瞳光線之間的光程差。這可以解釋為沿光線傳播方向查看波前，因此在這種情況下，從鏡子向圖像平面看。這與 Zygo 從源到鏡子的觀察方式相反，因此這解釋了波前形狀的翻轉。
根據凸鏡的第一個實驗，我們可以得出結論，OpticStudio 生成了 YYY.DAT 數據文件可以直接附加到表面模型，定性和定量結果都與預期非常吻合。
小結
我們通過上述方式介紹了如何將Zygo表面測量的干涉儀數據導入至OpticStudio中作為表面進行建模，并通過一個理想示意系統驗證了該方法的可行性。本文為該系列文章的第一篇，后續文章我們將利用一些更為實際的系統，進行更加全面的嘗試和介紹。
展開 ANSYS官方 | PCB電磁兼容設計規則檢查與仿真驗證
ANSYS官方將特別推出一系列ANSYS網絡研討會，不僅包含ANSYS 2019 R3 新版本功能介紹，同時也包括最新的行業熱點解決方案，ANSYS將與各位深入探討行業熱點趨勢，諸如無人駕駛、PCB結構可靠性、天線設計、數字孿生等等。
報名本系列課程，聯系微信客服jishulink555，可免費贏取ANSYS官方定制真空保溫杯、小夜燈、餐具套裝、手機支架、話費等精美紀念品！此外，在此系列網絡研討會結束后，ANSYS將官方抽取1名幸運者，TA將獲得華為最新發布的Mate 30 1臺（報名多場幾率疊加）！
本期研討會：《PCB電磁兼容設計規則檢查與仿真驗證》將于1月8日 20:00-21:00舉辦。
直播主題
PCB電磁兼容設計規則檢查與仿真驗證
日期/時間
2020年1月8日
20:00 – 21:00
課程受眾
Layout工程師、硬件工程師、SI工程師、EMC工程師、測試工程師等相關人士
講師簡介
張偉，ANSYS高級應用工程師。
在電磁電路仿真分析領域從業十二年，作為SI/PI/EMC仿真軟件專家，具備豐富的SI/PI/EMC仿真分析經驗。
展開 關于ANSYS/lsdyna仿真軟件中檢查模型尺寸的幾種方法
在ANSYS經典界面下，是沒有單位的概念的，簡言之需要讀者自行定義協調的單位制，那么在用外部建模軟件建好模型后，我怎么知道模型的尺度在當前ansys軟件中是多少呢
①用check geometry命令，選中模型任意兩點，就可以測量出長度，對此就可以使用scale命令對模型進行縮放來調整模型尺度
②在LSPP中使用measure命令，直接量取模型網格任意兩節點的距離來判斷
Ansys Zemax | 在 OpticStudio 中將干涉儀數據附加到光學表面 – 第一部分
現在，我們可以檢查表面矢高圖，以驗證鏡子的形狀。為了最好地可視化較小的制造誤差，請將 Remove 選項設置為 Base Radius，以從當前矢高中減去基礎曲率半徑，并僅報告差異。正如預期的那樣，根據測量結果，表面矢高圖在表面中心顯示一個峰值。這意味著從定性的角度來看，Zygo 測量和 OpticStudio 模擬方法之間的數據匹配。
為了對結果進行數值驗證，除了定性分析之外，我們還可以使用 Wavefront Map 工具。由于這是一個模擬干涉儀如何測量表面形狀的雙通道模型，因此我們預計峰谷（0.433 waves）和 RMS（0.084 waves）波前誤差將與測量值相比翻倍，因為測量結果報告為透射。讓我們在 Wavefront Map 上仔細檢查一下。
正如預期的那樣，在雙通道仿真設置中，峰谷（0.8686 waves）和 RMS（0.1617 waves）波前誤差的數值是測量時報告的兩倍。波前映射的形狀似乎是倒置的，在中心顯示谷值而不是峰值，這是因為在 OpticStudio 中，波前誤差被定義為主光線和光瞳光線之間的光程差。這可以解釋為沿光線傳播方向查看波前，因此在這種情況下，從鏡子向圖像平面看。這與 Zygo 從源到鏡子的觀察方式相反，因此這解釋了波前形狀的翻轉。
根據凸鏡的第一個實驗，我們可以得出結論，OpticStudio 生成了 YYY.DAT 數據文件可以直接附加到表面模型，定性和定量結果都與預期非常吻合。
小結
我們通過上述方式介紹了如何將Zygo表面測量的干涉儀數據導入至OpticStudio中作為表面進行建模，并通過一個理想示意系統驗證了該方法的可行性。本文為該系列文章的第一篇，后續文章我們將利用一些更為實際的系統，進行更加全面的嘗試和介紹。
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本期研討會：《PCB電磁兼容設計規則檢查與仿真驗證》將于1月8日 20:00-21:00舉辦。
直播主題
PCB電磁兼容設計規則檢查與仿真驗證
日期/時間
2020年1月3日
20:00 – 21:00
課程受眾
Layout工程師、硬件工程師、SI工程師、EMC工程師、測試工程師等相關人士
講師簡介
張偉，ANSYS高級應用工程師。
在電磁電路仿真分析領域從業十二年，作為SI/PI/EMC仿真軟件專家，具備豐富的SI/PI/EMC仿真分析經驗。
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